JP2007105768A - 高融点金属の真空アーク溶解方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高融点金属の真空アーク溶解において、前記溶解を終了させた後、溶解炉内にヘリウムガスを導入して大気圧より減圧したヘリウム雰囲気下で、前記高融点金属インゴットを冷却することを特徴とする高融点金属の真空アーク溶解方法。
【選択図】図1
Description
図1は本発明を実施するために用いるための好適な真空アーク溶解炉M(以下、単に「溶解炉M」と呼ぶ場合がある。)の構成例を表している。本実施態様では、高融点金属が純チタンである場合を例にとり以下に説明するが、それ以外のジルコニウムや二オブの溶解においても好適に適用することができる。
上記溶解炉Mにおいて電極を溶解する際の溶解炉M内の圧力は、1.0〜10Paの範囲に制御しておくことが好ましい。このような圧力範囲に設定しておくことで、電極5と溶融チタンプール8との間に生成させるアークを安定して継続させることができる。
ヘリウムガスを溶解炉M内に導入して室温まで冷却する過程において、溶解炉M内のヘリウムガスを一旦系外に排気した後、冷却して再度溶解炉M内に供給しても良い。このような操作を行うことで水冷銅鋳型1内に保持されたチタンインゴット2を効率良く冷却することができるとともに、ヘリウムガスを再利用するため、コストを軽減することができる。
図1に示した溶解炉Mを用い、スタブ4に純チタンスポンジチタンで構成した電極(15t)を配置して、直径1.3m、長さ2.7mの純チタンインゴットを水冷銅鋳型1内で溶解した。溶解中の圧力は、1.0〜5.0Paの範囲に維持した。チタン電極の溶製が終わった後、排気バルブ7を閉にして炉内を減圧状態に封じ切った。溶融チタンプール8と水冷銅鋳型1との間に充分な間隙が形成されたと推定されるまで減圧状態を保持した。本実施例では、約20分であった。その後、給気バルブ6を開とし、ここからヘリウムガスを溶解炉M内の圧力が、0.079MPaになるまで導入した。ヘリウムガス導入後のインゴット表面の温度を光高温計で連続的に測定した。また、ヘリウムガスを導入しなかった以外は同様にして、チタンインゴットの溶解・冷却を行い、インゴット表面の温度を光高温計で連続的に測定した。表1にその結果を示した。
実施例1において、ヘリウムガス導入後の溶解炉M内の圧力を0.01〜0.20MPaの範囲で変化させて、インゴットが所定温度まで冷却されるまでの時間を測定した。冷却時間は、溶解炉M内の圧力が0.10MPaのときに達成された冷却時間を100として表示した。また、併せて、溶製後のインゴット頂部に収縮孔が形成されているか否かについても調査した。結果を表2に示す。
実施例1において、電極への通電を断った後、ヘリウムガスを導入するまでの待機時間を変化させて、インゴットが室温までに要する時間を調べた。結果を表3に示す。
1 水冷銅鋳型
2 チタンインゴット
3 電極昇降装置
4 スタブ
5 電極
6 給気バルブ
7 排気バルブ
8 溶融チタンプール
Claims (6)
- 高融点金属の真空アーク溶解において、上記溶解を終了させた後、溶解炉内にヘリウムガスを導入して大気圧より減圧したヘリウム雰囲気下で、前記高融点金属インゴットを冷却することを特徴とする高融点金属の真空アーク溶解方法。
- 前記溶解終了後、溶解炉内雰囲気を真空排気系から遮断して封じきった後、ヘリウムガスを上記雰囲気中に導入することを特徴とする請求項1に記載の高融点金属の真空アーク溶解方法。
- 前記溶解終了後、溶解炉内雰囲気を真空排気系から遮断して封じきり、更に前記インゴット上部に形成された溶融プールと上記溶解炉の鋳型壁との間に空間部が形成された後、ヘリウムガスを上記雰囲気中に導入することを特徴とする請求項1または2に記載の高融点金属の真空アーク溶解方法。
- 前記ヘリウムガスの導入完了後、真空引きして炉内を減圧に保持した後、再度、ヘリウムガスを導入することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高融点金属の真空アーク溶解方法。
- 前記ヘリウムガスの導入が完了した後の溶解炉内の圧力が、0.01〜0.15MPaにあることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高融点金属の真空アーク溶解方法。
- 前記高融点金属が、チタン、ジルコニウムまたはニオブであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の高融点金属の真空アーク溶解方法。
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