JP2007114721A - Multilayer liquid crystal cell and method for manufacturing same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、2枚の外ガラス基板と、その2枚の外ガラス基板の間に配した少なくとも1枚の中ガラス基板とを積層配置した複層液晶セルとその製造方法に関する。 The present invention relates to a multilayer liquid crystal cell in which two outer glass substrates and at least one middle glass substrate disposed between the two outer glass substrates are laminated and a method for manufacturing the same.
液晶セルは、薄型軽量で低消費電力のため、表示用としてだけでなく、CDやDVDなどの光ディスク記録再生装置における光ピックアップにおいて、レーザ光の波面収差の補正をするための収差補正素子として使われている(例えば、特許文献1参照)。 The liquid crystal cell is thin and light and has low power consumption. Therefore, the liquid crystal cell is used not only for display but also as an aberration correction element for correcting wavefront aberration of laser light in an optical pickup in an optical disk recording / reproducing apparatus such as a CD or DVD. (For example, refer to Patent Document 1).
この光ピックアップで補正すべき収差には、コマ収差、球面収差、非点収差など複数の収差が存在する。さらに、この収差補正機能以外に、光ディスクの二層記録化に伴い、レイヤージャンプのための可変焦点レンズ機能や、液晶の位相を変調することで、所望の位相差量を得られるようにした可変位相差板機能なども必要となってきている。 The aberration to be corrected by this optical pickup includes a plurality of aberrations such as coma, spherical aberration, and astigmatism. In addition to this aberration correction function, along with the double-layer recording of the optical disc, a variable focus lens function for layer jump and a variable that can obtain the desired phase difference amount by modulating the phase of the liquid crystal A phase difference plate function is also required.
ところが、液晶セル一枚だけで収差補正機能、可変焦点レンズ機能と可変位相差板機能の内2つの機能を実現することは困難とされている。したがって、この様な機能を液晶パネルで実現するためには、各機能毎に液晶セルを製造し、それらを積層して組み合わせた複層液晶セルとする必要がある。 However, it is difficult to realize two functions of an aberration correction function, a variable focus lens function, and a variable phase difference plate function with only one liquid crystal cell. Therefore, in order to realize such a function with a liquid crystal panel, it is necessary to manufacture a liquid crystal cell for each function and to form a multilayer liquid crystal cell in which they are stacked and combined.
ところが、この複層液晶セルを得るために個々に作成した複数の液晶セルを貼り合わせると、厚みや重量の増大、透過率の損失が問題となる。そのため、実際には、少なくとも3枚以上のガラス基板を組み合わせ、各ガラス基板の間隙に液晶層をそれぞれ配し、これら液晶層を挟持する透明電極パターンを各機能が実現できる形状とした複層液晶セルが必要となる(例えば、特許文献2、特許文献3参照)。なお、この特許文献2には、上述した液晶パネルの構成であり、かつ収差補正機能と可変位相差板機能の両方機能を実現できる光ピックアップが開示されている。また、特許文献3には、収差補正機能と可変焦点レンズ機能の両方の機能を実現できる光ピックアップが開示されている。
However, when a plurality of individually prepared liquid crystal cells are bonded to obtain the multi-layer liquid crystal cell, an increase in thickness and weight and a loss of transmittance become problems. Therefore, in reality, a multilayer liquid crystal in which at least three or more glass substrates are combined, a liquid crystal layer is arranged in the gap between each glass substrate, and a transparent electrode pattern sandwiching these liquid crystal layers is shaped to realize each function. A cell is required (see, for example,
また、この複層液晶セルに適用できる製造方法が開示されている(例えば、特許文献4参照)。この特許文献4に記載されている製造方法は、2枚の外ガラス基板と中ガラス基板を、予め作成したい単個の液晶セルの最終寸法にそれぞれ加工しておき、単個の液晶セルとして、複層液晶セルを1セットずつ独立に組み立てる方法である。
Further, a manufacturing method applicable to the multi-layer liquid crystal cell is disclosed (for example, see Patent Document 4). In the manufacturing method described in
また、従来の複層液晶セルの他の製造方法も開示されている(例えば、特許文献5参照)。この特許文献5に記載されている製造方法は、大きなガラス基板に多数個取りの複層液晶セルを作成するにあたり、外ガラス基板に挟まれて外部に露出しない中ガラス基板に、予め単個の液晶セルの寸法に合わせてスクライブクラックを形成しておき、その後に中ガラス基板の両側に外ガラス基板を貼り合わせる。そして最後に全てのガラス基板を切断して、目的の複層液晶セルを作成する方法である。
In addition, another manufacturing method of a conventional multi-layer liquid crystal cell is also disclosed (for example, see Patent Document 5). In the manufacturing method described in
しかしながら、特許文献4に記載の複層液晶セルの製造方法では、複層液晶セルを単個ごとに独立して組み立てるため、量産効率が悪い。また、機種が変わるごとに、そのセルの外形寸法も変わるので、その度に、セルの製造に使用するための、異なった形状の冶具立てが必要となり、製造工程が非常に複雑になる。
However, the multi-layer liquid crystal cell manufacturing method described in
また、特許文献5に記載の製造方法では、中ガラス基板の両側に外ガラス基板を貼り合わせる前に、中ガラス基板に予めスクライブクラックを形成するため、スクライブ加工の前後で発生するガラスチップやゴミがセル内に混入し易く、複層液晶セルの製造歩留まりを大幅に下げる原因となっていた。
Further, in the manufacturing method described in
そこで、本発明は上記課題を解決し、セル内にガラスチップやゴミ混入の影響がほとんど無く、歩留まり良く、量産性に優れた複層液晶セルとその製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a multi-layer liquid crystal cell which has almost no influence of glass chips and dust mixed in the cell, has a good yield and is excellent in mass productivity, and a method for manufacturing the same.
上記目的を達成するために、本発明の複層液晶セルの製造方法は、基本的に下記記載の構成を採用する。 In order to achieve the above object, the multi-layer liquid crystal cell manufacturing method of the present invention basically adopts the following configuration.
本発明の複層液晶セルの製造方法は、2枚の外ガラス基板と、その2枚の外ガラス基板の間に配した少なくとも1枚の中ガラス基板とを積層配置し、各ガラス基板の間隙に液晶層を配した複層液晶セルの製造方法において、2枚の外ガラス基板の間に少なくとも1枚の中ガラス基板を所定の間隙をもって貼り合わせて複数個の複層セルを形成する大判複層セル形成工程と、2枚の外ガラス基板のいずれか、または両方に第1のスクライブクラックを形成し、この第1のスクライブクラックに基づき外ガラス基板における不要な小片を刳り取る基板部分除去工程と、基板部分除去工程で剥き出しになった中ガラス基板に第2のスクライブクラックを形成し、中ガラス基板を切断して、単個の複層液晶セルを切り出す複層液晶セル形成工程とを含むことを特徴とするものである。 The method for producing a multi-layer liquid crystal cell according to the present invention comprises two outer glass substrates and at least one middle glass substrate disposed between the two outer glass substrates, and a gap between the glass substrates. In a method of manufacturing a multi-layer liquid crystal cell in which a liquid crystal layer is disposed on a large-sized multi-layer cell, a plurality of multi-layer cells are formed by bonding at least one medium glass substrate with a predetermined gap between two outer glass substrates. Layer cell forming step and substrate portion removing step of forming a first scribe crack on one or both of the two outer glass substrates and scraping off unnecessary small pieces on the outer glass substrate based on the first scribe crack. And forming a second scribe crack on the intermediate glass substrate exposed in the substrate partial removal step, cutting the intermediate glass substrate, and cutting out a single multilayer liquid crystal cell. It is characterized in.
