JP2007134450A - 半導体製造方法及び半導体製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】熱処理装置におけるキズ・ダストの発生を抑え、歩留りを向上させることが可能な半導体製造方法及び半導体製造装置を提供する。
【解決手段】ウェーハを熱処理装置に搬入する工程と、前記ウェーハを、前記熱処理装置内に、非接触で保持しながら昇温する工程と、前記ウェーハを熱処理する工程と、前記ウェーハを、前記熱処理装置内で、非接触で保持しながら降温する工程を備える。
【選択図】図1
【解決手段】ウェーハを熱処理装置に搬入する工程と、前記ウェーハを、前記熱処理装置内に、非接触で保持しながら昇温する工程と、前記ウェーハを熱処理する工程と、前記ウェーハを、前記熱処理装置内で、非接触で保持しながら降温する工程を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えば半導体ウェーハの成膜、酸化・拡散処理などの熱処理工程を改善した半導体製造方法及び半導体製造装置に関する。
従来より、半導体装置の製造工程において、搬送時におけるキズやダストの発生が問題となっている。例えば、ウェーハの搬入・搬出時に裏面が擦れることにより、ウェーハの裏面にキズが発生し、後工程の熱処理によりウェーハにスリップを生じさせるとともに、ウェーハ割れなどの要因となっていた。このような問題について、種々の対策が提案されている(例えば特許文献1参照)が、近年の半導体素子の微細化に伴い、これまで問題とならなかった小さなキズやダストによる影響が顕在化し、さらなる対策が必要となってきた。
例えば、縦型バッチタイプの熱CVD装置又は酸化・拡散装置において、半導体ウェーハの熱処理を行なう際、ボートのウェーハ支持材にウェーハを保持し、これを炉内に搬入し、昇温する。そして、所定温度(例えば800℃)に保持した後、降温し、ボートを搬出する。このとき、ウェーハとウェーハ支持材との熱膨張率の差により、ウェーハ裏面とウェーハ支持材の接触面がわずかに擦れることから、キズが発生してしまう。さらに、このようなキズにより発生したダストが、下段のウェーハ上に落下することにより、電気的特性不良などの要因となる。
特開平10−273391号公報
本発明は、熱処理装置におけるキズ・ダストの発生を抑え、歩留りを向上させることが可能な半導体製造方法及び半導体製造装置を提供することを目的とするものである。
本発明の一態様によれば、ウェーハを熱処理装置に搬入する工程と、前記ウェーハを、前記熱処理装置内に、非接触で保持しながら昇温する工程と、前記ウェーハを熱処理する工程と、前記ウェーハを、前記熱処理装置内で、非接触で保持しながら降温する工程を備えることを特徴とする半導体製造方法が提供される。
また、本発明の一態様によれば、ウェーハが搬入されるチャンバーと、前記チャンバー内でウェーハを加熱する加熱手段と、前記ウェーハを前記チャンバー内の所定位置で支持する支持手段と、前記ウェーハを前記支持手段に対して非接触となるように浮上させるウェーハ浮上手段を備えることを特徴とする半導体製造装置が提供される。
本発明の一実施態様によれば、熱処理装置におけるキズ・ダストの発生を抑え、歩留りを向上させることが可能となる。
以下本発明の実施形態について、図を参照して説明する。
(実施形態1)
図1に、本実施形態の縦型バッチ式熱CVD装置を示す。図に示すように、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えた炉1内に、例えば石英からなるボート2が設置されている。ボート2には、ウェーハ支持手段であるウェーハ支持ツメ2aが、図2に示すように、水平方向に例えば3箇所、垂直方向に複数段(例えば25段)設けられており、複数(例えば25枚)のウェーハ(例えばSiウェーハ)3を保持可能となっている。
図1に、本実施形態の縦型バッチ式熱CVD装置を示す。図に示すように、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えた炉1内に、例えば石英からなるボート2が設置されている。ボート2には、ウェーハ支持手段であるウェーハ支持ツメ2aが、図2に示すように、水平方向に例えば3箇所、垂直方向に複数段(例えば25段)設けられており、複数(例えば25枚)のウェーハ(例えばSiウェーハ)3を保持可能となっている。
ウェーハ支持ツメ2a近傍には、図3に示すように、夫々例えば石英からなるガス導入チューブ4が設置されており、上方に設けられた1箇所以上(例えば3箇所)の開口部4aから、ウェーハ3の裏面側にウェーハ浮上ガス5を供給可能となっている。このガス導入チューブ4は、供給されるウェーハ浮上ガス5を炉1内の温度若しくはウェーハ3の温度とほぼ同じ温度にするために、ウェーハ搬送系に影響が出ない範囲で、炉1内の下部でボート2の周りを複数回這わせ(ガス導入チューブ4b)、ガス導入距離を長くしている。これは、ウェーハの冷却を抑えるためである。
