JP2007133733A - スペクトル波形パターンのピーク位置補正方法およびプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 スペクトル波形パターンを含む単一領域において基準ピーク位置を設定し、或いは、スペクトル波形パターンを横軸方向において分割して得られる複数の各領域において基準ピーク位置を設定するステップと、単一領域又は複数の各領域において補正の対象となる補正対象ピークを特定するステップと、単一領域又は複数の各領域において補正対象ピークを基準ピーク位置に移動するステップと、単一領域又は複数の各領域において、補正対象ピークの両側に位置するスペクトル波形パターンを、移動の量に応じて、横軸方向にほぼ比例的に伸縮させるステップとを含むことを特徴とする方法が提供される。
【選択図】 図1
Description
このように、工業分野においても薬品・農業分野などにおいても、製品や素材・材料特性の検査にスペクトル波形が広く利用されているが、いずれの分野でも、検査対象となるスペクトル波形を、過去に良品と判定されたスペクトル波形群と比較対照して、同一とみなすことができるか否かを判定する。たとえば、図7(イ)に示される波形が従来良品と判定された代表的なスペクトルとすると、図7(ロ)ではほぼ全ての箇所で同じ波形パターンとみなすことができるが、矢印a部の山の形状が図7(イ)と相違しており、スペクトル波形の同一性に疑義が生ずることとなる。
上述のように、全く同一のスペクトル波形が存在しないにもかかわらず、スペクトル波形による製品検査、即ちスペクトル波形の類似度の判定が行われている。このように、検査処理においては特に横軸方向の誤差が問題となることが多い。何故ならば、スペクトル波形の比較対照を行うとする場合、横軸方向にピークや凹凸位置が揃っていれば、縦軸方向の相違のみに着目することによって、検査を容易に実行することができるからである。
スペクトル波形の中で横軸方向の誤差が生じ易い例として、クロマトグラフによる計測結果がある。クロマトグラフでは、横軸方向に計測原理に起因する誤差が生じ易く、同一の検査対象を複数回計測した場合であっても、横軸方向における同一ピークの出現位置は、スペクトル波形の横幅全体の数%になる可能性もある。そのため、特にクロマトグラフでのピーク位置補正に関しては、統計的方法を用いる等の研究が行われている。その他のスペクトル波形においても、程度の差はあるものの、誤差の発生は不可避であり、目視検査においても、或いはコンピュータを利用した自動検査においても、検査の精度に大きな影響を及ぼすため、ピーク位置の補正処理は、重要な課題のひとつとなっている。
そのため、検査の前処理として、横軸方向の誤差補正、すなわちピーク位置補正を高精度に実施することに対する要求(換言すると、スペクトル波形の複数のピーク位置について、同一とみなすことができるピーク同士の横軸方向の位置を出来るだけ一致させるという要求)が高い。そして、このピーク位置補正は、高精度であるだけではなく、可能な限り短時間に実行されるものでなければならない。特に、近年は検査処理をコンピュータに実行させるための開発も進められており、必要となる要素技術の開発が行われている(例えば、本発明者の開発に係る特許文献1に記載の方法を参照)。そして、検査処理をコンピュータに実行させる場合、特にピーク位置補正技術が不可欠となる。これは、目視検査の場合にはピークの対応付けを柔軟に行うことができるが、コンピュータでは、対応ピークの特定を適切に実行しないと、判定精度が著しく劣化するからである。
(1)スペクトル波形から代表的なピークを1つ選択し、他のスペクトルについては、選択した代表的ピークに横軸位置を合わせる方法(図9(イ)参照)
この方法は、スペクトル波形が横軸方向に均一にシフトしている場合には、有効に適用することができる。選択した代表的ピークが、スペクトル波形の横軸方向のほぼ中央に位置する方が、両端部の誤差補正を公平に実施することができる。
(2)横軸方向のピーク出現位置が予め分かっている成分を1又は複数種有する試料を準備してこれを計測し、現れたピークに対して検査対象に現れた該当ピーク位置を補正する方法(図9(ロ)参照)
図9(ロ)に描かれている2本の縦線が、予め分かっている成分のピーク出現位置である。2種の成分が使用された場合には、検査対象のスペクトル波形は、2個のピーク位置に該当ピークを合わせた後、その間の波形を線形に伸縮処理する。予め分かっている成分のピーク出現位置を利用する方法は、クロマトグラフ等で一般に利用される方法であり、「インターナルスタンダード」と呼ばれている。スペクトル波形の横軸方向誤差は一般に伸縮を伴うので、2個のピークを用いた方がピーク位置補正の効果がより高い。
