JP2006143506A - Method for cutting glass substrate - Google Patents

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JP2006143506A JP2004333833A JP2004333833A JP2006143506A JP 2006143506 A JP2006143506 A JP 2006143506A JP 2004333833 A JP2004333833 A JP 2004333833A JP 2004333833 A JP2004333833 A JP 2004333833A JP 2006143506 A JP2006143506 A JP 2006143506A
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Eiji Taguchi
英二 田口
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of cutting failures in a method for cutting a glass substrate for constituting a liquid crystal panel. <P>SOLUTION: A seal layer 30 is formed on a first glass substrate 10 in such a manner that it includes a straight line part parallel to a line on which a scribe line SL is formed. Then, a dummy seal layer 30D is formed on the first glass substrate 10 in such a manner that it is in line symmetry with only the straight line part of the seal layer 30 with respect to the line on which the scribe line SL is formed. Further, a second glass substrate 20 is integrally stuck on the first glass substrate 10 through the seal layer 30 and the dummy seal layer 30D so as to form a laminated body 1. Thereafter, the laminated body 1 is cut and separated into each liquid crystal panel by subjecting each of the first and second substrates 10, 20 constituting the laminated body 1 to a scribing process and a breaking process. Lastly, liquid crystal is filled in the liquid crystal injection area 31 and sealed with a sealing material such as resin. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ガラス基板の切断方法に関し、特に、液晶パネルを構成するガラス基板の切断方法に関する。   The present invention relates to a method for cutting a glass substrate, and more particularly to a method for cutting a glass substrate constituting a liquid crystal panel.

近年、携帯電話やデジタルカメラ等の携帯型電子機器の普及に伴い、液晶表示装置の需要が益々高まっている。次に、そのような液晶表示装置に用いられる従来例に係る液晶パネルの製造工程の概略について、図面を参照して説明する。図11は、従来例に係る液晶パネルの製造工程を示すフロー図である。   In recent years, with the spread of portable electronic devices such as mobile phones and digital cameras, the demand for liquid crystal display devices is increasing. Next, an outline of a manufacturing process of a liquid crystal panel according to a conventional example used in such a liquid crystal display device will be described with reference to the drawings. FIG. 11 is a flowchart showing a manufacturing process of a liquid crystal panel according to a conventional example.

図11に示すように、最初に、ステップA1では、2枚のガラス基板、即ち、TFT(Thin Film Transistor)等の電子デバイスが形成されたガラス基板と、対向電極が形成されたガラス基板とを、液晶注入領域となる空間を残すようにして、シール層を介して貼り合わせることにより、積層体を形成する。ここで、2枚のガラス基板とは、ダイシングラインに沿って複数の液晶パネル領域が格子上に配置された大型のガラス基板である。   As shown in FIG. 11, first, in step A1, two glass substrates, that is, a glass substrate on which an electronic device such as a TFT (Thin Film Transistor) is formed, and a glass substrate on which a counter electrode is formed are formed. Then, the laminate is formed by pasting together through a seal layer so as to leave a space to be a liquid crystal injection region. Here, the two glass substrates are large glass substrates in which a plurality of liquid crystal panel regions are arranged on a lattice along dicing lines.

次に、ステップA2では、いわゆるスクライブ・ブレイク工程を行う。即ち、積層体の表面側のガラス基板上に、カッターホイール等を用いてスクラブラインを形成する(スクライブ工程)。その後、当該積層体を裏返し、当該裏面側からバー等で叩くことによって当該積層体に曲げ応力を加え、スクライブラインに沿って積層体の表面側のガラス基板を切断する(ブレイク工程)。同様に、積層体の裏面側のガラス基板に対してもスクライブ工程及びブレイク工程を行う。これらのスクライブ・ブレイク工程により、積層体が、所定の寸法の液晶パネルに切断分離する。   Next, in step A2, a so-called scribe / break process is performed. That is, a scrub line is formed on the glass substrate on the surface side of the laminate using a cutter wheel or the like (scribing step). Thereafter, the laminated body is turned over and a bending stress is applied to the laminated body by hitting with a bar or the like from the back surface side, and the glass substrate on the surface side of the laminated body is cut along a scribe line (break process). Similarly, a scribe process and a break process are performed on the glass substrate on the back side of the laminate. Through these scribing and breaking processes, the laminate is cut and separated into liquid crystal panels having predetermined dimensions.

次に、ステップA3では、2枚のガラス基板の間の空間に、液晶を充填してこれを封止樹脂により封止する。そして、ステップA4では、液晶が充填されて封止された液晶パネルを洗浄する。次に、ステップA5及びA6では、液晶パネルを、液晶表示装置となるモジュールに組み込み、当該モジュールを出荷する。   Next, in step A3, a liquid crystal is filled in the space between the two glass substrates and sealed with a sealing resin. In step A4, the liquid crystal panel filled with liquid crystal and sealed is washed. Next, in Steps A5 and A6, the liquid crystal panel is incorporated into a module to be a liquid crystal display device, and the module is shipped.

なお、関連する技術文献としては、例えば以下の特許文献が挙げられる。
特開平09−080449号公報
In addition, as a related technical document, the following patent documents are mentioned, for example.
JP 09-080449 A

近年の携帯機器の普及などに伴って、液晶表示装置及びその液晶パネルの小型化が進展し、液晶パネルを構成するガラス基板を高精度に切断して分離することが要求されるようになった。また、一方で、多数の液晶パネルを同一基板から得るために、ガラス基板の大型化が進展している。   With the spread of portable devices in recent years, the miniaturization of liquid crystal display devices and their liquid crystal panels has progressed, and it has become necessary to cut and separate the glass substrate constituting the liquid crystal panel with high precision. . On the other hand, in order to obtain a large number of liquid crystal panels from the same substrate, the increase in the size of the glass substrate is progressing.