このような縦型熱CVD装置を用いて、ウェーハ上にCVD膜を形成する。先ず、例えば400℃とした炉1内に、ウェーハ3をロードする。そして、ガス導入チューブ4の開口部4aより、上方にウェーハ浮上ガス(例えばN2ガス)5を供給し、ウェーハ3を浮上させ、ウェーハ3が浮上した状態で昇温を開始する。
そして、炉1内に設置された熱電対(T/C)(図示せず)による検出温度が、処理温度(例えば800℃)に到達した時点で、ウェーハ浮上ガス5の供給を止め、ウェーハ3をウェーハ支持ツメ2a上に降下させ、熱処理を行なう。熱処理が完了した時点で、再度ウェーハ浮上ガス(例えばN2)5を供給し、ウェーハ3を浮上させる。そして、ウェーハ3が浮上した状態で降温を開始する。炉1内温度がボートのアンロード温度(例えば400℃)に到達した時点でウェーハ浮上ガス5の供給を止め、ウェーハ3をウェーハ支持ツメ2a上に降下させる。
このように、温度変動時にウェーハを熱膨張率が異なるウェーハ支持ツメより浮上させることにより、温度変動時に接触面が擦れてキズが発生することを抑えることが可能となる。
(実施形態2)
図4に、本実施形態の縦型バッチ式熱CVD装置を示す。実施形態1と同様に、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えた炉11内に、例えば石英からなるボート12が設置されている。ボート12には、ウェーハ支持手段であるウェーハ支持ツメ12aが、水平方向に例えば5箇所、垂直方向に複数段(例えば25段)設けられており、複数(例えば25枚)のウェーハ(例えばSiウェーハ)13を保持可能となっている。
図4に、本実施形態の縦型バッチ式熱CVD装置を示す。実施形態1と同様に、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えた炉11内に、例えば石英からなるボート12が設置されている。ボート12には、ウェーハ支持手段であるウェーハ支持ツメ12aが、水平方向に例えば5箇所、垂直方向に複数段(例えば25段)設けられており、複数(例えば25枚)のウェーハ(例えばSiウェーハ)13を保持可能となっている。
ボート12には、図5に示すように、その内部に下部よりウェーハ支持ツメ12aに至るまで通気穴が切り込み形成されており、ボート12下部から導入されたウェーハ浮上ガス15を、ウェーハ支持ツメ12aの開口部12bからウェーハ13裏面に、ボート12の温度とほぼ同じ温度で供給可能となっている。
このような縦型熱CVD装置を用いて、ウェーハ上にCVD膜を形成する。先ず、例えば400℃とした炉11内に、ウェーハ13をロードする。そして、ウェーハ支持ツメ12aの開口部12bより、上方にウェーハ浮上ガス(例えばN2ガス)15を供給し、ウェーハ13を浮上させ、ウェーハ13が浮上した状態で昇温を開始する。
そして、実施形態1と同様に、炉11内に設置されたT/C(図示せず)による検出温度が、処理温度(例えば800℃)に到達した時点で、ウェーハ浮上ガス15の供給を止め、ウェーハ13をウェーハ支持ツメ12a上に降下させ、熱処理を行なう。熱処理が完了した時点で、再度ウェーハ浮上ガス(例えばN2)15を供給し、ウェーハ13を浮上させる。そして、ウェーハ13が浮上した状態で降温を開始する。炉11内温度がボートのアンロード温度(例えば400℃)に到達した時点でウェーハ浮上ガス15の供給を止め、ウェーハ13をウェーハ支持ツメ12a上に降下させる。
このように、実施形態1と同様に、温度変動時にウェーハを熱膨張率が異なるウェーハ支持ツメより浮上させることにより、温度変動時に接触面が擦れてキズが発生することを抑えることが可能となる。
(実施形態3)
図6に、本実施形態の縦型バッチ式熱CVD装置を示す。実施形態1と同様に、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えた炉21内に、ウェーハ支持手段であるリング状支持材料26と、その周辺でこれを支える例えば石英又はSiCからなる例えば5本の支柱27が設置され、ウェーハ23を保持可能となっている。
図6に、本実施形態の縦型バッチ式熱CVD装置を示す。実施形態1と同様に、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えた炉21内に、ウェーハ支持手段であるリング状支持材料26と、その周辺でこれを支える例えば石英又はSiCからなる例えば5本の支柱27が設置され、ウェーハ23を保持可能となっている。
そして、図7に示すように、例えば石英からなるガス導入チューブ24が各支柱27に接するように設置されており、上方に設けられた開口部24aから、ウェーハ23の裏面側にウェーハ浮上ガス25を供給可能となっている。このガス導入チューブ24は、実施形態1と同様に、供給されるウェーハ浮上ガス25を炉21内の温度若しくはウェーハ23の温度とほぼ同じ温度にするために、ウェーハ搬送系に影響が出ない範囲で、炉21内の下部周辺で這わせ、ガス導入距離を長くしている。これは、ウェーハの冷却を抑えるためである。
