JP2007114675A - 液晶表示装置 - Google Patents

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靖 川田
Akio Murayama
昭夫 村山
Yuzo Hisatake
雄三 久武
Kisako Ninomiya
希佐子 二ノ宮
Norihiro Yoshida
典弘 吉田
Chigusa Tago
千種 多胡
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Abstract

【課題】高い光透過率と広い視野角を確保することが可能な液晶表示素子を提供する。
【解決手段】透光性絶縁基板30上のアレイ基板2と、透光性絶縁基板40上に対向電極42を備えた対向基板3と、アレイ基板2と対向基板3との間に配置された液晶層4とからなる液晶表示装置において、透光性絶縁基板30と画素電極11との間に設けられ、第1の高さH1を有する第1絶縁部材15Pと、複数の画素20の周縁に設けられ、第1の高さH1よりも高い第2の高さH2を有する周縁部15aと、画素20のそれぞれの短辺と対応する周縁部15aの内側に設けられ、画素20の中心に向かって突出している凸部15bとを含む第2絶縁部材15Qと、透過電極25上に形成され、向かい合っている凸部15bの先端15bを結ぶ直線状であって、この直線の幅が広い部分を少なくとも1つ含むスリット26とを備えた構造。
【選択図】図2

Description

本発明は、液晶表示装置に係り、特に、一画素内に外光を反射することによって画像を表示する反射部とバックライト光を透過することによって画像を表示する透過部とを有する半透過型液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を有するために、OA機器、情報端末、時計、テレビ等さまざまな分野に応用されている。特に、薄膜トランジスタ(以下、TFT素子という)を有する液晶表示装置は、その高い応答性から、携帯電話、テレビやコンピュータなどのように多量の情報を表示するモニタとして用いられている。
近年、情報量の増加や携帯端末の小型軽量化に伴い、高精細で視野角の広い表示装置が要求されている。これら要求のうち画像の高精細化には、例えば、TFTアレイ構造を微細化することによって実現されている。一方、広視角に関しては、ネマチック液晶を用いたOCB(Optically Compensated Bend)方式、VAN( Vertical Aligned Nematic )モード、HAN(Hybrid Aligned Nematic)モード、IPS(In−Plane Switching)方式およびπ配列モード等の表示モードの採用が検討されている。
これら表示モードのうち、VANモードは、従来のTN( Twisted Nematic )モードよりも速い応答速度を得ることができ、しかも、垂直配向のため静電気破壊などの不良を発生させるラビング処理(液晶と接する界面に高分子薄膜を塗布して布で一定方向に擦る処理)を必要としない。このため、プロセスでのゴミの発生や、ラビングムラなどの不良を回避でき、生産性に優れている。なかでも、マルチドメイン型VANモード(MVAモードという)は、視野角の補償設計が比較的容易なことから特に注目を集めている。
さらに、近年では屋外での使用頻度が高まることから、従来の透過表示方式に加え、部分的に反射表示を行うことが可能な半透過型液晶方式が実用化されている。この半透過型液晶表示装置は、一画素内において、反射電極を有する反射部と、透過電極を有する透過部とを備えている。このような半透過型液晶表示装置は、暗所においては、画素内の透過部を利用してバックライト光を選択的に透過することによって画像を表示する透過型液晶表示装置として機能し、明所においては、画素内の反射部を利用して外光を選択的に反射することによって画像を表示する反射型液晶表示装置として機能する。これにより、消費電力を大幅に低減することができる。
例えば、アレイ基板上に形成された多数の画素電極の下面の絶縁層に凹上傾斜部および凸状傾斜部を形成し、液晶分子のチルト方向を決定して配向分割しているものが知られている(特許文献1参照)。
特開2001−83520号公報、要約。
しかし、上述のようなMVAモードを採用した液晶表示装置においては、画素の配向状態が不安定になると、画素内に輝度の異なる領域が発生し輝度ムラが生じる問題がある。