しかしながら、大型のガラス基板を、図11のステップA2で示したようなスクライブ工程及びブレイク工程によって切断する際、スクライブラインに隣接するシール層の影響によって、切断応力に偏りが生じ、切断形状が悪化するという問題が生じていた。即ち、ガラス基板の切断工程において、切断不良が生じていた。   However, when a large glass substrate is cut by the scribe process and the break process as shown in Step A2 of FIG. 11, the cutting stress is biased due to the influence of the seal layer adjacent to the scribe line, and the cutting shape is deteriorated. There was a problem of doing. That is, in the cutting process of the glass substrate, cutting failure occurred.

次に、そのようなガラス基板の切断不良について、図面を参照して説明する。図12は、従来例に係るガラス基板を示す上面図である。また、図13は、従来例に係るガラス基板の切断方法を示す拡大上面図である。なお、図13は、図12のスクライブラインの形成される予定の線(図中点線)の近傍の領域S2の拡大図である。図12の左側の図はスクライブ工程後のガラス基板を示し、その右側の図は、ブレイク工程後のガラス基板を示している。   Next, the cutting defect of such a glass substrate is demonstrated with reference to drawings. FIG. 12 is a top view showing a glass substrate according to a conventional example. FIG. 13 is an enlarged top view showing a glass substrate cutting method according to a conventional example. FIG. 13 is an enlarged view of a region S2 in the vicinity of a line (a dotted line in the figure) where the scribe line in FIG. 12 is to be formed. The left figure of FIG. 12 shows the glass substrate after the scribing process, and the right figure shows the glass substrate after the breaking process.

図12に示すように、第1のガラス基板210及び第2のガラス基板220がシール層230を介して貼り合わされ、積層体201が構成される。また、積層体201は、後述するスクライブラインSLの形成される予定の線(図中点線)によって区分されている。その区分された各領域には、複数の液晶パネルの形成領域201Aが格子状に配置されている。上記シール層230は、後に液晶が充填される液晶注入領域231を囲むように、かつ当該領域の一部を開口するようにして形成されている。   As illustrated in FIG. 12, the first glass substrate 210 and the second glass substrate 220 are bonded to each other through a seal layer 230 to form a stacked body 201. Further, the stacked body 201 is divided by a line (a dotted line in the figure) on which a scribe line SL to be described later is formed. In each of the divided areas, a plurality of liquid crystal panel formation areas 201A are arranged in a grid pattern. The seal layer 230 is formed so as to surround a liquid crystal injection region 231 to be filled later with a liquid crystal and to open a part of the region.

また、第1のガラス基板210と第2のガラス基板220との間には、シール層230の他に、両ガラス基板の接着の度合いを補強するためのダミーシール層230Dが形成されている。   In addition to the seal layer 230, a dummy seal layer 230D for reinforcing the degree of adhesion between the two glass substrates is formed between the first glass substrate 210 and the second glass substrate 220.

そして、図13に示すように、スクライブ工程後の第1もしくは第2のガラス基板210,220上には、スクライブラインSLの全体に沿ってダミーシール層230Dが形成されている。そして、スクライブラインSLに沿ったブレイク工程の後では、第1もしくは第2のガラス基板210,220が、それらを貫通する溝である切断ライン201Bによって切断されて分離される。   And as shown in FIG. 13, on the 1st or 2nd glass substrate 210,220 after a scribe process, dummy seal layer 230D is formed along the whole scribe line SL. Then, after the breaking step along the scribe line SL, the first or second glass substrates 210 and 220 are cut and separated by a cutting line 201B which is a groove penetrating them.

ところが、特にスクライブラインSLの交点付近では、切断ライン201Bは、スクライブラインSLに沿って直線的に延びずに、第1もしくは第2のガラス基板210,220の意図しない不規則な割れの結果生じるバリ201Nを有するようにして形成される。このバリ201Nは、スクライブラインSLに対するシール層230やダミーシール層230Dの距離が一定でないために、切断応力が偏ることによって生じるものと考えられる。このように、従来例に係るガラス基板の切断方法では、第1もしくは第2のガラス基板210,220の切断形状が悪化するという切断不良が生じていた。   However, particularly in the vicinity of the intersection of the scribe lines SL, the cutting line 201B does not extend linearly along the scribe lines SL, resulting in unintentional irregular cracking of the first or second glass substrate 210, 220. It is formed so as to have a burr 201N. The burr 201N is considered to be caused by uneven cutting stress because the distance between the seal layer 230 and the dummy seal layer 230D with respect to the scribe line SL is not constant. Thus, in the cutting method of the glass substrate which concerns on a prior art example, the cutting defect that the cutting shape of the 1st or 2nd glass substrate 210,220 deteriorated had arisen.