(3)基準として定義したスペクトル波形のピークから2個の代表的なピークを選択し、その他のスペクトル波形について該当ピークをそれらの位置に補正する方法(図10参照)
図10に示す例では、右側と左側の2個のピークを選択しており、ピーク間に存在するスペクトル波形を線形に伸縮処理している。一般的には、スペクトル波形の横軸方向の出来るだけ両端に近いピークを選択することによって、補正効果を高めることができる。この方法は、たとえば特許文献2に記載されている。上述のインターナルスタンダードによる方法と相違する点は、別途用意する試料が不要であることである。
特に、クロマトグラフ等では、ピーク出現位置は非線形に変動する。たとえば、或るピークは前側にシフトし、別のピークは後側にシフトすることがある。このような場合、従来の方法では、補正基準ピーク以外のピーク位置の補正精度が著しく不十分となったり、補正により却ってピーク位置の誤差が増大することもあるという課題がある。
また、基準ピーク位置A’が定義されている領域のスペクトル波形の縦軸方向の座標をY’(X)とする。
代表的ピークAより左側に位置するスペクトル波形Y(X)を、以下のようにY’(X)に補正する。
Y’(X)=Y×〔X×(a1 /a1 ’)〕 (1)
また、代表的ピークより右側に位置するスペクトル波形Y(X)を、以下のようにY’(X)に補正する。
Y’(X)=Y×〔(X−a1 ’)×(a2 /a2 ’)+a1 〕 (2)
一般に、Xは整数であるので、式(1)および式(2)の右辺の〔 〕内について整数化処理が行われる。
以上の処理により、代表的ピークAが基準ピーク位置A’に移動し、代表的ピーク以外のスペクトル波形は、伸縮補正される。
Claims (4)
- スペクトル波形パターンから製品、素材特性等の良品・不良品の検査を行うための前処理であるピーク位置補正方法であって、
スペクトル波形パターンを含む単一領域において基準ピーク位置を設定し、或いは、スペクトル波形パターンを横軸方向において分割して得られる複数の各領域において基準ピーク位置を設定するステップと、
前記単一領域又は前記複数の各領域において補正の対象となる補正対象ピークを特定するステップと、
前記単一領域又は前記複数の各領域において前記補正対象ピークを前記基準ピーク位置に移動するステップと、
前記単一領域又は前記複数の各領域において、前記補正対象ピークの両側に位置するスペクトル波形パターンを、前記移動の量に応じて、横軸方向にほぼ比例的に伸縮させるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記補正対象ピークを特定するステップにおいて、前記基準ピーク位置の横軸方向の両側に所定範囲を設定し、前記所定範囲内から前記補正対象ピークを特定することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- スペクトル波形パターンから製品、素材特性等の良品・不良品の検査を行うための前処理であるピーク位置補正プログラムであって、
スペクトル波形パターンを含む単一領域において基準ピーク位置を設定し、或いは、スペクトル波形パターンを横軸方向において分割して得られる複数の各領域において基準ピーク位置を設定して記憶装置に格納するステップと、
前記単一領域又は前記複数の各領域において補正の対象となる補正対象ピークを特定して記憶装置に格納するステップと、
前記単一領域又は前記複数の各領域において前記補正対象ピークを前記基準ピーク位置に移動して記憶装置に格納するステップと、
前記単一領域又は前記複数の各領域において、前記補正対象ピークの両側に位置するスペクトル波形パターンを、前記移動の量に応じて、横軸方向にほぼ比例的に伸縮させて記憶装置に格納するステップと、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。 - 前記補正対象ピークを特定するステップにおいて、前記基準ピーク位置の横軸方向の両側に所定範囲を設定し、前記所定範囲内から前記補正対象ピークを特定して記憶装置に格納することを特徴とする請求項3に記載のプログラム。
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