本発明は、上記問題を解決するためのものであって、高い光透過率と広い視野角を確保することが可能な液晶表示素子を提供することを目的とする。
本発明の一態様によると、本発明に係る液晶表示装置は、第1絶縁基板上に、それぞれ画素電極を含む複数の画素がマトリクス状に配置されている第1基板と、第2絶縁基板上に、前記複数の画素に対応して共通に設けられている対向電極を備え、前記第1基板と対向して配置されている第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置された液晶層と、前記第1絶縁基板と前記画素電極との間に設けられ、前記第1絶縁基板から第1の高さを有する第1絶縁部材と、前記複数の画素それぞれの周縁に設けられ、前記第1絶縁基板から前記第1の高さよりも高い第2の高さを有する周縁部と、前記複数の画素のそれぞれの短辺と対応する前記周縁部の内側に設けられ、前記第1の高さを有し、前記画素の中心に向かって突出している凸部とを含む第2絶縁部材と、前記画素電極上に形成され、向かい合っている前記凸部の先端を結ぶ直線状であって、この直線の幅が広い部分を少なくとも1つ含む溝部とを備えていることを特徴としている。
高い光透過率と広い視野角を確保することが可能な液晶表示素子を提供することができる。
以下、この発明の実施の形態に係る液晶表示装置について図面を参照して説明する。尚、この実施例は、本発明の理解を容易にする目的で記載されるものであり、本発明を限定するものではない。また本発明はその要旨の範囲内で種々変更して用いることができることは言うまでもない。
図1は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。図2は、図1に示した液晶表示素子の基本構成を示す断面図である。また、図3は、図1,2に示したアレイ基板を液晶層側から見た概略図を示す。
図2に示すように、液晶表示装置は、アクティブマトリクスタイプの半透過型のカラー液晶表示装置であって、液晶表示パネル1を備えている。この液晶表示パネル1は、アレイ基板(第1基板)2と、アレイ基板2と互いに対向して配置された対向基板(第2基板)3と、これらアレイ基板2と対向基板3との間に保持された液晶層4と、を備えて構成されている。
また、液晶表示装置は、アレイ基板2の液晶層4を保持する面とは反対の外面に設けられた第1偏光制御素子5、及び、対向基板3の液晶層4を保持する面とは反対の外面に設けられた第2偏光制御素子6を備えている。さらに、液晶表示装置は、第1偏光制御素子5側から液晶表示パネル1を照明するバックライトユニットBLを備えている。
このような液晶表示装置は、図1に示すように、画像を表示する表示領域10において、m×n個のマトリクス状に配置された複数の画素20を備えている。各画素20は、図2に示すように、外光を反射することによって画像を表示する反射部22と、バックライトユニットBLからのバックライト光を透過することによって画像を表示する透過部24と、を有している。
アレイ基板2は、ガラス板や石英板などの透光性絶縁基板(第1絶縁基板)30を用いて形成されている。すなわち、このアレイ基板2は、表示領域10において、画素20毎に配置されたm×n個の画素電極11、これら画素電極11の行に沿ってそれぞれ形成されたn本の走査線Y(Y1〜Yn)、これら画素電極11の列に沿って形成されたm本の信号線X(X1〜Xm)、各々対応走査線Y及び対応信号線Xの交差位置近傍に画素毎に配置されたm×n個のスイッチング素子すなわち薄膜トランジスタ12、液晶容量13と並列に各々補助容量14を構成するよう対応行の画素電極11に容量結合してn本の走査線Yと略平行に形成された補助容量線14aなどを有している。また、画素電極11と補助容量14との間には絶縁層15が形成されている。
アレイ基板2は、さらに、図1に示すように、表示領域10の周辺の駆動回路領域16において、n本の走査線Yに接続された走査線ドライバ17、及び、m本の信号線Xに接続された信号線ドライバ18を有している。走査線ドライバ17は、コントローラ19による制御に基づいてn本の走査線Yに順次走査信号(駆動信号)を供給する。また、信号線ドライバ18は、コントローラ19による制御に基づいて各行の薄膜トランジスタ12が走査信号によってオンする毎にm本の信号線Xに映像信号(駆動信号)を供給する。これにより、各行の画素電極11は、対応する薄膜トランジスタ12を介して供給される映像信号に応じた画素電位にそれぞれ設定される。