上述したような切断不良をともなって分離された個々の液晶パネルを、液晶表示装置であるモジュールに組み込まれる際には、当該液晶パネルの傾きやずれ等の組み込み不良が生じていた。また、バリ201Nの部分が、剥離したり、削れたりして、異物発生の原因となっていた。結果として、液晶表示装置液晶パネルの信頼性や歩留まりが低下していた。そこで本発明は、液晶パネルを構成するガラス基板の切断方法において、その切断不良の抑止を図る。   When each individual liquid crystal panel separated with a cutting defect as described above is incorporated into a module which is a liquid crystal display device, an incorporation defect such as inclination or displacement of the liquid crystal panel has occurred. In addition, the burr 201N part was peeled off or scraped, causing foreign matter to be generated. As a result, the reliability and yield of the liquid crystal display device liquid crystal panel have been reduced. In view of this, the present invention aims to suppress cutting defects in a method for cutting a glass substrate constituting a liquid crystal panel.

本発明のガラス基板の切断方法は、上述の課題に鑑みて為されたものであり、第1のガラス基板上に、スクライブラインが形成される予定の線に対して平行な直線部分を含むように、シール層を形成する工程と、第1のガラス基板上に、スクライブラインが形成される予定の線に対してシール層の直線部分のみと線対称となるように、ダミーシール層を形成する工程と、シール層及びダミーシール層を介して、第1のガラス基板に、第2のガラス基板を貼り合わせ、当該第1及び第2のガラス基板から成る積層体を形成する工程と、積層体の表面にスクライブラインを形成する工程と、スクライブラインが形成されたガラス基板をブレイクする工程と、を含むことを特徴とする。   The glass substrate cutting method of the present invention has been made in view of the above-described problems, and includes a linear portion parallel to a line on which a scribe line is to be formed on the first glass substrate. In addition, a dummy seal layer is formed on the first glass substrate so as to be symmetrical with only the straight portion of the seal layer with respect to the line on which the scribe line is to be formed. A step of bonding a second glass substrate to a first glass substrate through a sealing layer and a dummy sealing layer, and forming a laminate composed of the first and second glass substrates; The method includes a step of forming a scribe line on the surface of the substrate, and a step of breaking the glass substrate on which the scribe line is formed.

また、本発明のガラス基板の切断方法は、上記工程において、ダミーシール層は、第1のガラス基板の端部に形成されたシール層の外側において、当該第1のガラス基板上に形成されることを特徴とする。   In the glass substrate cutting method of the present invention, in the above step, the dummy seal layer is formed on the first glass substrate outside the seal layer formed at the end of the first glass substrate. It is characterized by that.

また、本発明のガラス基板の切断方法は、上記工程において、積層体の表面にスクライブラインを形成する工程はレーザービーム照射によって行われ、スクライブラインが形成されたガラス基板をブレイクする工程は、当該ガラス基板と対向する他方のガラス基板の表面にスキージを押し当てることにより行われることを特徴とする。   Further, in the method for cutting a glass substrate of the present invention, in the above step, the step of forming a scribe line on the surface of the laminate is performed by laser beam irradiation, and the step of breaking the glass substrate on which the scribe line is formed includes: It is performed by pressing a squeegee against the surface of the other glass substrate facing the glass substrate.

本発明のガラス基板の切断方法によれば、ガラス基板上に、スクライブラインが形成される予定の線に対してシール層の直線部分のみと線対称となるように、ダミーシール層を形成した。これにより、ブレイク工程において、スクライブラインに対する切断応力の偏りが極力解消されて、従来例にみられたようなガラス基板の意図しない不規則な割れの結果生じるバリの発生が、極力低く抑えられる。即ち、ガラス基板の切断形状の悪化による切断不良が極力抑止される。   According to the method for cutting a glass substrate of the present invention, the dummy seal layer is formed on the glass substrate so as to be symmetric with respect to only the straight portion of the seal layer with respect to the line on which the scribe line is to be formed. Thereby, in the breaking process, the deviation of the cutting stress with respect to the scribe line is eliminated as much as possible, and the generation of burrs resulting from unintentional irregular cracking of the glass substrate as seen in the conventional example is suppressed as low as possible. That is, cutting defects due to deterioration of the cutting shape of the glass substrate are suppressed as much as possible.

また、上記スクライブラインの形成をレーザービーム照射により行う。そのため、カッターによるスクライブラインの形成時にみられるような切削屑の発生を抑止することができる。また、スクライブラインが形成されたガラス基板のブレイク工程を、当該ガラス基板と対向する他方のガラス基板の表面にスキージを押し当てることにより行う。そのため、バーを用いた打撃によるブレイク(いわゆるチョッパーブレイク)による場合に比して、ガラス基板の切断形状をより良好な状態に至らしめることが可能となる。   The scribe line is formed by laser beam irradiation. Therefore, generation | occurrence | production of the cutting waste seen at the time of formation of the scribe line by a cutter can be suppressed. Moreover, the break process of the glass substrate in which the scribe line was formed is performed by pressing a squeegee against the surface of the other glass substrate facing the glass substrate. Therefore, the cut shape of the glass substrate can be brought into a better state as compared with the case of a break by hitting using a bar (so-called chopper break).

また、切断形状の悪化による切断不良が抑止されたことにより、液晶パネルが一定の形状となるため、当該液晶パネルを液晶表示装置であるモジュールに組み込む際に、従来例にみられたような組み込み不良を極力回避することができる。結果として、液晶表示装置の信頼性及び歩留まりが向上する。   In addition, since the cutting failure due to the worsening of the cutting shape is suppressed, the liquid crystal panel has a fixed shape. Therefore, when the liquid crystal panel is incorporated in a module which is a liquid crystal display device, it is incorporated in the conventional example. Defects can be avoided as much as possible. As a result, the reliability and yield of the liquid crystal display device are improved.

