JP2007126378A - 光学活性な含窒素化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】例えば、アゾジカルボン酸エステルとフェニル酢酸シアノ酢酸エステルに、光学活性ジアミン化合物と周期表第8族または第9族遷移金属錯体とからなる不斉金属錯体を反応させることを特徴とする、光学活性なヒドラジノ酢酸エステルの製造方法。
【選択図】なし
Description
J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 8120 Org. Lett. 2005, 7, 167
一般式(A)
また、本発明は、実用的な反応温度(0℃から40℃付近)と少ない触媒量で簡便に目的物を得ることができることから、従来の方法よりも格段に実用的な方法である。
本発明により得られた含窒素化合物は、誘導化することにより医薬品等の合成中間体として有用な光学活性α、β−ジアミノ酸として利用される。
一般式(B)で表される化合物の具体例としては化合物群−2に示した化合物が例示され、特に適用性が高いものとしては、α−フェニルシアノ酢酸tert−ブチルである。なお、一般式(B)で表される化合物は、化合物群−2の化合物に限定されるものではない。
具体的な化合物としては、N‐(p‐トルエンスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン(TsDPEN)、N‐メタンスルホニル‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン(MsDPEN)、N‐メチル‐N′‐(p‐トルエンスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(p‐メトキシフェニルスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(p‐クロロフェニルスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐トリフルオロメタンスルホニル‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(2,4,6‐トリメチルベンゼンスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(2,4,6‐トリイソプロピルベンゼンスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(4‐tert‐ブチルベンゼンスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(2‐ナフチルスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐(3,5‐ジメチルベンゼンスルホニル)‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン、N‐ペンタメチルベンゼンスルホニル‐1,2‐ジフェニルエチレンジアミン(PsDPEN)、N‐(p‐トルエンスルホニル)‐1,2‐シクロヘキサンジアミン(TsCYDN)、N‐メタンスルホニル‐1,2‐シクロヘキサンジアミン(MsCYDN)などが例示される。このうち、MsDPEN及びPsDPENが好ましい。また、これら光学活性ジアミン配位子の2箇所の不斉炭素の絶対配置はいずれもS体のもの、またはいずれもR体であるものが好ましい。
窒素、酸素、硫黄原子等異種原子を含む複素単環または複素多環式基は、フリル基、ピリジル基、チエニル基などが挙げられる。
置換基を有するフェニル基としては、4‐メチルフェニル基、3,5‐ジメチルフェニル基、3,5‐ジエチルフェニル基、2,4,6‐トリメチルフェニル基、2,4,6‐トリイソプロピルフェニル基、または2,3,4,5,6‐ペンタメチルフェニル基等の炭素数1〜10のアルキル基を有するフェニル基、4‐フルオロフェニル基、4‐クロロフェニル基等のハロゲン置換基を有するフェニル基、4‐メトキシフェニル基等の炭素数1から5のアルコキシ基を有するフェニル基などが挙げられる。
置換基を有するシクロアルキル基は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基が挙げられる。
置換基を有する、アルキル基、ナフチル基、フェニル基やこれらの置換基に置換し得る置換基は、R5やR6のものと同じである。
特に、フッ素原子を1つ以上含むアルキル基としては、フロオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基などが挙げられる。
R8は、空の配位座、ヒドリド、水酸基、ハロゲン基またはカルボアニオンであり、n=1の場合空の配位座を表し、n=2の場合ヒドリド、水酸基、ハロゲン基、およびカルボアニオンを表す。
カルボアニオンの具体例としては比較的酸性度の高い水素をもつ有機化合物が好ましく、一般式(B)で表される化合物、マロン酸ジメチルやマロン酸ジエチル等のマロン酸ジエステル類、またはアセト酢酸メチルやアセト酢酸エチル等のβ−ケトエステル類などのエノラートアニオン、ニトロメタンやニトロエタン等のニトロナートが挙げられる。このうち、一般式(B)で表される化合物のエノラートアニオンが好ましい。
例えば、置換基を有するベンゼンは、トルエン、o‐,m‐及びp‐キシレン、o‐,m‐及びp‐シメン、1,2,3‐、1,2,4‐及び1,3,5‐トリメチルベンゼン、1,2,3‐、1,2,4‐及び1,3,5‐トリエチルベンゼン、1,2,4,5‐テトラメチルベンゼン、1,2,3,4‐テトラメチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、ならびにヘキサメチルベンゼン等のアルキル基を有するベンゼンなどが挙げられる。このうち、特にペンタメチルベンゼン、ならびにヘキサメチルベンゼンが好ましい。
置換基を有していてもよいフルオレニル基の例として、無置換のフルオレニル基、および置換基を有するフルオレニル基としてベンゾフルオレニル基、テトラヒドロフルオレニル基、オクタヒドロフルオレニル基などが挙げられる。
このうち非局在化環状η5−配位系配位子としては、高い光学純度を得るためには、特に1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル基が好ましい。