上述した製造方法によれば、各ガラス基板をシール材を介して貼り合わせる前に、スクライブクラックを形成して製造する特許文献5に記載の従来の方法に比べ、複層液晶セル内にガラスチップやゴミが混入する心配が無く、さらに、大きなガラス基板から多数個取りで複層液晶セルを作成できるため、効率よく非常に歩留まりの高い高品位の複層液晶セルの製造を容易に実現できる。
According to the manufacturing method described above, a glass chip is formed in the multilayer liquid crystal cell as compared with the conventional method described in
また、本発明の複層液晶セルの製造方法は、上記基板部分除去工程が、一方の外ガラス基板における不要な小片を刳り取る工程であり、上記複層液晶セル形成工程が、中ガラス基板とともに他方の外ガラス基板にも第2のスクライブクラックを形成して、中ガラス基板と他方の外ガラス基板の両方を割断する工程であることを特徴とするものである。 Moreover, the manufacturing method of the multilayer liquid crystal cell of this invention is a process in which the said board | substrate part removal process scrapes off the unnecessary small piece in one outer glass substrate, and the said multilayer liquid crystal cell formation process is a medium glass substrate. A second scribe crack is also formed on the other outer glass substrate to cleave both the middle glass substrate and the other outer glass substrate.
また、本発明の複層液晶セルの製造方法は、上記基板部分除去工程で刳り取られた不要な小片の断面形状が、液晶層に接するガラス基板面を下底、液晶層とは反対側のガラス基板面を上底とした場合に、上底よりも下底のサイズを小とした台形形状であることを特徴とするものである。 In addition, in the method for manufacturing a multi-layer liquid crystal cell according to the present invention, the cross-sectional shape of an unnecessary piece scraped off in the substrate partial removal step is such that the glass substrate surface in contact with the liquid crystal layer is located on the bottom, and the opposite side of the liquid crystal layer When the glass substrate surface is the upper base, it is a trapezoidal shape in which the size of the lower base is smaller than the upper base.
また、本発明の複層液晶セルの製造方法は、上記基板部分除去工程が、外ガラス基板表面の鉛直方向に対して傾斜角をもった第1のスクライブクラックを外ガラス基板に浸透させてから、不要な小片を刳り取ることを特徴とするものである。 Further, in the method for manufacturing a multi-layer liquid crystal cell of the present invention, the substrate partial removal step penetrates the outer glass substrate with the first scribe crack having an inclination angle with respect to the vertical direction of the outer glass substrate surface. It is characterized by scraping off unnecessary pieces.
また、本発明の複層液晶セルの製造方法は、上記大判複層セル形成工程が、基板の両端に予めスクライブラインを設けた中ガラス基板を挟持して、複数個のシール材と、当該複数個のシール材の全てを囲繞する外周シールを介して所定の間隙をもって2枚の外ガラス基板を貼り合わせるセル形成工程と、2枚の外ガラス基板を研磨して、基板の厚みを薄くする外ガラス基板研磨工程と、外周シールにおける2辺を、スクライブラインに沿って外ガラス基板とともに中ガラス基板を切断する基板切断工程とを有することを特徴とするものである。 Further, in the method for producing a multi-layer liquid crystal cell according to the present invention, the large-sized multi-layer cell forming step includes sandwiching a middle glass substrate in which scribe lines are previously provided at both ends of the substrate, a plurality of sealing materials, A cell forming step of bonding two outer glass substrates with a predetermined gap through an outer peripheral seal that surrounds all of the individual sealing materials, and an outer surface that reduces the thickness of the substrate by polishing the two outer glass substrates A glass substrate polishing step and a substrate cutting step of cutting the middle glass substrate together with the outer glass substrate along the scribe line at two sides of the outer peripheral seal are characterized.
また、本発明の複層液晶セルの製造方法は、上記外周シールに、開口部が形成されていることを特徴とするものである。 Moreover, the manufacturing method of the multilayer liquid crystal cell of this invention is characterized by the opening part being formed in the said outer periphery seal | sticker.
上述した製造方法によれば、大判のセルを形成した後に、外ガラス基板を薄く研磨することができるので、先に示した製造方法により得られる複層液晶セルに比べて、より液晶セルの厚みを薄くした複層液晶セルを容易に製造することができる。 According to the manufacturing method described above, since the outer glass substrate can be thinly polished after forming a large cell, the thickness of the liquid crystal cell is larger than that of the multilayer liquid crystal cell obtained by the manufacturing method described above. A multi-layer liquid crystal cell having a reduced thickness can be easily produced.
また、本発明の複層液晶セルは、2枚の外ガラス基板と、その2枚の外ガラス基板の間に配した少なくとも一枚の中ガラス基板とを積層配置し、各ガラス基板の間隙に液晶層を配した複層液晶セルにおいて、少なくとも一方の外ガラス基板の断面形状が、液晶層に接するガラス基板面を下底、液晶層とは反対側のガラス基板面を上底とした場合に、上底よりも下底のサイズを大とした台形形状であることを特徴とするものである。 The multi-layer liquid crystal cell of the present invention comprises two outer glass substrates and at least one inner glass substrate disposed between the two outer glass substrates, and is disposed in the gap between the glass substrates. In a multi-layer liquid crystal cell in which a liquid crystal layer is arranged, when the cross-sectional shape of at least one outer glass substrate has a glass substrate surface in contact with the liquid crystal layer as a lower base and a glass substrate surface opposite to the liquid crystal layer as an upper base. The trapezoidal shape is such that the size of the lower base is larger than the upper base.
また、本発明の複層液晶セルは、上記中ガラス基板が1枚であり、かつ一方の外ガラス基板の断面形状が台形形状を有しており、一方の外ガラス基板と中ガラス基板とで挟持される第1の液晶セルと、中ガラス基板と他方のガラス基板とで挟持される第2の液晶セルとにより構成され、さらに、第1の液晶セルのセルギャップが、第2の液晶セルのセルギャップに比べて小さくしたことを特徴とするものである。 In the multilayer liquid crystal cell of the present invention, the above-mentioned middle glass substrate is one, and the cross-sectional shape of one outer glass substrate has a trapezoidal shape. A first liquid crystal cell that is sandwiched and a second liquid crystal cell that is sandwiched between the middle glass substrate and the other glass substrate, and the cell gap of the first liquid crystal cell is the second liquid crystal cell. It is characterized by being made smaller than the cell gap.