次に、本発明の実施形態に係るガラス基板の切断方法について説明する。本実施形態において切断の対象となるガラス基板は、2枚のガラス基板から成る積層体である。最初に、切断の対象となる2枚のガラス基板から成る積層体について、図面を参照して説明する。図1、図3及び図4は、本実施形態に係るガラス基板を示す上面図である。また、図2は、図1のX−X線に沿った断面図である。   Next, a method for cutting a glass substrate according to an embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the glass substrate to be cut is a laminate composed of two glass substrates. First, a laminate composed of two glass substrates to be cut will be described with reference to the drawings. 1, 3 and 4 are top views showing the glass substrate according to the present embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG.

図1に示すように、大型の第1のガラス基板10及び第2のガラス基板20が貼り合わされて、積層体1が構成されている。第1及び第2のガラス基板10,20には、後述するスクライブラインSLが形成される予定の線(図中点線)に囲まれた複数の液晶パネルの形成領域1Aが格子上に配置されている。第1及び第2のガラス基板10,20は、接着材としてのシール層30及びダミーシール層30Dを介して、両者の液晶パネルの形成領域1Aが重なり合うようにして貼り合わされている。また、図2に示すように、第1のガラス基板10と第2のガラス基板20との間のシール層30に囲まれた領域には、後に液晶80が充填される液晶注入領域31となる空間が形成されている。   As shown in FIG. 1, a large-sized first glass substrate 10 and a second glass substrate 20 are bonded together to form a laminate 1. In the first and second glass substrates 10 and 20, a plurality of liquid crystal panel formation regions 1A surrounded by lines (dotted lines in the figure) on which scribe lines SL to be described later are to be formed are arranged on a lattice. Yes. The first and second glass substrates 10 and 20 are bonded to each other through a seal layer 30 and a dummy seal layer 30D as adhesives so that the liquid crystal panel formation region 1A overlaps. Further, as shown in FIG. 2, a region surrounded by the seal layer 30 between the first glass substrate 10 and the second glass substrate 20 becomes a liquid crystal injection region 31 that is filled later with the liquid crystal 80. A space is formed.

次に、上述したような積層体1の形成工程について、図1及び図2を参照して説明する。最初に、シール層30が、第1のガラス基板10上において、液晶注入領域31を囲み、かつ当該領域を局所的に開口する開口部を有するようにして形成される。また、シール層30は、後述するスクライブラインSLが形成される予定の線(図中点線)に対して平行な直線部分を含むように形成される。上述したシール層30は、接着材としての機能を有した樹脂から成る。   Next, the formation process of the laminated body 1 as described above will be described with reference to FIGS. First, the sealing layer 30 is formed on the first glass substrate 10 so as to surround the liquid crystal injection region 31 and to have an opening that locally opens the region. The seal layer 30 is formed so as to include a straight line portion parallel to a line (a dotted line in the figure) on which a scribe line SL to be described later is formed. The sealing layer 30 described above is made of a resin having a function as an adhesive.

さらに、第1のガラス基板10上の液晶注入領域31の外側において、第1及び第2のガラス基板20との接着の度合いを補強するダミーシール層30Dが形成される。ダミーシール層30Dは、スクライブラインSLが形成される予定の線に対して、シール層30の直線部分のみと線対称となるようにして形成される。即ち、ダミーシール層30Dは、後述するスクライブラインSLが形成される予定の線(図中点線)を挟んでシール層30の非直線部分(湾曲部分)と対向する箇所には形成されない。上述したダミーシール層30Dは、好ましくはシール層30と同様の樹脂から成り、シール層30と同一の幅及び太さを以って形成される。   Further, a dummy seal layer 30 </ b> D that reinforces the degree of adhesion to the first and second glass substrates 20 is formed outside the liquid crystal injection region 31 on the first glass substrate 10. The dummy seal layer 30 </ b> D is formed so as to be symmetric with respect to only the straight portion of the seal layer 30 with respect to the line on which the scribe line SL is to be formed. That is, the dummy seal layer 30 </ b> D is not formed at a position facing a non-linear portion (curved portion) of the seal layer 30 across a line (a dotted line in the figure) where a scribe line SL to be described later is to be formed. The dummy seal layer 30 </ b> D described above is preferably made of the same resin as the seal layer 30 and is formed with the same width and thickness as the seal layer 30.

そして、シール層30及びダミーシール層30Dを介して、第1のガラス基板10上に、第2のガラス基板20が貼り合わされる。ここで、第1のガラス基板10と第2のガラス基板20との間には、シール層30に囲まれた空間である液晶注入領域31が形成される。   And the 2nd glass substrate 20 is bonded together on the 1st glass substrate 10 through the seal layer 30 and the dummy seal layer 30D. Here, a liquid crystal injection region 31 that is a space surrounded by the seal layer 30 is formed between the first glass substrate 10 and the second glass substrate 20.

