JP2007103699A - 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
可変成形電子ビームを用いる描画装置において、高い寸法精度での描画を行うことが出来る電子線描画技術を提供する。
【解決手段】
可変成形ビームを用いる電子ビーム描画装置において、可変成形ビームの電流量を計測するための複数の電子ビーム検出器130、131を有し、可変成形ビームの複数のビームサイズに応じて計測された電流値を、電子ビームの露光時間にフィードバックすることにより解決する。
【選択図】図1
Description
1)測定するビームサイズの設定を電子ビーム検出器ごとに設定できる機能を有すること、
2)検出器の感度が異なり、感度の高い検出器で小さめのビームサイズの電流量を、感度の低い検出器で大き目のビームサイズの電流量を測定すること、
3)異なる電子ビーム検出器の計測結果を電子ビームの異なる制御条件へフィードバックすること、
4)異なる電子ビーム検出器の計測結果に従って、異なる主たる制御条件へフィードバックすること、
5)複数の電子ビーム検出器における計測結果が識別できる表示機能を有すること。
更に、ビームサイズを大きく変えて測定する必要があるので、特に微小電流の測定を精度良く測定するために、電子ビーム検出器と電気的に接続している積分回路を用いることが良い。積分時間を変えることで広いレンジの電流測定に対応が可能である。
図1に、本実施例による電子ビーム描画装置の電子光学系の構成を示す。電子銃101から放出された電子は、50kVに加速され、第1矩形開口140を有する第1マスク102を直接照射する。第1マスクを透過した矩形電子ビームは、2つの第1転写レンズ103、第2転写レンズ107により第2マスク109上に結像される。第2マスク上には、中央に可変成形用の第2矩形開口141をその周辺に一括図形照射用の一括図形開口108が配置されている。第2マスク上での第1マスク像の照射位置は、可変成形偏向器105と2つの第1図形選択偏向器104、第2図形選択偏向器106により制御される。第2マスクを通過した電子ビームは2つの第1縮小レンズ110、第2縮小レンズ111と2つの第1対物レンズ112、第2対物レンズ114を通して試料(例えば、光学マスク)115上に結像される。
本実施例では、実施例1と同様の装置を用いた。図6に示す測定アルゴリズムに従って描画した。測定手法は、図3における手法と基本的には同じであり、FCとPDの校正を行う。
電子ビームにはクーロン効果が働き、ビームサイズにより焦点位置が変化する。この量を知るためには異なるビームサイズでの焦点位置を測定する必要がある。しかし、大きく異なる電流での高精度な測定を行うためには、やはり複数の検出器を用いることが有効である。
本実施例では、最大ビームサイズが1μm角と小さめであるので、FCは単に感度校正用のみに用いた。従って、PDの感度がある程度分っている場合は、FCが不要となる。この場合は、1つの電子ビーム検出器で校正することになる。
本実施例では、透過電子ビーム検出器としてPDのみを用いた。図12に、本実施例での測定・露光アルゴリズム、すなわちフィードバックアルゴリズムを示す。測定手法は、図10における手法と基本的には同じであり、1つの検出器PDで校正を行う。
Claims (15)
- 電子銃から放出された電子ビームを、開口を有する少なくとも1個のマスクを介して可変成形ビームを形成する電子光学系を備え、前記可変成形ビームを用いて試料に所望とするパターンを露光する電子ビーム描画装置において、前記可変成形ビームの電流量を計測するための複数の電子ビーム検出器と、前記可変成形ビームの複数のビームサイズに応じて計測された前記電流値を、電子ビームの露光時間にフィードバックする手段とを有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、測定する前記ビームサイズの設定を前記電子ビーム検出器ごとに設定できる機能を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、前記複数の電子ビーム検出器は、それぞれ異なる感度を有し、前記可変成形ビームの小さめのビームサイズの電流量を測定する第1の電子ビーム検出器と、前記可変成形ビームの大きめのビームサイズの電流量を測定する第2の電子ビーム検出器を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビーム検出器による複数の計測結果を、電子ビームのビームサイズに応じて、異なる電子ビーム制御条件へフィードバックする機能を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビーム検出器による複数の計測結果が個々に識別できる表示機能を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、前記複数の電子ビーム検出器間の感度校正を、前記複数の電子ビーム検出器の測定可能な電流範囲のビームサイズで行うことを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、使用する前記複数の電子ビーム検出器の切り替えの目安として、1方向の寸法を電子ビームの解像寸法前後とすることを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項1に記載の電子ビーム描画装置において、前記可変成形ビームの複数のビームサイズでの電流密度の不均一性を露光時間以外の制御条件にフィードバックし、該フィードバックの後に残った電流密度の不均一性が規定値を越えているビームサイズの場合には、露光時間にフィードバックすることを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項3に記載の電子ビーム描画装置において、前記第1の電子ビーム検出器をフォトダイオード、前記第2の電子ビーム検出器をファラデーカップで構成したことを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項9に記載の電子ビーム描画装置において、前記第1の電子ビーム検出器と電気的に接続される積分回路を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 電子銃から放出された電子ビームを、開口を有する少なくとも1個のマスクを介して可変成形ビームを形成する電子光学系を備え、前記可変成形ビームを用いて試料に所望とするパターンを露光する電子ビーム描画装置にあって、複数の電子ビーム検出器により、前記可変成形ビームの複数のビームサイズに応じて電流量を計測し、該電流値をもとに、前記電子ビームの露光時間を補正することにより、前記可変電子ビームの任意のビームサイズに対する電流密度を略一定になるようにしたことを特徴とする電子ビーム描画方法。
- 請求項11に記載の電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビーム検出器の感度が異なり、その中の感度の高い検出器で前記可変成形ビームの小さめのビームサイズの電流量を、感度の低い検出器で前記可変成形ビームの大きめのビームサイズの電流量を測定するようにしたことを特徴とする電子ビーム描画方法。
- 請求項11に記載の電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビーム検出器間の感度校正を、前記複数の電子ビーム検出器の測定可能な電流範囲のビームサイズで行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。
- 請求項11に記載の電子ビーム描画方法において、使用する前記複数の電子ビーム検出器の切り替えの目安として、1方向の寸法を電子ビームの解像寸法前後とすることを特徴とする電子ビーム描画方法。
- 請求項12に記載の電子ビーム描画方法において、前記感度の高い検出器はフォトダイオードであり、前記感度の低い検出器はファラデーカップであることを特徴とする電子ビーム描画方法。
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JP2018063988A (ja) * | 2016-10-11 | 2018-04-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH04303918A (ja) * | 1991-03-30 | 1992-10-27 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置 |
JPH11149893A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Sony Corp | 電子ビーム描画装置および描画方法並びに半導体装置 |
JP2004311809A (ja) * | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Jeol Ltd | 可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法 |
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2005
- 2005-10-05 JP JP2005292147A patent/JP4699854B2/ja not_active Expired - Fee Related
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