また、本発明の複層液晶セルは、上記中ガラス基板が1枚であり、かつ一方の外ガラス基板の断面形状が台形形状を有しており、一方の外ガラス基板と中ガラス基板とで挟持される第1の液晶セルと、中ガラス基板と他方のガラス基板とで挟持される第2の液晶セルとにより構成され、さらに、第1の液晶セルと第2の液晶セルのセルギャップをともに同じとし、第1の液晶セルの位相変化量よりも第2の液晶セルの位相変換量を大きくなる様に構成されていることを特徴とするものである。 In the multilayer liquid crystal cell of the present invention, the above-mentioned middle glass substrate is one, and the cross-sectional shape of one outer glass substrate has a trapezoidal shape. A first liquid crystal cell that is sandwiched and a second liquid crystal cell that is sandwiched between the middle glass substrate and the other glass substrate. Further, the cell gap between the first liquid crystal cell and the second liquid crystal cell is increased. Both are the same, and are characterized in that the phase conversion amount of the second liquid crystal cell is larger than the phase change amount of the first liquid crystal cell.
本発明の複層液晶セルの製造方法により、複層液晶セル内にガラスチップやゴミの混入する心配が無く、効率よく非常に歩留まりの高い、高品位の複層液晶セルの製造方法を提供することが可能となる。 According to the method for producing a multi-layer liquid crystal cell of the present invention, there is provided a method for producing a high-quality multi-layer liquid crystal cell with high yield without any concern about glass chips and dust being mixed into the multi-layer liquid crystal cell. It becomes possible.
また、本発明の複層液晶セルの構成とすれば、少なくとも2つの異なる機能を各液晶層に持たせて、外部環境温度が変化したとしても、両機能ともに所望の特性を得ることができる様になる。 Further, according to the configuration of the multi-layer liquid crystal cell of the present invention, even if the liquid crystal layer has at least two different functions, even if the external environment temperature changes, both functions can obtain desired characteristics. become.
本発明を実施するための最良の形態は、2枚の外ガラス基板と、その2枚の外ガラス基板の間に配した少なくとも1枚の中ガラス基板とを積層配置した複層液晶セルの製造方法、およびその製造方法により形成された複層液晶セルに関するものである。 The best mode for carrying out the present invention is to manufacture a multi-layer liquid crystal cell in which two outer glass substrates and at least one middle glass substrate arranged between the two outer glass substrates are stacked. The present invention relates to a multi-layer liquid crystal cell formed by the method and its manufacturing method.
具体的には、本発明の複層液晶セルの製造方法は、2枚の外ガラス基板の間に少なくとも1枚の中ガラスを所定の間隙をもって貼り合わせて複数個の複層セルを形成する大判複
層セル形成工程と、2枚の外ガラス基板のいずれか、または両方に第1のスクライブクラックを形成し、この第1のスクライブクラックに基づき外ガラス基板における不要な小片を刳り取る基板部分除去工程と、基板部分除去工程で剥き出しになった中ガラス基板に第2のスクライブクラックを形成し、中ガラス基板を切断した後に、単個の複層液晶セルを切り出す複層液晶セル形成工程とを含む製造方法である。
Specifically, the method for producing a multi-layer liquid crystal cell of the present invention is a large format in which a plurality of multi-layer cells are formed by laminating at least one medium glass with a predetermined gap between two outer glass substrates. Substrate part removal by forming a first scribe crack in one or both of the multilayer cell forming step and the two outer glass substrates, and scraping off unnecessary small pieces on the outer glass substrate based on the first scribe crack Forming a second scribe crack on the intermediate glass substrate exposed in the step of removing the substrate part, and cutting the intermediate glass substrate, and then cutting out a single multilayer liquid crystal cell; It is a manufacturing method including.
本発明の複層液晶セルの製造方法およびこの製造方法により形成された複層液晶セルについて説明する。なお、下記説明では、簡単のため、2枚の外ガラス基板の間に中ガラス基板を備え、各ガラス基板の間に液晶層を挟持した複層液晶セルを代表例として示すが、本発明の複層液晶セルおよびその製造方法は、これに限定されるものではなく、中ガラス基板の枚数を増やして、さらに液晶層の積層数を増やした複層液晶セルも本発明に含まれることに留意されたい。 The manufacturing method of the multilayer liquid crystal cell of this invention and the multilayer liquid crystal cell formed by this manufacturing method are demonstrated. In the following description, for simplicity, a multi-layer liquid crystal cell including a middle glass substrate between two outer glass substrates and a liquid crystal layer sandwiched between the glass substrates is shown as a representative example. The multi-layer liquid crystal cell and the manufacturing method thereof are not limited to this, and a multi-layer liquid crystal cell in which the number of intermediate glass substrates is increased and the number of liquid crystal layers is further increased is also included in the present invention. I want to be.
まず、本発明の複層液晶セルの製造法方法について説明する。図1(a)〜図1(c)は、大判複層セルから単個の複層液晶セルに至るまでの製造工程の概略を示した上部平面図と側面図であり、本図(a)は、大判複層セル形成工程と基板部分除去工程とを説明するための図面であり、本図(b)は、基板部分除去工程により得られる短冊複層セルを示す図面であり、本図(c)は、複層液晶セル形成工程を説明するための図面である。 First, the manufacturing method of the multilayer liquid crystal cell of this invention is demonstrated. FIG. 1A to FIG. 1C are an upper plan view and a side view showing an outline of a manufacturing process from a large format multi-layer cell to a single multi-layer liquid crystal cell. These are the figures for demonstrating a large format multilayer cell formation process and a board | substrate partial removal process, and this figure (b) is drawing which shows the strip multilayer cell obtained by a board | substrate partial removal process, (c) is a drawing for explaining a multi-layer liquid crystal cell forming step.