図2および図3に示すように、画素電極11は、反射部22に対応して設けられた反射電極23及び透過部24に対応して設けられた透過電極25を有し、全体としてほぼ矩形状に形成されている。
透過電極25は、絶縁層15上に配置され、反射電極23と電気的に接続されている。反射電極23は、透過電極25上の所定の領域に重ねて配置され、薄膜トランジスタ12と電気的に接続されている。なお、反射電極23は、アルミニウムなどの金属反射膜によって形成され、透過電極25は、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの透光性導電膜によって形成されている。
絶縁層15は、図2に示す通り、透光性絶縁基板30から高さ(第1の高さ)H1を有する第1領域15Pと、高さH1よりも高い高さ(第2の高さ)H2を有する第2領域15Qを含んでいる。第1領域15Pは、透過部24と対応する領域を含んでいる。第2領域15Qは、図3に示す通り、画素電極11の2つの長辺および2つの短辺に沿って延び、画素20の周縁を取り囲む枠状の周縁部15aと、周縁部15aの2つの短辺の内側にそれぞれ形成され、画素20の中心に向かって突出している凸部15bを含んでいる。言い換えると、絶縁層15は、第1領域15Pと対応する、透光性絶縁基板30と透過電極25との間に設けられ、透光性絶縁基板30から第1の高さH1を有する第1絶縁部材と、第2の領域15Qと対応する、第2の高さH2を有する周縁部15aおよび凸部15bを含む第2絶縁部材とを含んでいる。各凸部15bは、短辺方向の長さが、画素電極11の内側に向かって収束するような形状であって、周縁部15aの短辺から最も遠い位置に先端15cを有する。よって、周縁部15aの内側の長辺は、0度よりも大きく90度未満の角度θ1で、周縁部15aの内側の短辺で交わっている。なお、凸部15bは、周縁部15aの短辺から最も遠い位置に短辺方向の長さが最小となる極値点、すなわち先端部15cを含んでいると言える。
本実施の形態において、凸部15bは、周縁部15aの4隅を2等分割する直線が連結された部分を先端15cとする略三角形状であって、先端15cを頂点とする内角θ2は約90度である。また、この先端15cは、画素電極11の短辺の中心を通り、長辺と平行なる直線上に配置されており、凸部15bは、この短辺の中心を通る直線に対して線対称となる形状を有する。
また、本実施の形態において、第1領域15Pの高さH1と第2領域15Qの高さH2の差△Hは、1.25μm±0.2μmである。
透過電極25は、少なくとも第2領域15Q上に配置され、本実施の形態においては、第1領域15Pの凸部15bおよび第2領域15Q上に設けられている。また、反射電極23は、絶縁層15の凸部15b上に、透過電極25に重ねて設けられている。
また、透過電極25は、第2領域15Qにおいて、すなわち周縁部15aの内側において、スリット(溝部)26を備える。
スリット26は、透過電極25上に設けられた溝であって、向かい合う凸部15bの先端15cを結ぶ直線(上記画素電極11の短辺の中心を通る直線)上に伸びる第1直線部26aを含んでいる。この第1直線部26aは、所定の位置で透過電極25のスリット幅が他のスリット幅よりも広い第2直線部26bを含んでいる。言い換えると、スリット26は、画素電極11の長辺と平行な第1直線部26aと、この第1直線部26bの中央と直交し、画素電極11の短辺と平行な第2の直線部26bを含んでいる。さらに言い換えると、第1直線部26aは、互いに向かい合う凸部15bを結ぶ最短距離を示す直線上にあり、第2直線部26bは、周縁部15aの長辺を結ぶ最短距離を示す直線上にある。このように、スリット26は、画素電極11を概ね同じ大きさに4分割している。また、スリット26により分割された部分は、スリット26に対して線対称となる形状を有している。
本実施の形態において、第1直線部26aは、スリット幅10μm±2μmであって、第2直線部26bは、スリット幅10μm±2μm、長さ33μm±2μmである。言い換えると、スリット26は、スリット幅10μm±2μmの第1直線部26aを含み、この第1直線部26aの中央位置で前記スリット幅よりも広いスリット幅33μm±2μmの部分を備える形状である。
