JP2007113081A - パック・セメンテーション法 - Google Patents
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Abstract
【課題】通常の電気炉や排気装置を用いることが可能な蒸着室や排気装置や設備が安価で再現性と効率性が良好な新しいパック・セメンテーション法を提供する。
【解決手段】パック・セメンテーション用粉末およびパック・セメンテーション用粉末の蒸着温度より低い温度で焼結を開始する微細粉末で被覆された金属系基材を10-4Pa以
下の低真空度で5〜20時間加熱することにより微細粉末をパック・セメンテーション用粉末の蒸着開始温度以下の温度で焼結させて蒸着領域と周囲部を隔離して遮断した状態でパック・セメンテーションを行う。
【選択図】図1
Description
ック・セメンテーション法は湾曲曲面を有するタービンブレードや各種部材を一体成型されたタービン用コンプレッサー・ロータなど複雑形状を有する金属系材料の表面改質法として広く応用されている。しかしながら、従来から行われているパック・セメンテーション法はパック・セメンテーション処理用の容器内に閉じ込められた雰囲気ガスが拡散して基材やパック・セメンテーション処理用粉末内部と絶えず反応してパック・セメンテーション処理を妨げる原因となる。このためパック・セメンテーション処理を行う雰囲気ガスの圧力を減少して高真空状態を保持する必要があり常時10−4Pa以上の真空状態を保持することが要求されるため、パック・セメンテーション法における蒸着室は加熱可能な金属製の大容量・高真空の排気装置が必要となり高額な設備費用が不可欠であるとされていた。また、容器内から発生する蒸発気体が基材やパック・セメンテーション処理用粉末内部を汚染するため蒸発気体を発生する容器を使用することができずパック・セメンテーション処理に使用する器具も制限されていた。
を提供する。
方法を提供する。
状態を保持できる装置やパック・セメンテーション用粉末を入れる容器の充分な空焼きを不用とする経済的なパック・セメンテーション処理を行うことができる。
ク・セメンテーション処理を行うことが好ましい。この出願の発明における好ましい基板としては、Ni基合金、Co基合金、ODS(酸化物分散強化)合金、DSE(方向凝固)合金等が例示される。また、基材とパック・セメンテーション用粉末の好ましい組合わせとしては下記の組合わせが典型例として考慮されるが、もちろんこの組み合わせに限定されないことはいうまでもない。
+NH4Cl+Al2O3
(NH4Clは反応促進剤、Al2O3は反応抑制剤)
基材;CMSX-2、パック・セメンテーション用粉末;Cr-30Al合金
基材;MAR-M509、パック・セメンテーション用粉末;Cr-20%Al合金、
基材;MA6000、パック・セメンテーション用粉末;Al化合物
また、この出願の発明では主として金属系基板が用いられるが、金属系基板以外のたとえばガラス基板や半導体の基板に化合物や純金属を全面被覆することやその蒸着膜の上に別の方法で模様を付けることなども態様の1つとして考慮されてよい。
覆合金は均質化処理を経て粉砕化後の乳鉢により微粉化したが微粉化されたものは粉径が75−107μmのものが20数重量%、45μm以下のものが70数重量%であった。
、主要粉末のパック・セメンテーション用粉末を充填した。なお、微粉末の塗布および堆積を施さない状態におけるパック・セメンテーション処理も同じ条件で行った。
100℃程度に冷却後、石英管より取り出す。加熱温度は1000〜1200℃の範囲で行った。加熱保持時間は5時間、10時間、20時間とした。被膜厚さは12−35μmであった。保持時間は高温では5時間、低温では20時間が必要であった。被膜と基材の
密着性は曲げ試験により行い、被膜と基材の界面における剥離は表面伸び2%以下では検出されない。また、回転刃による切断においても剥離は形成されなかった。大気中で室温の被覆材を1000℃の炉内に移動させ15分加熱後取り出す繰り返し酸化を12回行った結果、剥離は全く無く、その酸化増量は被覆材の特性と同一であることを示した。
O-Kα像、Ti-Kα像等の特性X線像とBEI像(反射電子像)を示したものである。
の発明ではパック・セメンテーション処理温度が1200℃以下では通常の炉心管付帯を、またパック・セメンテーション処理温度が1200℃〜1400℃では高純度アルミナ炉心管付帯の管状電気炉を用いることが可能となる。また、この出願のパック・セメンテーション法の発明は蒸着領域と周囲部における雰囲気を焼結により隔離されているために蒸着過程における雰囲気の変化に影響を受けないので、到達真空度が10-4Pa程度で充
分である。しかも、たとえ蒸着過程中に雰囲気の変化が生じたとしても真空装置の速やかな応答を必要としないため通常使用されている排気装置で適応できる。
2: パック・セメンテーション処理用粉末
3: 微細粉末
4: 容器(坩堝)
Claims (7)
- パック・セメンテーション用粉末および微細粉末で被覆された金属系基材を加熱処理することを特徴とするパック・セメンテーション法。
- パック・セメンテーション用粉末による蒸着が始まる温度より低い温度で焼結を開始する微細粉末を用いることを特徴とする請求項1に記載されたパック・セメンテーション法。
- 微細粉末がパック・セメンテーション用粉末と同じ組成であることを特徴とする請求項1または2に記載されたパック・セメンテーション法。
- パック・セメンテーション処理時間が5〜20時間であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載されたパック・セメンテーション法。
- パック・セメンテーション処理を炉心管付帯の管状電気炉を用いて1200℃以下で行うことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載されたパック・セメンテーション法。
- パック・セメンテーション処理を高純度アルミナ炉心管付帯の管状電気炉を用いて1200℃〜1400℃で行うことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載されたパック・セメンテーション法。
- パック・セメンテーション処理を10-4Pa以下の低真空度がで行うことを特徴とする請
求項1ないし6のいずれかに記載されたパック・セメンテーション法。
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