まず、図1の(a)に示すように、大判複層セル形成工程で、外ガラス基板11、13の一方の面と、中ガラス基板12の両方の面に所定の形状の透明電極を形成した後、配向膜を形成する。そして、この中ガラス基板12の両面に、透明電極が対向配置するように、外ガラス基板11、13をシール材(図示せず)を介してアライメントして貼り合わせて、セル14を多数個取りした大判複層セル15を形成する。
First, as shown in FIG. 1A, a transparent electrode having a predetermined shape is formed on one surface of the
また、図1(a)では明示していないが、各セル14は、それぞれが各ガラス基板間においてシール材で囲われており、単個のセル14としての空間を確保するように貼り合わせてある。また、外ガラス基板11と中ガラス基板12、中ガラス基板12と外ガラス基板13との間のそれぞれに形成されているこれら各シール材は、同一形状のものが重ねて配置されている。この時点では、各ガラス基板にはスクライブ等の機械的加工を一切施していない。
Although not clearly shown in FIG. 1A, each
次の段階で、図1(a)に示すセル14を多数個取りした大判複層セル15は、後段で詳細に説明する基板部分除去工程を経て、図1(b)に示す短冊形状の短冊複層セル16に切り出される。
At the next stage, the large-sized multi-layer cell 15 having a large number of the
その後、短冊複層セル16の注入口から液晶を注入し、その注入口に封孔処理を施して液晶セルとした後、図1(c)に示すように、複層液晶セル形成工程におけるダイシング加工により、短冊複層セル16に配した個々のセル14毎に切断して単個の複層液晶セル17を得ることができる。
Thereafter, liquid crystal is injected from the inlet of the strip
本発明の複層液晶セルの製造方法における要は、上記説明における図1(a)から図1(b)に至る工程の基板部分除去工程である。以下、その工程を、図1から図8を用いて詳細に説明する。図2は、図1(a)から図1(b)に至る工程の流れを、図1(a)に示したA部を拡大して示した工程図面である。 The main point in the method for producing a multi-layer liquid crystal cell of the present invention is the substrate partial removing step in the steps from FIG. 1A to FIG. 1B in the above description. Hereinafter, the process will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 2 is a process drawing in which the process flow from FIG. 1A to FIG. 1B is shown by enlarging the part A shown in FIG.
なお、下記の説明では、上記外ガラス基板11、13、および中ガラス基板12をともに板厚0.3mmのガラス基板を用いた場合について説明をする。また、スクライブ装置として、スクライブヘッド部が高周波振動することにより、スクライブクラックを浸透し
易くする特徴を持ったベルデックス社製のクラックカッティングシステム(商品名)を、さらに、スクライブホイールとして、高浸透スクライブが可能なホイールとして一般に知られる三ツ星ダイヤモンド工業社製のペネットホイール(商品名)を用いた。このペネットホイールは、ガラス基板の厚み方向に8割以上のクラックを入れることができるものである。そして、このペネットホイールとクラックカッティングシステムを組み合わせることにより、ガラス基板の厚み方向に9割以上のクラックを入れることが実現できる。上述した様に、本発明の製造方法の特徴となる工程である、基板部分除去工程を適用するためには、外ガラス基板11に比較的薄い板厚0.3mmのガラス基板を用いて、9割以上のクラックを入れることができる様になる。
In addition, in the following description, the case where the glass substrate with a plate thickness of 0.3 mm is used for both the
まず、図2(a)に示すように、外ガラス基板11の不要部分である小片21を刳り抜くために、SOで示す位置であり、かつ小片の断面形状が、セル14の内側に位置する外ガラス基板11の面を下底、セル外側に位置する外ガラス基板11面を上底とした場合に、上底よりも下底のサイズを小とした台形形状となるように、外ガラス基板11の表面に対して斜め方向に、第1のスクライブクラックに相当する斜めクラック61を浸透させる。
First, as shown in FIG. 2A, in order to punch out the
なお、上述した外ガラス基板11の不要部分である小片21とは、図1(a)で示すセル多数個取りの大判複層セル15における、セル14以外の部分を刳り取った部分のことを指す。
In addition, the
ここで、基板部分除去工程における、外ガラス基板11に斜め方向の第1のスクライブクラックを浸透させる方法について図3〜図7を用いて詳細に説明する。図3は、市販のスクライブ装置のヘッド部周辺を概略的に示した図面である。
Here, a method of infiltrating the first scribe crack in the oblique direction into the
図3に示すように、市販のスクライブ装置本体は、移動体33にベース板32を介してスクライブヘッド部31が取り付けられた構成となっており、このスクライブヘッド部31は、本図面に示すように、ステージ36に対して垂直に設置されている。そして、スクライブヘッド部31の先端には、スクライブホイールを設置するためのホイールホルダ35が取り付けられており、移動体31が紙面に対して前後に移動することにより、ステージ36に載置したガラス基板に、所望のスクライブクラックを形成することができるようになっている。
As shown in FIG. 3, the commercially available scribing apparatus main body has a configuration in which a
次に、このスクライブ装置本体に取り付ける、傾斜冶具について説明をする。図4は、スクライブ装置本体で用いる、所定の角度θの傾きを有する傾斜冶具の構成を示す正面図と側面図である。 Next, an inclination jig attached to the scribe device main body will be described. 4A and 4B are a front view and a side view showing a configuration of an inclination jig having an inclination of a predetermined angle θ used in the scribing apparatus main body.
この図4に示す様に、傾斜冶具34は、4隅に貫通孔41とねじ穴42を有し、所定の角度θの傾斜角が形成された構成となっている。この傾斜冶具34を、貫通孔41をベース板32(図3参照)に形成した突起(図示せず)と嵌合させる。そして、図3に示したスクライブ装置本体におけるベース板32上に傾斜冶具34を位置決めした状態で、ねじ穴42を通して各部品をねじ等で固定する。
As shown in FIG. 4, the tilting
次に、上記傾斜冶具34を取り付けたスクライブ装置本体について説明をする。図5は、図3に示したスクライブ装置本体に、図4で示した傾斜冶具34を取り付けたヘッド部周辺を概略的に示した図面である。
Next, the scriber main body to which the
図5に示すように、先に示した傾斜冶具34をベース板32とホイールホルダ35との間に組み込むことにより、スクライブヘッド部31に搭載されたホイールホルダ35は、傾斜冶具34で規定された所定の角度θだけ傾くこととなる。これにより、ベース板32
に載置するガラス基板に対して所定の角度θ傾けて第1のスクライブクラックを形成することができる様になる。
As shown in FIG. 5, the
The first scribe crack can be formed at a predetermined angle θ with respect to the glass substrate placed on the substrate.
