JP2007116119A5 - - Google Patents

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5371240B2 (ja) * 2006-12-27 2013-12-18 株式会社半導体エネルギー研究所 配線の作製方法
JP4918470B2 (ja) * 2007-12-10 2012-04-18 パナソニック株式会社 有機デバイスおよびその製造方法
KR101041139B1 (ko) * 2008-11-04 2011-06-13 삼성모바일디스플레이주식회사 박막트랜지스터, 그의 제조방법 및 그를 포함하는 유기전계발광표시장치
WO2011151970A1 (ja) * 2010-06-02 2011-12-08 シャープ株式会社 薄膜トランジスタ、コンタクト構造、基板、表示装置及びこれらの製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4942390A (en) * 1987-04-01 1990-07-17 International Business Machines Corporation Method and apparatus for generating a character image
US6890050B2 (en) * 2002-08-20 2005-05-10 Palo Alto Research Center Incorporated Method for the printing of homogeneous electronic material with a multi-ejector print head
JP3838439B2 (ja) * 2003-09-16 2006-10-25 富士写真フイルム株式会社 インクジェット記録装置及び記録方法
JP4461756B2 (ja) * 2003-09-29 2010-05-12 セイコーエプソン株式会社 印刷装置、印刷方法、および印刷用プログラム

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