一方、対向基板3は、ガラス板や石英板などの透光性絶縁基板(第2絶縁基板)40、透光性絶縁基板40上に配置されているカラーフィルタ層41、および対向電極42を含んでいる。
また、アレイ基板2および対向基板3の液晶層4と直接接する界面には、液晶分子にそれぞれ基板に対して垂直な方向の配向を与える配向膜51、52が形成されている。これにより、液晶分子は、その長軸が基板の界面に対して垂直な方向を向くように配向されている。なお、配向膜51,52は、それぞれ70nm〜90nmの厚さに形成されることが好ましい。
カラーフィルタ層41は、透光性絶縁基板40上の表示領域10において、各画素20を区画するブラックマトリクス(図示せず)と、このブラックマトリクスによって囲まれた各画素20に配置されたカラーフィルタ(図示せず)とを含んでいる。ブラックマトリクスは、アレイ基板2に設けられた走査線Yや信号線Xなどの配線部に対向するように配置されている。カラーフィルタは、互いに異なる色、例えば赤色、青色、緑色といった3原色にそれぞれ着色された着色樹脂によって形成されている。赤色着色樹脂、青色着色樹脂、及び緑色着色樹脂は、それぞれ赤色画素、青色画素、及び緑色画素に対応して配置されている。
対向電極42は、すべての画素20の反射電極23および透過電極25と対向するように配置されている。この対向電極42は、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの透光性導電膜によって形成され、補助容量線14aと電気的に接続されている。
上述した構成のアレイ基板2及び対向基板3は、有効表示部10内に配置された柱状スペーサ(図示せず)によって所定のギャップ、例えば3.5μm±0.3μmのギャップを形成した状態で対向配置され、その周縁部同士が、例えばシール材により貼り合せられている。これにより、液晶分子注入用のセルが形成され、セル内に負の誘電異方性を示す液晶材料(Nn液晶材料)を注入し封止することにより液晶層4が形成されている。すなわち、液晶層4は、アレイ基板2側の配向膜51と、対向基板3側の配向膜52との間に保持されている。これにより、液晶層4に含まれる液晶分子が配向膜51及び52による配向制御によって垂直配向された垂直配向モードが構成可能となる。
この構成により、周縁部15a、凸部15bおよびスリット26の界面において、液晶配向の分割が誘起され、液晶分子の配向は、その長軸がガラス基板に対して垂直な方向から特定角度だけ傾斜した配列となる。このように、周縁部15a、凸部15bおよびスリット26の近傍に位置した液晶分子は、他の液晶分子のチルト方向を規制する役割を果たす。よって、液晶分子を所定方向に配向した領域(液晶分子の配向方向が揃った領域)をドメインと称するが、周縁部15a、凸部15bおよびスリット26により分割された領域の液晶分子がそれぞれ同じチルト方向に倒れることにより、画素電極11上に複数のドメインを形成することが可能となる。そして、1つの画素領域において、これらのドメインが複数形成されることにより、液晶分子の異方性の補償効果が生じ、広い視野角を実現することができる。
図4は、上記のように構成された液晶表示素子の動作状態における、各画素内の液晶分子配向分割状態を示すものである。図4に示す通り、上記構成のような周縁部15a、凸部15bおよびスリット26により、電圧印加時に液晶分子が倒れる方向を安定に制御することができるため、安定して分割されたドメイン構造を確認することができる。また、スリット26が画素電極11を均等な面積となるように4分割しているため、隣接する画素の輝度分布が等しく、十分な配向安定性が得られる。さらに、スリット26の第1直線部26aと凸部15bの先端15cとが接続されているため、配向分割領域を安定に制御することができる。
また、図2および図3に示した通り、凸部15b上には、透過電極25に重ねて反射電極23が形成されている。この凸部15bの高さを調整することにより、反射電極23と対向基板3との距離を変更することができる。このため、反射電極23と対向基板3との距離を透過電極25と対向基板3との距離よりも小さくすることができる。本実施の形態において、反射電極23と対向基板3との距離は、透過電極25と対向基板3との距離の1/2である。
上述の通り、凸部15bは、反射部22の液晶層4の厚さ(セルギャップ)を制御すると共に、周縁部15aおよびスリット26と共に液晶分子の配列を制御することができる。