次に、ガラス基板に対して所定の角度θ傾けて第1のスクライブクラックを形成する作用について説明をする。図6(a)は、図5で示したホイールホルダ35の周辺を拡大した要部拡大図面であり、図6(b)は、本図(a)のB部をさらに拡大して示し、外ガラス基板11に形成した第1のスクライブクラックの浸透状態を示す図面である。
Next, the action of forming the first scribe crack by tilting the glass substrate at a predetermined angle θ will be described. 6 (a) is an enlarged view of a main part in which the periphery of the
この図6(a)に示すように、傾斜冶具34により、スクライブホイール51は、垂直から所定の角度θだけ傾いた状態で、外ガラス基板11に第1のスクライブクラックを形成することができる。なお、本工程では、この所定の角度として、4°から10°の角度を持たせて行った。
As shown in FIG. 6A, the
上記で説明したように、本工程では、スクライブホイール51に高浸透スクライブが可能な三ツ星ダイヤモンド工業社製のペネットホイール(商品名)を用い、図5に示す装置構成とした。これに、ベルデックス社製のスクライブ装置であるクラックカッティングシステム(商品名)を組み合わせることにより、図6(b)に示すように、ほぼ完全に外ガラス基板11を切断できるほどに外ガラス基板11の厚み方向の約9割以上まで、第1のスクライブクラック(本図面の斜めクラック61)を浸透させることができる。
As described above, in this step, a penet wheel (trade name) manufactured by Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd., which is capable of highly penetrating scribe, is used for the scribe wheel 51, and the apparatus configuration shown in FIG. By combining this with a crack cutting system (trade name) which is a scribing device manufactured by Verdex, as shown in FIG. 6B, the
そして、図2(a)で示した様に、外ガラス基板11のSOで示す所定の位置に、第1のスクライブクラックに相当する斜めクラック61を形成した後、外ガラス基板13のSVで示す所定の位置に、通常のスクライブにより、垂直方向の第2のスクライブクラックを形成することができる。
Then, as shown in FIG. 2A, after forming an oblique crack 61 corresponding to the first scribe crack at a predetermined position indicated by SO of the
次に、図2(b)で示すように、セル多数個取りの大判複層セル15(図1参照)を、外ガラス基板11が凸となるように、所定の曲率で反らせる。なお、本工程においては、大判複層セル15を1500mmから10000mmの曲率半径で反らせた。
Next, as shown in FIG. 2B, the large-sized multi-layer cell 15 (see FIG. 1) having a large number of cells is warped with a predetermined curvature so that the
そして、所定の曲率で反らせた大判複層セル15の不要部分である小片21を、粘着テープや真空吸着ピンセットなどで引っ張り上げることにより、容易に外ガラス基板11から小片21を刳り抜くことができる。
And the
次に、図2(c)で示すように、小片21を刳り抜いた後、そこから露出する中ガラス基板12のSVで示す所定の位置に、通常のスクライブにより、垂直方向の第2のスクライブクラックを形成する。
Next, as shown in FIG. 2 (c), after the
次に、図2(a)で示す、外ガラス基板13のSVで示す所定の位置に形成しておいた垂直方向の第2のスクライブクラックと、図2(c)で示す、中ガラス基板12のSVで示す所定の位置に形成した第2のスクライブクラックとを、それぞれブレイクバー(図示せず)によりブレイクし、中ガラス基板12と外ガラス基板13を切断することで、図2(d)および図1(b)で示す短冊複層セル16を製造することができる。
Next, the second scribe crack in the vertical direction formed at a predetermined position indicated by SV of the
その後、短冊複層セル16における各セル14に液晶を注入して、封孔処理を行う。そして最後に、図1(c)に示す様に、複層液晶セル形成工程により、短冊複層セル16を用いて作成した各液晶セル間をダイシング加工により切断することにより、単個の複層液晶セル17が完成する。
Thereafter, a liquid crystal is injected into each
上記説明の手順により複層液晶セル17を作成することにより、従来のように、大きな3枚のガラス基板をシール材を介して貼り合わせる前に、中ガラス基板12に所定のスク
ライブクラックを形成する必要がないため、複層液晶セル17内にガラスチップやゴミの混入する心配が無く、さらに、大判複層セル15から多数個取りで複層液晶セル17を作成できるため、効率よく非常に歩留まりの高い高品位の複層液晶セル17の製造を実現できるようになる。
By creating the multi-layer
また、大きなガラス基板が4枚以上で、液晶層が3層以上の複層液晶セルの製造は、上記説明の外ガラス基板11から小片21を刳り抜いた後、同様に、さらに下に位置する外ガラス基板の不要部分を刳り抜く工程を繰り返し行うことにより、所望の複層液晶セルも製造可能である。
In addition, the production of a multi-layer liquid crystal cell having four or more large glass substrates and three or more liquid crystal layers is similarly positioned further after the
次に、本発明の複層液晶セルの製造方法により作成した複層液晶セル17の構成について説明をする。
Next, the structure of the multilayer
本発明の複層液晶セルの製造方法により製造した複層液晶セルは、図2(d)に示すように、外ガラス基板11の断面の少なくとも一方の断面が斜め形状を有する構成となる。また、中ガラス基板12は、必ず斜め断面形状を有する外ガラス基板11よりも寸法が大きくなる。
The multi-layer liquid crystal cell manufactured by the multi-layer liquid crystal cell manufacturing method of the present invention has a configuration in which at least one of the cross sections of the
ここで、この複層液晶セルの構成例について説明をする。図7は、本発明の複層液晶セルの製造方法により作成可能な複層液晶セル17の形状を説明するための図面である。なお、図7(a)で示した図面は、図2に示した基板部分除去工程における図2(c)に相当する図面である。
Here, the structural example of this multilayer liquid crystal cell is demonstrated. FIG. 7 is a view for explaining the shape of a multilayer
本発明の複層液晶セルの製造方法で製造可能な複層液晶セルの形状は、図7(a)におけるSVで示す第2のスクライブクラックに相当する垂直方向のスクライブクラックの位置を移動させることにより、下記に示す合計4種類の構成を製造可能である。 The shape of the multi-layer liquid crystal cell that can be produced by the multi-layer liquid crystal cell production method of the present invention is to move the position of the vertical scribe crack corresponding to the second scribe crack indicated by SV in FIG. Thus, a total of four types of configurations shown below can be manufactured.
図7(a)は、図2(c)と同じ構成を示しており、これにより得られる図2(d)に示した第1の形状は、外ガラス基板11の両端面が、中ガラス基板12の両端面よりも短く、かつ外ガラス基板13の左端面が、中ガラス基板12の左端面より短く、外ガラス基板13の右端面が、中ガラス基板12の右端面より長い形状を有するものとなる。
FIG. 7A shows the same configuration as FIG. 2C, and the first shape shown in FIG. 2D obtained thereby is that both end surfaces of the
また、第2の形状は、図7(b)で示す構成例であり、外ガラス基板11の両端面が、中ガラス基板12の両端面よりも短く、かつ外ガラス基板13の左右端面も、中ガラス基板12よりも短い形状を有するものである。
Further, the second shape is a configuration example shown in FIG. 7B, in which both end surfaces of the
また、第3の形状は、図7(c)で示す構成例であり、外ガラス基板11の両端面が、中ガラス基板12の両端面よりも短く、かつ外ガラス基板13の左右端面が、中ガラス基板12よりも長い、つまり、外ガラス基板11、中ガラス基板12、外ガラス基板13が両端面で階段状に位置ずれした形状を有するものである。
Further, the third shape is a configuration example shown in FIG. 7C, in which both end surfaces of the
また、第4の形状は、図7(d)で示す構成例であり、外ガラス基板11の両端面が、中ガラス基板12の両端面よりも短く、外ガラス基板13の左端面が、中ガラス基板12の左端面より長く、かつ外ガラス基板13の右端面が、中ガラス基板12の右端面より短い形状を有するものである。
The fourth shape is a configuration example shown in FIG. 7D, in which both end faces of the
次に、本発明の複層液晶セルにおける2つの構成例について詳細に説明する。
先に説明した図6(b)に示すように、基板部分除去工程にて、外ガラス基板11の厚み方向にほぼ完全なスクライブクラックを形成でき、かつ図2(b)に示すように、大判複層セル15を外ガラス基板11が凸となるように、所定の曲率で反らせることができる
のであれば、不要な小片21を容易に刳り取ることができる。したがって、上記2つの要件を満たすのであれば、この基板部分除去工程を行う外ガラス基板11のみに薄い基板を用いて、他のガラス基板は一般的に液晶パネルに用いられる比較的厚い基板を用いても同様に複層液晶セルを構成することができる。
Next, two structural examples in the multilayer liquid crystal cell of the present invention will be described in detail.