このような縦型熱CVD装置を用いて、ウェーハ上にCVD膜を形成する。先ず、例えば400℃とした炉21内に、ウェーハ23をロードする。そして、ガス導入チューブ24より、上方にウェーハ浮上ガス(例えばN2ガス)25を供給し、ウェーハ23を浮上させ、ウェーハ23が浮上した状態で昇温を開始する。
そして、実施形態1、2と同様に、炉21内に設置されたT/C(図示せず)による検出温度が、処理温度(例えば800℃)に到達した時点で、ウェーハ浮上ガス25の供給を止め、ウェーハ23をリング状支持材料26上に降下させ、熱処理を行なう。熱処理が完了した時点で、再度ウェーハ浮上ガス(例えばN2)25を供給し、ウェーハ23を浮上させる。そして、ウェーハ23が浮上した状態で降温を開始する。炉21内温度がアンロード温度(例えば400℃)に到達した時点でウェーハ浮上ガス25の供給を止め、ウェーハ23をリング状支持材料26上に降下させる。
このように、温度変動時にウェーハを熱膨張率が異なるリング状支持材料より浮上させることにより、温度変動時に接触面が擦れてキズが発生することを抑えることが可能となる。
(実施形態4)
図8に、本実施形態のランプ加熱ヒータによる枚葉タイプの熱CVD装置を示す。図に示すように、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えたチャンバー(図示せず)内に、ウェーハ支持手段であるリング状支持材料36が設置されており、ウェーハ33を保持可能となっている。
図8に、本実施形態のランプ加熱ヒータによる枚葉タイプの熱CVD装置を示す。図に示すように、加熱・温度制御手段(図示せず)を備えたチャンバー(図示せず)内に、ウェーハ支持手段であるリング状支持材料36が設置されており、ウェーハ33を保持可能となっている。
リング状支持材料36には、図8に示すように、そのリング内周部に隣接するように、例えば6箇所にガス導入ノズル38が設置されており、ウェーハ33の裏面側にウェーハ浮上ガス35を供給可能となっている。供給されるウェーハ浮上ガス35の温度は、チャンバー内若しくはウェーハ33の温度とほぼ同じ温度となるように制御されている。
このようなランプ加熱ヒータによる枚葉タイプの熱CVD装置を用いて、ウェーハ上にCVD膜を形成する。先ず、例えば400℃としたチャンバー内に、ウェーハ33をウェーハ搬送用アーム(図示せず)により搬送し、リング状支持材料36上に載置する。そして、アームは原点位置に移動させる。次いで、ガス導入ノズル38より、上方にウェーハ浮上ガス(例えばN2ガス)35を吹き付け、ウェーハ33を浮上させ、ウェーハ33が浮上した状態で、ランプ(図示せず)を所定のシーケンスにて照射することにより、ウェーハ33及びウェーハ支持部材(リング状支持材料36、支柱37)を加熱し、昇温を開始する。
そして、実施形態1〜3と同様に、チャンバー内に設置されたT/C(図示せず)による検出温度が、処理温度(例えば800℃)に到達した時点で、ウェーハ浮上ガス35の供給を止め、ウェーハ33をリング状支持材料36上に降下させ、熱処理を行なう。熱処理が完了した時点で、再度ウェーハ浮上ガス(例えばN2)35を供給し、ウェーハ33を浮上させる。そして、ウェーハ33が浮上した状態で降温を開始する。チャンバー内温度若しくはウェーハ温度がウェーハのアンロード温度(例えば400℃)に到達した時点でウェーハ浮上ガス35の供給を止め、ウェーハ33をリング状支持材料36上に降下させ、ウェーハ搬送用アーム(図示せず)により、チャンバー内よりウェーハを搬出する。
このように、温度変動時にウェーハを熱膨張率が異なるリング状支持材料より浮上させることにより、温度変動時に接触面が擦れてキズが発生することを抑えることが可能となる。
尚、実施形態1、3、4において、ガス導入チューブ、ガス導入ノズルに石英を用いているが、その材質は特に限定されるものではなく、他にSiCなどを用いることができる。
また、これら実施形態において、ウェーハを浮上させるガスとして、N2ガスを用いているが、CVD装置内をパージするガスと同じ純度のガスを用いることが好ましい。また、N2ガスに限定されるものではなく、他の不活性ガスを、用いることが可能である。
そして、ウェーハをロードした後、ウェーハを浮上させているが、ロード時にも浮上させておくことにより、ロード時のキズの発生を抑えることができる。
また、昇温後処理温度に到達した時点で、或いは降温後アンロード温度に到達した時点で、ウェーハを降下させているが、ウェーハを降下させる時点で、ウェーハ及びウェーハ支持ツメ2aの熱膨張/熱収縮がほぼ収束(飽和)していれば良く、昇温後、処理温度に到達する前、或いは降温後アンロード温度に到達する前、又は昇温後、処理温度に到達した後、或いは降温後アンロード温度に到達した後(例えばアンロードする際)にウェーハを降下させてもよい。