これにより、例えば、セルギャップを調整するため、従来設けられている対向基板3側の凸構造を形成する必要がなく、また、この凸構造を設けた際の両基板2,3を張り合わせる際の、対向基板3側の凸構造とアレイ基板2側の反射電極23との位置整合も必要ないため、製造コストおよび製造効率への影響を最小限に抑え、その結果、生産性の向上を図ることが可能となる。
上述の第1偏光制御素子5及び第2偏光制御素子6は、これらを通過する光の偏光状態を制御し、液晶層4に入射する楕円偏光を形成する。すなわち、第1偏光制御素子5は、これに入射したバックライト光の偏光状態を制御し、第1偏光制御素子5を通過した光すなわち液晶層4に入射する直前の光の偏光状態を楕円偏光に変換する。また、第2偏光制御素子6は、これに入射した外光の偏光状態を制御し、第2偏光制御素子6を通過した光すなわち液晶層4に入射する直前の光の偏光状態を楕円偏光に変換する。
本実施の形態において、第1偏光制御素子5は、第1偏光板61および第1位相差板62を含み、第2偏光制御素子6は、第2偏光板71および第2位相差板72を含んでいる。第1位相差板62及び第2位相差板72は、例えば、所定波長の光に対して常光線と異常光線との間に1/4波長の位相差を与えるいわゆる1/4波長板である。また、ここで適用される第1偏光板61および第2偏光板71は、光の進行方向に直交する平面内において、互いに直交する吸収軸及び透過軸を有している。このような偏光板は、ランダムな方向の振動面を有する光から、透過軸と平行な1方向の振動面を有する光すなわち直線偏光の偏光状態を有する光を取り出すものである。
透過部24より放出される光は、バックライトBLから出射されて液晶層4を通過した光であるが、反射部22より放出される光は、液晶層4を往復して対向基板3側から放出される。このため、半透過型液晶表示装置は、反射部の液晶層の厚さを、透過部の液晶層の厚さの半分にすることにより、透過部から放出された光の液晶層による偏光状態と、反射部から放出された光の液晶層による偏光状態を、略同一に制御することができる。
次に、上述した基本構成を有する液晶表示素子の製造方法の一例を説明する。
まず、公知の方法により、透光性絶縁基板30上に信号線Xおよび走査線Y等の配線類、薄膜トランジスタ12、および補助容量14を形成し、画素短辺方向の幅が45μmの画素電極11がマトリクス状に配置されたアレイ基板2を作成する。その後、このアレイ基板2上にアクリル系感光性樹脂を成膜し、画素電極11と一対一に対応する所定のマスクを用いてアクリル系感光性樹脂膜を露光し、更に、現像処理によりパターニングする。そして、高さH2が高さH2よりも△H=1.25μm±0.2μmだけ高くなるような第1領域H15Pおよび第2領域15Qを含む絶縁層15を形成する。
次に、画素電極11と対応する領域に透過電極25を形成し、第1領域15Pの透過電極25を一部取り除きスリット26を形成する。さらに、絶縁層15の凸部15bの透過電極25上に反射電極23を形成し、同時に、例えば絶縁層15に形成されたスルーホール(図示せず)を介して薄膜トランジスタ12に導通させる。
続いて、反射電極23、透過電極25およびスリット26が形成された透光性絶縁基板30の全面に、配向膜51として厚さ80nmの垂直配向用ポリイミド膜を形成する。これによりアレイ基板2が構成される。更に、アレイ基板2の配向膜51上において画素領域から外れた配線上に、例えばアクリル系感光性樹脂を用いて高さ3.65μmのスペーサを形成する。
一方、対向基板3の透光性絶縁基板40上に、カラーフィルタ層41および、ITOからなる対向電極42を形成する。その後、配向膜52として厚さ80nmの垂直配向用ポリイミド膜を全面に形成する。これにより対向基板3が構成される。
続いて、対向基板3周縁のシール領域に、シール材としてエポキシ系熱硬化性樹脂をディスペンサにより塗布する。そして、配向膜51,52が向い合うようにアレイ基板2および対向基板3をシール材を介して貼り合わせ、所定の荷重を印加しながら熱処理することにより、シール材を熱硬化する。これにより、液晶分子注入用のセル(図示せず)が形成される。その後、セル内に負の誘電異方性を示す液晶材料を注入し封止する。これにより、液晶層4が形成される。