As shown in FIG. 6B described above, in the substrate partial removal step, almost complete scribe cracks can be formed in the thickness direction of the
ここで、複層液晶パネル17における外ガラス基板11のみに薄いガラス基板を用いて、他のガラス基板は一般的に液晶パネルに用いられる厚いガラス基板を用いた際の第1の構成例と第2の構成例を説明する。
Here, a thin glass substrate is used only for the
第1の構成例は、複層液晶パネル17における、外ガラス基板11に0.3mmの板厚のガラス基板を用い、中ガラス基板12と外ガラス基板13に0.5mmの板厚のガラス基板を用いる。そして、外ガラス基板11と中ガラス基板12とで挟持される液晶層で構成される第1の液晶セルのセルギャップが、中ガラス基板12と外ガラス基板13とで挟持される液晶層で構成される第2の液晶セルのセルギャップよりも狭くなる様に構成してある。
In the first configuration example, a glass substrate having a thickness of 0.3 mm is used as the
そしてこの第1の構成例は、本発明の複層液晶セル17を光ピックアップに搭載し、背景技術で説明をした、収差補正機能、可変焦点レンズ機能と可変位相差板機能の内2つの機能を、第1の液晶セルと第2の液晶セルのそれぞれに持たせるとともに、上記セルギャップの小さな第1の液晶セルでは、これら機能の内の位相変調量が小さいものを、第2の液晶セルでは、位相変調量が第1の液晶セルに比べて大きいものを備えた場合に好適となる。
In this first configuration example, the multilayer
この様にして構成された第1の構成例における複層液晶セルは、光ピックアップを搭載した光ディスク記録再生装置における外部環境の温度変化が生じたとしても、第1液晶セルはセルギャップが狭いため、ギャップ変動が第2の液晶セルに比べて小さくなる。それに対して、第2の液晶セルでは、中ガラス基板12と外ガラス基板13とがともに比較的厚い厚みのガラス基板を用いているので、そのギャップ変動も小さくなる。
The multi-layer liquid crystal cell in the first configuration example configured as described above has a narrow cell gap even if a temperature change of the external environment occurs in an optical disk recording / reproducing apparatus equipped with an optical pickup. The gap fluctuation is smaller than that of the second liquid crystal cell. On the other hand, in the second liquid crystal cell, since both the
そして、この第1の構成例は、外的環境の変化に対しても常に安定した複層液晶セルとすることができ、前述した基板部分除去工程における2つの要件を満たしているので、先に示した製造方法における発明の効果と同様の効果を得ることができる。 The first configuration example can be a multi-layer liquid crystal cell that is always stable against changes in the external environment, and satisfies the two requirements in the substrate partial removal process described above. Effects similar to those of the invention in the manufacturing method shown can be obtained.
また、上記ガラス基板厚の関係は、下記記載の第2の構成例にも適用可能となる。
第2の構成例は、先の構成例と同様に、外ガラス基板11に0.3mmの板厚のガラス基板を用い、中ガラス基板12と外ガラス基板13に0.5mmの板厚のガラス基板を用いる。そして、複層液晶セル17における第1の液晶セルと第2の液晶セルのセルギャップをともに同じとした構成である。
The relationship of the glass substrate thickness can also be applied to the second configuration example described below.
As in the previous configuration example, the second configuration example uses a glass substrate having a thickness of 0.3 mm for the
そして、本構成例では、第2の液晶セルに、大きな位相変化量の収差補正機能を持たせる。それに対して、第1の液晶セルは、小さな位相変化量で駆動して、収差補正の微調を行うための機能を持たせた構成となっている。 In this configuration example, the second liquid crystal cell is provided with an aberration correction function with a large amount of phase change. On the other hand, the first liquid crystal cell has a configuration that is driven with a small amount of phase change and has a function for fine adjustment of aberration correction.
本構成例によれば、例え外部環境の温度変化があったとしても、外ガラス基板11が比較的薄いガラス基板により構成されていることにより、第1の液晶セルのセルギャップが大きく変動したとしても、第1の液晶セルに与える位相変調量は元々小さいものであるので、位相変化量に対する影響を小さいものとすることができる。それに対して、第2の液晶セルは、比較的厚いガラス厚の中ガラス基板11と外ガラス基板12で構成されているので、例え外的環境の温度変化があったとしても、セルギャップ変動を極力抑えることができる。
According to this configuration example, even if there is a temperature change in the external environment, it is assumed that the cell gap of the first liquid crystal cell greatly fluctuates because the
この様な作用を受けて、第2の構成例は、第1の液晶セルと第2の液晶セルを通過するレーザ光における所望の収差を補正することができるようになる。さらに、本構成の製造上の効果は、上述したのと同じ効果を得ることができる。 By receiving such an action, the second configuration example can correct a desired aberration in the laser light passing through the first liquid crystal cell and the second liquid crystal cell. Furthermore, the same effects as described above can be obtained from the manufacturing effects of this configuration.
つぎに、本発明の複層液晶セル17の他の製造法方法について説明する。
本実施例で説明する製造方法は、先に示した実施例1の製造方法に加えて、特に、外ガラス基板を薄くするための外ガラス基板研磨工程を含むものである。これにより、本実施例に記載の製造方法を採用すれば、最終的に得られるセルの厚みを薄くした複層液晶セルを製造することができる。
Next, another method for producing the multilayer
The manufacturing method described in the present embodiment includes an outer glass substrate polishing step for thinning the outer glass substrate, in addition to the manufacturing method of the first embodiment described above. Thereby, if the manufacturing method described in the present embodiment is adopted, a multilayer liquid crystal cell in which the thickness of the finally obtained cell is reduced can be manufactured.
なお、本実施例における複層液晶セルの製造方法と、実施例1に記した製造方法とは、大判複層セル形成工程のみが異なっており、他の工程(基板部分除去工程、複層液晶セル形成工程)は同じである。したがって、下記の説明では、本実施例における特徴部分である大判複層セル形成工程を主に説明する。 Note that the manufacturing method of the multi-layer liquid crystal cell in this example differs from the manufacturing method described in Example 1 only in the large format multi-layer cell forming process, and other processes (substrate partial removing process, multi-layer liquid crystal) The cell formation step) is the same. Therefore, in the following description, the large-sized multilayer cell forming process which is a characteristic part in the present embodiment will be mainly described.