なお、積層体1は、図3に示すように、隣接する液晶注入領域31の辺を構成するシール層30同士が、スクライブラインが形成される予定の線(図中点線)に対して線対称となるように形成されてもよい。この場合、ダミーシール層30Dは、第1のガラス基板10の端部の領域(いわゆるダミーガラス領域)のみに形成される。即ち、ダミーシール層30Dは、第1のガラス基板10の端部のスクライブラインSLの形成される予定の線に対して、当該端部の液晶注入領域31の外側の辺を構成するシール層30と線対称となるようにして、当該端部の液晶注入領域31の外側に形成される。   In addition, as shown in FIG. 3, in the stacked body 1, the seal layers 30 constituting the sides of the adjacent liquid crystal injection regions 31 are symmetrical with respect to a line (a dotted line in the figure) where a scribe line is to be formed. May be formed. In this case, the dummy seal layer 30 </ b> D is formed only in the end region (so-called dummy glass region) of the first glass substrate 10. That is, the dummy seal layer 30 </ b> D forms a seal layer 30 that forms an outer side of the liquid crystal injection region 31 at the end with respect to a line on which the scribe line SL is formed at the end of the first glass substrate 10. And is formed outside the liquid crystal injection region 31 at the end.

上述した積層体1は、図4に示すように、後述するスクライブ工程及びブレイク工程によって、個々の液晶パネル1Pに切断されて分離される。次に、上述した第1及び第2のガラス基板10,20から成る積層体1の切断方法について、図面を参照して説明する。図5乃至図7は、本実施形態に係るガラス基板の切断方法を示す斜視図である。なお、図5乃至図7において、第1及び第2のガラス基板10,20の間の液晶注入領域31の図示は、省略されているものとする。   As shown in FIG. 4, the laminated body 1 described above is cut into individual liquid crystal panels 1P and separated by a scribing process and a breaking process described later. Next, the cutting method of the laminated body 1 which consists of the 1st and 2nd glass substrates 10 and 20 mentioned above is demonstrated with reference to drawings. 5 to 7 are perspective views showing a glass substrate cutting method according to this embodiment. 5 to 7, the illustration of the liquid crystal injection region 31 between the first and second glass substrates 10 and 20 is omitted.

図5に示すように、第1のガラス基板10が上層となるように積層体1を準備する。そして、カッター40を用いた切削により、スクライブラインSLが形成される予定の線上に沿って、積層体1の第1のガラス基板10上にスクライブラインSLを形成する。このとき形成されるスクライブラインSLとは、所定の圧力及び速度を伴うカッター40の刃先のガラス基板10への食い込みにより発生する垂直クラック(ひび割れ)、即ちメディアンクラック(Median Crack)100が連続的に形成されたものである。以下、スクライブラインSLを形成する工程をスクライブ工程と呼ぶことにする。   As shown in FIG. 5, the laminated body 1 is prepared so that the 1st glass substrate 10 may become an upper layer. Then, the scribe line SL is formed on the first glass substrate 10 of the stacked body 1 along the line on which the scribe line SL is to be formed by cutting using the cutter 40. The scribe line SL formed at this time is a vertical crack (crack) generated by the biting of the blade 40 of the cutter 40 with a predetermined pressure and speed into the glass substrate 10, that is, a median crack 100 is continuously formed. It is formed. Hereinafter, the process of forming the scribe line SL is referred to as a scribe process.

また、図6に示すように、スクライブ工程は、レーザー照射器40Aを用いたレーザービーム照射により行われてもよい。即ち、スクライブラインSLが形成される予定の線上に沿ったレーザービーム照射によって、当該箇所のガラス基板10を急速に加熱する。その後、不図示の冷却器や冷却用流体等を用いて当該箇所のガラス基板を急速に冷却する。ここで、上記レーザービーム照射は、特に限定されないが、COレーザーを用いることが好ましい。また、不図示の冷却用流体を用いる場合、当該冷却用流体としては、水もしくはその他の液体が用いられる。これらの急速な加熱及び冷却により、ガラス基板10に垂直クラックが発生し、スクライブラインSLが形成される。 Further, as shown in FIG. 6, the scribing process may be performed by laser beam irradiation using a laser irradiator 40A. In other words, the glass substrate 10 at that location is rapidly heated by laser beam irradiation along the line on which the scribe line SL is to be formed. Then, the glass substrate of the said location is rapidly cooled using a cooler, a cooling fluid, etc. (not shown). Here, the laser beam irradiation is not particularly limited, but a CO 2 laser is preferably used. When a cooling fluid (not shown) is used, water or other liquid is used as the cooling fluid. Due to these rapid heating and cooling, vertical cracks are generated in the glass substrate 10 and scribe lines SL are formed.

このようなレーザービーム照射によるスクライブ工程では、カッター40を用いた切削によるスクライブ工程とは異なり、スクライブラインSLの形成時に切削屑が生じない。そのため、当該切削屑が、第1もしくは第2のガラス基板10,20上や、それらの間に付着しない。従って、第1もしくは第2のガラス基板10,20に、上記切削屑を起因とした汚れや損傷が生じない。   In such a scribing process by laser beam irradiation, unlike the scribing process by cutting using the cutter 40, no cutting waste is generated when the scribe line SL is formed. Therefore, the cutting waste does not adhere on or between the first or second glass substrates 10 and 20. Therefore, the first or second glass substrate 10 or 20 is not soiled or damaged due to the above-mentioned cutting waste.

次に、図7に示すように、スクライブラインSLが形成された第1のガラス基板10が下層となるように積層体1を反転する。そして、スクライブラインSLに対応する第2のガラス基板20の線上に沿って、所定の圧力によりスキージ50を押し当てる。これにより、積層体1に曲げ応力が加わり、第1のガラス基板10のスクライブラインSL、即ちメディアンクラック100がさらに伸張して、当該第1のガラス基板10が切断される。以下、このような切断工程をブレイク工程と呼ぶことにする。   Next, as shown in FIG. 7, the laminated body 1 is inverted so that the first glass substrate 10 on which the scribe line SL is formed becomes a lower layer. Then, the squeegee 50 is pressed with a predetermined pressure along the line of the second glass substrate 20 corresponding to the scribe line SL. Thereby, a bending stress is applied to the laminated body 1, the scribe line SL of the first glass substrate 10, that is, the median crack 100 is further expanded, and the first glass substrate 10 is cut. Hereinafter, such a cutting process will be referred to as a breaking process.