続いて、アレイ基板2の外面すなわち透光性絶縁基板30の外面に、例えば粘着剤(図示せず)を介して第1偏光制御素子5を接着するとともに、対向基板3の外面すなわち透過性絶縁基板40の外面に、例えば粘着剤(図示せず)を介して第2偏光制御素子6を接着する。以上の工程により液晶表示パネルが完成する。
(比較例1)
図5は、図3に示した本発明の実施例1に対応した比較例1を示している。この比較例1に係る液晶表示素子は、先端15cを含む凸部15bを備えておらず、画素電極11は、長辺部分に比べて幅が大きい短辺部分を有する周縁部115aを備える。言い換えると、周縁部115aの内側の短辺と長辺は90度に直交している。
図6は、上記のように構成された液晶表示素子の動作状態における、各画素内の液晶分子配向分割状態を示している。図6に示す通り、上述のような構成では、画素20内に輝度の異なる領域が隣接する輝度ムラが発生し、不安定な配向状態であることが確認された。
(比較例2)
図7は、図3に示した本発明の実施例1に対応した比較例2を示している。この比較例2に係る液晶表示素子は、透明電極25上に向かい合う凸部15bの先端15cを結ぶ直線状のスリット126を備える。つまり、実施例1と異なり、スリット126は、スリット幅が一定であって、スリット幅が他のスリット幅よりも広い第2直線部26bを含まない。
図8は、上記のように構成された液晶表示素子の動作状態における、各画素内の液晶分子配向分割状態を示している。図8に示す通り、上述のような構成では、画素20内に輝度の異なる領域が隣接する輝度ムラが発生し、不安定な配向状態であることが確認された。
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
例えば、透過電極25は、少なくとも周縁部15aおよび凸部15bにより囲まれている画素電極11内の第1領域15P上に配置されていればよく、反射電極23の下部全域に配置されていなくてもよい。
また、本実施の形態において、凸部15bは、略三角形状であると説明したが、本発明はこれに限られず、画素20の中心に向かって突出している形状であればよく、例えば弧状であってもよく、直線と曲線を組み合わせ突出している形状であってもよい。
さらに、本実施の形態において、先端15cを頂点とする内角θ2は約90度であると説明したが、本発明はこれに限られず、画素20の短辺が直線でなければよく、θ2は、0度より大きく180度未満の範囲で変更可能である。
また、第1偏光制御素子5は、第1位相差板62として、上述の1/4波長板に加えて、所定波長の光に対して常光線と異常光線との間に1/2波長の位相差を与えるいわゆる1/2波長板を含むものであってもよい。同様にして、第2偏光制御素子6は、第2位相差板72として、上述の1/4波長板に加えて、1/2波長板を含むものであってもよい。これにより、波長による光の透過率の変化を抑えることができる。さらに、視野角を広くする設計の場合には、負の位相差を持つ光学素子を加えてもよい。
図1は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の構成を概略的に示す図である。 図2は、図1に示した液晶表示素子の基本構成を示す断面図である。 図3は、図1,2に示した液晶表示装置に適用可能なアレイ基板を液晶層側から見た概略図である。 図4は、図1,2に示した液晶表示装置に適用可能な液晶表示素子駆動時の画素光透過状態を示す図である。 比較例1に係る液晶表示装置に適用可能なアレイ基板を液晶層側から見た概略図である。 上記比較例1に係る液晶表示素子駆動時の画素光透過状態を示す図である。 比較例2に係る液晶表示装置に適用可能なアレイ基板を液晶層側から見た概略図である。 上記比較例2に係る液晶表示素子駆動時の画素光透過状態を示す図である。
符号の説明
1…液晶表示パネル、2…アレイ基板、3…対向基板、4…液晶層、24…透過部、22…反射部、5…第1偏光制御素子、6…第2偏光制御素子、23…反射電極、25…透過電極、15…絶縁層、15a…周縁部、15b…凸部、15c…先端、26…スリット、26a…第1直線部、26b…第2直線部、61…第1偏光板、62…第1位相差板、71…第2偏光板、72…第2位相差板、BL…バックライトユニット、20…画素。

Claims (13)

  1. 第1絶縁基板上に、それぞれ画素電極を含む複数の画素がマトリクス状に配置されている第1基板と、
    第2絶縁基板上に、前記複数の画素に対応して共通に設けられている対向電極を備え、前記第1基板と対向して配置されている第2基板と、