また、熱CVD装置の場合は、熱処理時(成膜時)には、ウェーハをウェーハ支持ツメ上に浮上させることなく載置しておくことが好ましい。これは、不活性ガスによるウェーハ浮上により、ガス吹き付け部分に原料ガスが供給されないために成膜されず、成膜後の裏面剥離工程における不具合が危惧されるためである。
また、熱CVD装置を用いているが、例えば400℃程度以上の熱処理を施す熱処理装置に適用することが可能である。また、これに限定されるものではなく、他の酸化、拡散装置などの熱処理装置に適用することが可能である。その場合、例えばロード温度が500℃、熱処理温度が1000℃といった条件となる。また、成膜以外の熱処理装置であれば、熱処理時に浮上させていても良い。
尚、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。その他要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
1、11、21 炉
2、12 ボート
3、13、23、33 ウェーハ
4、24 ガス導入チューブ
5、15、25、35 ウェーハ浮上ガス
26、36 リング状支持材料
27 支柱
38 ガス導入ノズル
2、12 ボート
3、13、23、33 ウェーハ
4、24 ガス導入チューブ
5、15、25、35 ウェーハ浮上ガス
26、36 リング状支持材料
27 支柱
38 ガス導入ノズル
Claims (5)
- ウェーハを熱処理装置に搬入する工程と、
前記ウェーハを、前記熱処理装置内に、非接触で保持しながら昇温する工程と、
前記ウェーハを熱処理する工程と、
前記ウェーハを、前記熱処理装置内で、非接触で保持しながら降温する工程を備えることを特徴とする半導体製造方法。 - 少なくとも前記ウェーハの熱膨張及び/又は熱収縮が収束するまでの間、前記ウェーハを非接触で保持することを特徴とする請求項1に記載の半導体製造方法。
- 前記ウェーハの裏面にガスを供給して浮上させ、前記ウェーハを非接触で保持することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体製造方法。
- 前記ガスの温度を、前記ウェーハの温度とほぼ同じ温度になるように制御することを特徴とする請求項3に記載の半導体製造方法。
- ウェーハが搬入されるチャンバーと、
前記チャンバー内でウェーハを加熱する加熱手段と、
前記ウェーハを前記チャンバー内の所定位置で支持する支持手段と、
前記ウェーハを前記支持手段に対して非接触となるように浮上させるウェーハ浮上手段を備えることを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005324978A JP2007134450A (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 |
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JP2005324978A JP2007134450A (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=38155878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005324978A Pending JP2007134450A (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2007134450A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112899656A (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜装置的进气系统 |
WO2024062591A1 (ja) * | 2022-09-22 | 2024-03-28 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、およびプログラム |
-
2005
- 2005-11-09 JP JP2005324978A patent/JP2007134450A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112899656A (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜装置的进气系统 |
CN112899656B (zh) * | 2019-12-04 | 2022-11-18 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜装置的进气系统 |
WO2024062591A1 (ja) * | 2022-09-22 | 2024-03-28 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、およびプログラム |
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