まず、本実施例における特徴部分である大判複層セル形成工程について詳細に説明する。図8(a)は、大判復層セル形成工程におけるセル形成工程を説明するための図面であり、図8(b)は、外ガラス基板研磨工程と、基板切断工程を説明するための図面である。 First, the large-sized multilayer cell forming step, which is a characteristic part in the present embodiment, will be described in detail. FIG. 8A is a diagram for explaining a cell forming process in the large-sized recovery layer cell forming process, and FIG. 8B is a diagram for explaining an outer glass substrate polishing process and a substrate cutting process. is there.
まず、厚さ0.3mmの外ガラス基板11、13の一方の面と、厚さ0.3mmの中ガラス基板12の両方の面に所定の形状の透明電極を形成した後、配向膜を形成する。そして、図8の(a)に示す、中ガラス基板12の一方の面の両端にスクライブクラック105を設ける。つぎに、中ガラス基板12の両面に、透明電極が対向して配置するように、外ガラス基板11、13をシール材(図示せず)と、外周シール101を介して貼り合わせて、セル14を多数個取りした第1の大判複層セル115を形成する。なお、この外周シール101は、全てのセル14を囲繞して設けるとともに、開口部102を設けている。以上の工程が、大判複層セル形成工程におけるセル形成工程に相当する。
First, a transparent electrode having a predetermined shape is formed on one surface of the
ここで、上記外周シール101を介して、外ガラス基板11、13の間に中ガラス基板12を配して外ガラス基板研磨工程を行う理由について説明する。
例えば、300mm×300mmの第1の大判複層セル115を製造するためには、外ガラス基板11、13と中ガラス基板12の厚さを、一連の製造プロセスにおける取り扱いの都合上、各々0.3mm以上のガラス基板を用いるのが好ましいとされている。それ故に、2枚の外ガラス基板11、13の間に中ガラス基板12を所定の間隙をもって貼り合わせた第1の大判複層セル115は、厚さが、0.9mm以上になってしまうこととなる。そこで、この0.9mm厚の第1の大判複層セル115を0.6mm厚とするためには、第1の大判複層セル115を形成した後に、外ガラス基板11、13の両側表面を薄くする研磨工程を行わなくてはならない。
Here, the reason why the
For example, in order to manufacture the first large-sized multilayer cell 115 of 300 mm × 300 mm, the thicknesses of the
ところが、実施例1で示した図1(a)における大判複層セル15の構成のまま、外ガラス基板11、13の研磨を行うと、この外ガラス基板研磨工程で使用する研磨液と研磨砥粒が、大判複層セル15におけるセル14内や、隣接するセル14間に侵入してしまうこととなる。一旦進入した研磨液や研磨砥粒は、後に排除することは難しくなるので、できるだけ研磨液や研磨砥粒の、ガラス基板間への進入を抑えるのが望ましい。そこで、本実施例においては、図8(a)に示す第1の大判複層セル115の様に、基板の外縁部に外周シール101を設けて、外ガラス基板研磨工程で使用する研磨液と研磨砥粒のセル14内への侵入、または隣接するセル14間への侵入を防ぐ手段を採用した。
However, when the
なお、この外周シール101は、後に行う基板部分除去工程の障害となるので、本実施例の製造方法では、予め中ガラス基板12にスクライブライン105を設け、さらに、先に示した実施例1における基板部分除去工程の前に、外周シール101の両端面の切断する基板切断工程を付加している。この様に、中ガラス基板12に予めスクライブライン105を設けることと、この基板切断工程を付加することにより、3枚ガラス基板よりなる厚さ0.6mmの大判複層セル115を得て、薄型の複層液晶セル17を効率良く製造することができる。
Since the outer
また、図8(a)では明示していないが、各セル14は、実施例1と同様に、それぞれが各ガラス基板間においてシール材で囲われており、単個のセル14としての空間を確保するように貼り合わせてある。また、外ガラス基板11と中ガラス基板12、中ガラス基板12と外ガラス基板13との間のそれぞれに形成されているこれら各シール材は、同一形状のものが重ねて配置されている。
Further, although not explicitly shown in FIG. 8A, each
次に、上記工程にて設けた外周シール101における、先に示した開口部102を封孔材103で封孔する。この開口部102を設けた理由は、中ガラス基板12の両側に外ガラス基板11、13を貼り合わせる際に、間に介在する空気を外部に逃がすためのものである。したがって、このガラス基板の貼り合わせを真空中で行う場合は、この開口部102は必ずしも必要なものではない。その後、研磨液と研磨砥粒を用いて、外ガラス基板研磨工程にて外ガラス基板11と外ガラス基板13の両面を厚さ0.15mmまで研磨する。このとき、先に説明した通り、第1の大判複層セル115には、外周シール101が形成されているので、研磨液や研磨砥粒は、セル14内、および隣接するセル14間に侵入することはない。
Next, the
次に、基板切断工程にて、中ガラス基板12に設けたスクライブクラック105とほぼ同じ位置に、通常のスクライブ工程により外ガラス基板11、13にスクライブクラックを形成し、外ガラス基板11、13とともに中ガラス基板12を切断し、図8(b)に示す第2の大判複層セル116を形成する。
Next, in the substrate cutting step, scribe cracks are formed on the
上述した工程を経て得られた第2の大判複層セル116を用いて、以下の工程(基板部分除去工程、複層液晶セル形成工程)を実施例1と同様に行う。図9(a)は、図8(b)で得られた第2の大判複層セルを用いた基板部分除去工程を説明するための図面であり、本図9(b)は、基板部分除去工程により得られる短冊複層セルを示す図面であり、本図9(c)は、複層液晶セル形成工程を説明するための図面である。 Using the second large-sized multilayer cell 116 obtained through the above-described steps, the following steps (substrate partial removing step, multilayer liquid crystal cell forming step) are performed in the same manner as in Example 1. FIG. 9A is a diagram for explaining a substrate partial removal process using the second large-sized multilayer cell obtained in FIG. 8B, and FIG. It is drawing which shows the strip multilayer cell obtained by a process, and this FIG.9 (c) is drawing for demonstrating a multilayer liquid crystal cell formation process.