    前記第1基板と前記第2基板との間に配置された液晶層と、
    前記第1絶縁基板と前記画素電極との間に設けられ、前記第1絶縁基板から第1の高さを有する第1絶縁部材と、
    前記複数の画素のそれぞれの周縁に設けられ、前記第1絶縁基板から前記第1の高さよりも高い第2の高さを有する周縁部と、前記複数の画素のそれぞれの短辺と対応する前記周縁部の内側に設けられ、前記第1の高さを有し、前記画素の中心に向かって突出している凸部とを含む第2絶縁部材と、
    前記画素電極上に形成され、向かい合っている前記凸部の先端を結ぶ直線状であって、この直線の幅が広い部分を少なくとも1つ含む溝部と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記画素電極は、前記第1絶縁部材上に設けられた透過電極と、前記第2絶縁部材の前記凸部上に設けられた反射電極とを含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記凸部は、先端において0度より大きく180度未満の角度を有することを特徴とする請求項1あるいは2に記載の液晶表示装置。
  4. 前記凸部は、前記周縁部の短辺から最も遠い位置に短辺方向の長さが最小となる極値点を有することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  5. 前記第2絶縁部材は、前記画素の長辺に対応する前記周縁部の内辺と、前記画素の短辺に対応する前記凸部の内辺とがなす角が、90度でないことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  6. 前記溝部は、十字形状であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  7. 前記溝部は、向かい合っている前記凸部の先端同士を結ぶ直線上に形成された第1直線部と、前記第1の直線部の中央と交差し、向かい合っている前記周縁部の長辺同士を結ぶ直線状に形成された第2直線部とを含むことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  8. 前記第1絶縁部材上の画素電極は、前記溝部により分割された、それぞれが前記溝部に対して対称である複数の領域を含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  9. 前記第1絶縁部材と前記第2絶縁部材は、同じ材料で構成されていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  10. 前記第1基板の前記液晶層を保持する面とは反対の外面に設けられた第1偏光制御素子と、
    前記第2基板の前記液晶層を保持する面とは反対の外面に設けられた第2偏光制御素子とをさらに備えることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  11. 前記第1基板の前記液晶層を保持する面に設けられ、前記液晶層の液晶分子を前記第1基板に対して略垂直に配向する特性を有した第1配向膜と、
    前記第2基板の前記液晶層を保持する面に設けられ、前記液晶層の液晶分子を前記第2基板に対して略垂直に配向する配向特性を有した第2配向膜とをさらに備えることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  12. 前記反射電極と前記対向電極との距離は、前記透過電極と前記対向電極との距離よりも短いことを特徴とする請求項2ないし11のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  13. 前記溝部は、前記凸部と接触していることを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
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WO2010137407A1 (ja) * 2009-05-27 2010-12-02 シャープ株式会社 液晶表示装置

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