上述したブレイク工程は、スキージ50を第2のガラス基板20に押し当てる、いわゆるソフトブレイク方式である。この方式によるブレイク工程では、積層体1への曲げ応力が急激に加わらない。そのため、その切断形状を著しく悪化させるような切断、即ち、第1及び第2のガラス基板10,20の同時切断が起こることを極力抑止することができる。   The breaking process described above is a so-called soft breaking method in which the squeegee 50 is pressed against the second glass substrate 20. In the breaking process by this method, bending stress to the laminated body 1 is not abruptly applied. Therefore, it is possible to suppress as much as possible that cutting that significantly deteriorates the cutting shape, that is, simultaneous cutting of the first and second glass substrates 10 and 20 occurs.

次に、上記ブレイク工程の詳細について、図面を参照して説明する。図8及び図9は、図7のS−S線に沿った断面図である。なお、図8は、スキージ50を第2のガラス基板20に押し当てる前の状態を示しており、図9は、スキージ50を第2のガラス基板20に押し当てている途中もしくは押し当てた後の状態を示している。また、図8及び図9において、第1及び第2のガラス基板10,20の間の液晶注入領域31の図示は、省略されているものとする。   Next, details of the breaking step will be described with reference to the drawings. 8 and 9 are cross-sectional views taken along the line SS of FIG. 8 shows a state before the squeegee 50 is pressed against the second glass substrate 20, and FIG. 9 shows a state during or after the squeegee 50 is pressed against the second glass substrate 20. Shows the state. 8 and 9, the liquid crystal injection region 31 between the first and second glass substrates 10 and 20 is not shown.

図8に示すように、スキージ50を第2のガラス基板20に押し当てる前の状態では、メディアンクラック100が、第1のガラス基板10を貫通しない深さを以って形成されている。   As shown in FIG. 8, the median crack 100 is formed with a depth that does not penetrate the first glass substrate 10 before the squeegee 50 is pressed against the second glass substrate 20.

そして、図9に示すように、スキージ50が、スクライブラインSLに対応する第2のガラス基板20の線上に押し当てられると、積層体1に曲げ応力が加わる。この曲げ応力により、スキージ50が押し当てられる方向に向かって押し出されるように、第2のガラス基板20のみならず第1のガラス基板10が変形する。   As shown in FIG. 9, when the squeegee 50 is pressed onto the line of the second glass substrate 20 corresponding to the scribe line SL, bending stress is applied to the laminate 1. Due to this bending stress, not only the second glass substrate 20 but also the first glass substrate 10 is deformed so that the squeegee 50 is pushed out in the pressing direction.

そして、上記曲げ応力が第1のガラス基板10の表面に対する引張り応力となる。この引っ張り応力は、第1のガラス基板10の表面でメディアンクラック100を引き裂くように作用して、当該メディアンクラック100の深さを伸張させる。即ち、第1のガラス基板10のメディアンクラック100(即ちスクライブラインSL)が、第2のガラス基板20の方向に向かって伸張する。このメディアンクラック100の伸張により、スクライブラインSLに沿って第1のガラス基板10を貫通する伸張クラック101が発生し、当該第1のガラス基板10がスクライブラインSLに沿って切断される。   The bending stress becomes a tensile stress with respect to the surface of the first glass substrate 10. This tensile stress acts so as to tear the median crack 100 on the surface of the first glass substrate 10 and extends the depth of the median crack 100. That is, the median crack 100 (that is, the scribe line SL) of the first glass substrate 10 extends toward the second glass substrate 20. The extension of the median crack 100 generates an extension crack 101 that penetrates the first glass substrate 10 along the scribe line SL, and the first glass substrate 10 is cut along the scribe line SL.

なお、上記ブレイク工程は、第2のガラス基板20に所定の衝撃が加わるような所定の加速度を以って、当該第2のガラス基板20をスキージやバーによって打撃するものであってもよい。ただし、この場合、スキージ50の押し当てによるブレイク工程に比して、切断形状の悪化や切断精度の低下が生じ易くなる。   The breaking step may be performed by hitting the second glass substrate 20 with a squeegee or a bar with a predetermined acceleration such that a predetermined impact is applied to the second glass substrate 20. However, in this case, compared to the breaking process by pressing the squeegee 50, the cutting shape is deteriorated and the cutting accuracy is easily reduced.

また、上記ブレイク工程は、スキージ50に替えて、不図示のローラーを、第2のガラス基板20に所定の圧力を加えるようにして押し当てながら移動することにより行われてもよい。   Further, the breaking step may be performed by moving a roller (not shown) while pressing the second glass substrate 20 while applying a predetermined pressure in place of the squeegee 50.