図9(a)に示す様に、実施例1と同様にして、外周シール101の両側が切断された第2の大判複層セル116を、基板部分除去工程を経て、図9(b)に示す短冊形状の短冊複層セル16を得る。このとき、第2の大判複層セル116の両端部分の外周シール101は、図8(b)で示した基板切断工程によって除去されているので、この基板部分除去工程を実施例1と同様にして行うことに支障はない。
As shown in FIG. 9A, in the same manner as in the first embodiment, the second large-sized multilayer cell 116 in which both sides of the outer
その後、短冊複層セル16の注入口から液晶を注入し、その注入口に封孔処理を施して液晶セルとした後、図9(c)に示すように、複層液晶セル形成工程におけるダイシング加工により、短冊複層セル16に配した個々のセル14毎に切断して単個の複層液晶セル17を得ることができる。
Then, after injecting liquid crystal from the inlet of the
以上に示した様に、本実施例における複層液晶セルの製造方法の実施例によれば、第1の大判複層セル115を形成した後に、外ガラス基板11、13を薄く研磨し、その後に基板切断工程にて第2の大判複層セル116を得て、以後の工程は、実施例1と同様にし
て複層液晶セル17を形成するので、先に示した実施例1の製造方法で形成された複層液晶セルに比べて、より液晶セルの厚みを薄くした複層液晶セル17を容易に製造することができる。
As described above, according to the example of the method for manufacturing a multilayer liquid crystal cell in this example, after forming the first large-sized multilayer cell 115, the
11 外ガラス基板
12 中ガラス基板
13 外ガラス基板
14 セル
15 大判複層セル
16 短冊複層セル
17 複層液晶セル
21 小片
31 スクライブヘッド部
32 ベース板
33 移動体
34 傾斜冶具
35 ホイールホルダ
36 ステージ
41 貫通孔
42 ねじ穴
51 スクライブホイール
61 斜めクラック
101 外周シール
102 開口部
103 封孔材
105 スクライブクラック
115 第1の大判複層セル
116 第2の大判複層セル
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記2枚の外ガラス基板の間に少なくとも1枚の中ガラス基板を所定の間隙をもって貼り合わせて複数個の複層セルを形成する大判複層セル形成工程と、
前記2枚の外ガラス基板のいずれか、または両方に第1のスクライブクラックを形成し、前記第1のスクライブクラックに基づき前記外ガラス基板における不要な小片を刳り取る基板部分除去工程と、
前記基板部分除去工程で剥き出しになった前記中ガラス基板に第2のスクライブクラックを形成し、前記中ガラス基板を切断して、単個の複層液晶セルを切り出す複層液晶セル形成工程と、
を含むことを特徴とする複層液晶セルの製造方法。 Manufacture of a multi-layer liquid crystal cell in which two outer glass substrates and at least one inner glass substrate disposed between the two outer glass substrates are stacked and a liquid crystal layer is disposed in the gap between the glass substrates. In the method
A large-sized multilayer cell forming step of forming a plurality of multilayer cells by laminating at least one medium glass substrate with a predetermined gap between the two outer glass substrates;
A substrate part removing step of forming a first scribe crack on either or both of the two outer glass substrates, and scraping off unnecessary pieces on the outer glass substrate based on the first scribe crack;
Forming a second scribe crack in the intermediate glass substrate exposed in the substrate partial removal step, cutting the intermediate glass substrate, and cutting out a single multilayer liquid crystal cell; and
A method for producing a multi-layer liquid crystal cell, comprising:
前記複層液晶セル形成工程は、前記中ガラス基板とともに他方の外ガラス基板にも第2のスクライブクラックを形成して、前記中ガラス基板と前記他方の外ガラス基板の両方を切断する工程であることを特徴とする請求項1記載の複層液晶セルの製造方法。 The substrate part removing step is a step of scraping off unnecessary pieces on one outer glass substrate,
The multilayer liquid crystal cell forming step is a step of forming a second scribe crack in the other outer glass substrate together with the middle glass substrate, and cutting both the middle glass substrate and the other outer glass substrate. The method for producing a multi-layer liquid crystal cell according to claim 1.
前記2枚の外ガラス基板を研磨して、基板の厚みを薄くする外ガラス基板研磨工程と
前記外周シールにおける2辺を、前記スクライブラインに沿って前記外ガラス基板とともに前記中ガラス基板を切断する基板切断工程と、
を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の複層液晶セルの製造方法。 The large-sized multilayer cell forming step includes sandwiching the middle glass substrate in which scribe lines are previously provided at both ends of the substrate, and a plurality of sealing materials and an outer peripheral seal surrounding all of the plurality of sealing materials. A cell forming step of bonding the two outer glass substrates with a predetermined gap; an outer glass substrate polishing step of polishing the two outer glass substrates to reduce the thickness of the substrate; and two sides of the outer peripheral seal. A substrate cutting step for cutting the middle glass substrate together with the outer glass substrate along the scribe line;
5. The method for producing a multilayer liquid crystal cell according to claim 1, comprising:
少なくとも一方の外ガラス基板の断面形状が、前記液晶層に接するガラス基板面を下底、前記液晶層とは反対側のガラス基板面を上底とした場合に、前記上底よりも前記下底のサイズを大とした台形形状であることを特徴とする複層液晶セル。 In a multilayer liquid crystal cell in which two outer glass substrates and at least one inner glass substrate disposed between the two outer glass substrates are stacked and a liquid crystal layer is disposed in the gap between the glass substrates,
When the cross-sectional shape of at least one of the outer glass substrates is such that the glass substrate surface in contact with the liquid crystal layer is the lower base and the glass substrate surface opposite to the liquid crystal layer is the upper base, the lower base is more than the upper base. A multilayer liquid crystal cell having a trapezoidal shape with a large size.
と、前記中ガラス基板と他方のガラス基板とで挟持される第2の液晶セルとにより構成され、
さらに、前記第1の液晶セルのセルギャップは、前記第2の液晶セルのセルギャップに比べて小さいことを特徴とする請求項7に記載の複層液晶セル。 A first liquid crystal cell in which the number of the middle glass substrates is one and the cross-sectional shape of one outer glass substrate has the trapezoidal shape, and is sandwiched between the one outer glass substrate and the middle glass substrate. And a second liquid crystal cell sandwiched between the middle glass substrate and the other glass substrate,
8. The multi-layer liquid crystal cell according to claim 7, wherein a cell gap of the first liquid crystal cell is smaller than a cell gap of the second liquid crystal cell.
さらに、前記第1の液晶セルと前記第2の液晶セルのセルギャップは、ともに同じであり、前記第1の液晶セルの位相変化量よりも前記第2の液晶セルの位相変換量を大きくなる様に構成されていることを特徴とする請求項7に記載の複層液晶セル。 A first liquid crystal cell in which the number of the middle glass substrates is one and the cross-sectional shape of one outer glass substrate has the trapezoidal shape, and is sandwiched between the one outer glass substrate and the middle glass substrate. And a second liquid crystal cell sandwiched between the middle glass substrate and the other glass substrate,
Further, the cell gaps of the first liquid crystal cell and the second liquid crystal cell are the same, and the phase conversion amount of the second liquid crystal cell is larger than the phase change amount of the first liquid crystal cell. The multi-layer liquid crystal cell according to claim 7, which is configured as described above.
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Publications (2)
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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