一般式(D)で表される不斉金属錯体は、金属に2座配位子であるエチレンジアミン化合物(R7SO2NHCHR5CHR6NH2)が結合している構造とみなすことができる。
この不斉金属錯体の合成を水素供与性化合物存在下実施すれば不斉金属ヒドリド錯体が、また、水素供与性化合物が存在しない条件で実施すれば不斉金属アミド錯体あるいは不斉金属アミン錯体が得られる。不斉反応の触媒として、不斉金属アミド錯体、不斉金属アミン錯体、および不斉金属ヒドリド錯体のいずれも使用できる。
周期表第8族または第9族金属化合物と光学活性ジアミン化合物の混合比は、1.0:0.1から1.0:10.0のモル比であり、好ましくは等モルである。
塩基は、金属中のハロゲン原子に対して過剰量、例えばモル比で1〜100モル倍を用いるのが好ましい。
光学活性含窒素化合物は、光学活性ジアミン化合物、周期表第8族または第9族金属化合物と塩基、および一般式(A)および(B)で表される化合物を混合して合成することができる。より好ましくは、光学活性ジアミン化合物、周期表第8族または第9族金属化合物と塩基から前もって不斉金属錯体を調製し、この不斉金属錯体存在下、一般式(A)および(B)で表される化合物を混合して反応させる。
反応時間は反応基質濃度、温度、圧力等の反応条件によって異なるが、数分から100時間で反応は完結する。
生成物の精製は、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の公知の方法により行うことができる。
〔参考例〕
アルゴン置換した50mlシュレンク型反応管に[Cp*IrCl2]2 500mg(0.628mmol)、(S,S)−MsDPEN 364mg(1.26mmol)、KOH(関東化学社製、86%含有) 409mg(6.28mmol)、塩化メチレン 12ml、水 12mlを加えて、室温で1時間攪拌した。静置後、水層を抜き取り、水 10mlを加えて撹拌した。この水洗操作を8回繰り返し、完全にKOHを除去した。最後に水を抜き取った後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶液部を別のシュレンクに移し、溶媒を留去して減圧乾燥し、赤紫色結晶696mgを得た。得られたイリジウムアミド錯体のスペクトルデータを以下に示す。
1H−NMR(400MHz,CD2Cl2) σ1.95(s,15H,C5(CH 3)5),2.21(s,3H,NSO2CH 3),4.16(d,J=3.9Hz,1H,NHCHC6H5),4.32(s,1H,CHNSO2CH3),5.50(brs,1H,NH),7.18〜7.64(m,10H,aromatic H).
13C−NMR(100MHz,CD2Cl2) σ10.2, 41.0,74.8, 80.7, 85.7, 126.7, 126.8, 127.2, 127.4, 128.1, 128.3, 146.9, 147.4.
1H−NMR(400MHz,CDCl3) σ1.46 and 1.49(9H,C(CH 3)3),3.56,3.70,3.84 and 3.67(6H,CO2CH 3),6.32 and 6.54(1H,NH),7.40〜7.85(m,5H,aromatic H).
1H−NMR(400MHz,CDCl3) σ1.02−1.38(m、6H,CO2CH2CH 3)、1.48(s、9H,C(CH 3)3)、4.01(m、1H,CO2CH 2CH3),4.14(m、1H,CO2CH 2CH3),4.32(q、J=7.1Hz、2H,CO2CH 2CH3),6.23 and 6.44(1H,NH),7.37〜7.85(m,5H,aromatic H).
1H−NMR(400MHz,CDCl3) σ0.90−1.40(m、12H,CH(CH 3)2)、1.42−1.53(m、9H,C(CH 3)3)、4.72−5.17(m、2H、CH(CH3)2),6.02 and 6.24(1H,NH),7.32〜7.85(m,5H,aromatic H).
1H−NMR(400MHz,CDCl3) σ1.02−1.44(m、9H,CO2CH2CH 3)、3.93-4.46(m、6H,CO2CH 2CH3),6.11 and 6.34(1H,NH),7.35〜7.88(m,5H,aromatic H).
1H−NMR(400MHz,CDCl3) σ1.00−1.45(6H,CO2CH2CH 3),3.85 and 3.87(3H,CO2CH 3),3.93−4.45(4H,CO2CH 2CH3),6.13 and 6.35(1H,NH),7.35〜7.90(m,5H,aromatic H).
1H−NMR(400MHz,CDCl3) σ1.39(s、9H,C(CH 3)3)、4.85−5.40(m、4H,CH 2C6H5),6.13 and 6.45(1H,NH),7.00〜7.85(m,15H,aromatic H).
Claims (7)
- 一般式(A)
(式中、R1、R2、R3、R4、Y、およびmは前記と同一の意義を有し、*は不斉炭素原子を表す。)で表される光学活性な含窒素化合物の製造方法。 - Yが酸素原子である、請求項1記載の光学活性な含窒素化合物の製造方法。
- 光学活性ジアミン化合物と周期表第8族または第9族金属錯体からなる不斉金属錯体が、一般式(D)
- R5及びR6が、同一であっても互いに異なっていてもよい、フェニル基、炭素数1〜10のアルキル基を有するフェニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基を有するフェニル基若しくはハロゲン置換基を有するフェニル基、又は互いに結合して5員環又は6員環を形成していてもよいアルキレン基である、請求項3に記載の光学活性な含窒素化合物の製造方法。
- 周期表第8族または第9族金属が、ルテニウム、イリジウムまたはロジウムである、請求項1から4の何れかに記載の光学活性な含窒素化合物の製造方法。
- n=1であり、R8が空の配位座である、請求項3から5の何れかに記載の光学活性な含窒素化合物の製造方法。
- 非局在化環状η5−配位系配位子が、シクロペンタジエニル基である、請求項3から6の何れかに記載の光学活性な含窒素化合物の製造方法。
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