同様に、上述したスクライブ工程及びブレイク工程は、第2のガラス基板20に対しても行われる。即ち、第2のガラス基板20が上層となるように積層体1を反転した後、第1のガラス基板10と同様に、第2のガラス基板20の線上に、スクライブラインSLを形成する。ここで、第2のガラス基板20に形成されるスクライブラインSLは、第1のガラス基板10に形成されたスクライブラインSLと重なる線上に形成される。   Similarly, the scribe process and the break process described above are also performed on the second glass substrate 20. That is, after the laminated body 1 is inverted so that the second glass substrate 20 becomes an upper layer, the scribe line SL is formed on the line of the second glass substrate 20 in the same manner as the first glass substrate 10. Here, the scribe line SL formed on the second glass substrate 20 is formed on a line overlapping the scribe line SL formed on the first glass substrate 10.

そして、スクライブラインSLが形成された第2のガラス基板20が下層となるように積層体1を反転して、第1のガラス基板10の表面から、スクライブラインSLに対応する線上に沿って、所定の圧力によりスキージ50を押し当てる。これにより、第2のガラス基板20のスクライブラインSL、即ちメディアンクラック100がさらに伸張して、当該第2のガラス基板20が切断される。こうして、第1及び第2のガラス基板10,20から成る積層体1が、その第1の方向のスクライブラインSLに沿って切断分離される。   And the laminated body 1 is reversed so that the 2nd glass substrate 20 in which the scribe line SL was formed becomes a lower layer, from the surface of the 1st glass substrate 10 along the line corresponding to the scribe line SL, The squeegee 50 is pressed with a predetermined pressure. Thereby, the scribe line SL of the second glass substrate 20, that is, the median crack 100 further expands, and the second glass substrate 20 is cut. Thus, the laminated body 1 composed of the first and second glass substrates 10 and 20 is cut and separated along the scribe line SL in the first direction.

さらに、図示しないが、上述した第1及び第2のガラス基板10,20に対するスクライブ工程及びブレイク工程は、積層体1の平面の第2の方向に沿って行われる。これにより、大型の第1及び第2のガラス基板10,20が、図4に示したような個々の液晶パネル1Pに切断分離される。また、図4の液晶注入領域31には液晶80が充填されて、当該領域は樹脂等の封止材32により封止される。こうして液晶パネルが完成する。   Further, although not shown, the scribing process and the breaking process for the first and second glass substrates 10 and 20 described above are performed along the second direction of the plane of the laminate 1. As a result, the large first and second glass substrates 10 and 20 are cut and separated into individual liquid crystal panels 1P as shown in FIG. Further, the liquid crystal injection region 31 of FIG. 4 is filled with liquid crystal 80, and the region is sealed with a sealing material 32 such as resin. A liquid crystal panel is thus completed.

ここで、上述したスクライブ工程及びブレイク工程により切断された積層体1のガラス基板の切断形状は、従来例にみられたような不規則な割れを生じないので、バリを有していない。次に、上記切断形状の詳細について、図面を参照して説明する。   Here, the cut shape of the glass substrate of the laminated body 1 cut by the scribing process and the breaking process described above does not have an irregular crack as seen in the conventional example, and therefore has no burrs. Next, details of the cut shape will be described with reference to the drawings.

図10は、本実施形態に係るガラス基板の切断方法を示す拡大上面図である。なお、図10は、図1のスクライブラインの形成される予定の線(図中点線)の近傍の領域S1の拡大図である。図10の左側の図はスクライブ工程後の第1もしくは第2のガラス基板10,20を示し、その右側の図は、ブレイク工程後の第1もしくは第2のガラス基板10,20を示している。   FIG. 10 is an enlarged top view showing the glass substrate cutting method according to the present embodiment. FIG. 10 is an enlarged view of a region S1 in the vicinity of a line (a dotted line in the figure) where the scribe line in FIG. 1 is to be formed. 10 shows the first or second glass substrate 10 or 20 after the scribing process, and the right figure shows the first or second glass substrate 10 or 20 after the breaking process. .

図10に示すように、スクライブ工程後の第1もしくは第2のガラス基板10,20上では、シール層30の直線部分のみとダミーシール層30Dとが、スクライブラインSLに対して線対称に形成されている。即ち、シール層30の直線部分とスクライブラインSLとの最短距離Aが、ダミーシール層30DとスクライブラインSLとの最短距離Bに等しい。また、スクライブラインSLを挟んでシール層30の非直線部分(湾曲部分)と対向する箇所には、ダミーシール層30Dは形成されていない。   As shown in FIG. 10, on the first or second glass substrate 10 or 20 after the scribe process, only the straight portion of the seal layer 30 and the dummy seal layer 30D are formed symmetrically with respect to the scribe line SL. Has been. That is, the shortest distance A between the straight portion of the seal layer 30 and the scribe line SL is equal to the shortest distance B between the dummy seal layer 30D and the scribe line SL. Further, the dummy seal layer 30 </ b> D is not formed at a location facing the non-linear portion (curved portion) of the seal layer 30 across the scribe line SL.

上述したようなスクライブラインSL、シール層30及びダミーシール層30Dの位置関係により、積層体1のガラス基板のブレイク工程の際、その切断応力が、第1もしくは第2のガラス基板10,20に、スクライブラインSLの両側に(その左右方向に対して)偏らずに、即ちスクライブラインSLに対して線対称に加わる。従って、従来例にみられたようなガラス基板の意図しない不規則な割れの結果生じるバリを極力生じさせずにスクライブラインSLが適切に切断されて、切断ライン1Bが形成される。即ち、スクライブラインSLとのずれを極力生じさせることなく、切断ライン1Bが形成される。   Due to the positional relationship between the scribe line SL, the seal layer 30 and the dummy seal layer 30D as described above, the cutting stress is applied to the first or second glass substrate 10 or 20 during the glass substrate break process of the laminate 1. The scribe line SL is added to both sides of the scribe line SL without being biased (in the left-right direction), that is, symmetrical to the scribe line SL. Therefore, the scribe line SL is appropriately cut without generating burrs generated as a result of unintentional irregular cracking of the glass substrate as in the conventional example, and the cut line 1B is formed. That is, the cutting line 1B is formed without causing a deviation from the scribe line SL as much as possible.

こうして、従来例にみられたようなガラス基板の切断形状の悪化、即ち切断不良を極力抑止して、積層体1を個々の液晶パネル1Pに切断分離することができる。従って、そのように分離された個々の液晶パネル1Pを、液晶表示装置であるモジュールに組み込む際に、従来例に比して、当該液晶パネルの傾きやずれ等の組み込み不良を極力抑止することができる。結果として、液晶表示装置液晶パネルの信頼性及び歩留まりが向上する。   In this way, the laminated body 1 can be cut and separated into individual liquid crystal panels 1P while suppressing the deterioration of the cutting shape of the glass substrate as seen in the conventional example, that is, cutting failure as much as possible. Therefore, when the individual liquid crystal panels 1P separated as described above are incorporated into a module which is a liquid crystal display device, it is possible to suppress assembling defects such as inclination and displacement of the liquid crystal panel as much as possible as compared with the conventional example. it can. As a result, the reliability and yield of the liquid crystal display device liquid crystal panel are improved.

本発明の実施形態に係るガラス基板を示す上面図である。It is a top view which shows the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 図1のX−X線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the XX line of FIG. 本発明の実施形態に係るガラス基板を示す上面図である。It is a top view which shows the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るガラス基板を示す上面図である。It is a top view which shows the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るガラス基板の切断方法を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the cutting method of the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るガラス基板の切断方法を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the cutting method of the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るガラス基板の切断方法を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the cutting method of the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 図7のS−S線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the SS line | wire of FIG. 図7のS−S線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the SS line | wire of FIG. 本発明の実施形態に係るガラス基板の切断方法を示す拡大上面図である。It is an enlarged top view which shows the cutting method of the glass substrate which concerns on embodiment of this invention. 従来例に係る液晶パネルの製造工程を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the liquid crystal panel which concerns on a prior art example. 従来例に係るガラス基板を示す上面図である。It is a top view which shows the glass substrate which concerns on a prior art example. 従来例に係るガラス基板の切断方法を示す拡大上面図である。It is an enlarged top view which shows the cutting method of the glass substrate which concerns on a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1,201 積層体
1P 液晶パネル
1A,201A 液晶パネルの形成領域
10,210 第1のガラス基板
20,220 第2のガラス基板
30,230 シール材
31,231 液晶注入領域
40 カッター
40A レーザー照射器
50 スキージ
80 液晶
100 メディアンクラック
101 伸張クラック
SL スクライブライン
1,201 Laminate 1P Liquid crystal panel 1A, 201A Liquid crystal panel formation region 10, 210 First glass substrate 20, 220 Second glass substrate 30, 230 Sealing material 31, 231 Liquid crystal injection region 40 Cutter 40A Laser irradiator 50 Squeegee 80 LCD 100 Median crack 101 Stretch crack SL Scribe line

Claims (3)

第1のガラス基板上に、スクライブラインが形成される予定の線に対して平行な直線部分を含むように、シール層を形成する工程と、
前記第1のガラス基板上に、前記スクライブラインが形成される予定の線に対して前記シール層の前記直線部分のみと線対称となるように、ダミーシール層を形成する工程と、
前記シール層及び前記ダミーシール層を介して、前記第1のガラス基板に、第2のガラス基板を貼り合わせ、当該第1及び第2のガラス基板から成る積層体を形成する工程と、
前記積層体の表面にスクライブラインを形成する工程と、
前記スクライブラインが形成されたガラス基板をブレイクする工程と、を含むことを特徴とするガラス基板の切断方法。
Forming a seal layer on the first glass substrate so as to include a linear portion parallel to a line on which a scribe line is to be formed;
Forming a dummy seal layer on the first glass substrate so as to be symmetrical with only the straight portion of the seal layer with respect to a line on which the scribe line is to be formed;
Bonding the second glass substrate to the first glass substrate via the seal layer and the dummy seal layer, and forming a laminate composed of the first and second glass substrates;
Forming a scribe line on the surface of the laminate;
And a step of breaking the glass substrate on which the scribe line is formed.
前記ダミーシール層は、前記第1のガラス基板の端部に形成された前記シール層の外側において、当該第1のガラス基板上に形成されることを特徴とする請求項1記載のガラス基板の切断方法。 2. The glass substrate according to claim 1, wherein the dummy seal layer is formed on the first glass substrate outside the seal layer formed at an end portion of the first glass substrate. Cutting method. 前記積層体の表面にスクライブラインを形成する工程はレーザービーム照射によって行われ、
前記スクライブラインが形成されたガラス基板をブレイクする工程は、当該ガラス基板と対向する他方のガラス基板の表面にスキージ又はローラーを押し当てることにより行われることを特徴とする請求項1記載のガラス基板の切断方法。
The step of forming a scribe line on the surface of the laminate is performed by laser beam irradiation,
The glass substrate according to claim 1, wherein the step of breaking the glass substrate on which the scribe line is formed is performed by pressing a squeegee or a roller against the surface of the other glass substrate facing the glass substrate. Cutting method.
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