JP2007085728A - 処理装置及び処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】クリーン度の高い第1の部屋S1に装置本体2を設け、当該部屋の下部に設けられた第2の部屋S2に用力設備(ユーティリティボックス3及びポンプボックス4)を設ける。第1の部屋S1と第2の部屋S2とを区画する床部5に中継ユニット6を第2の部屋S2の空気が第1の部屋S1に流れ込まないように設け、第1の部屋S1側(装置本体2側)の用力ラインと第2の部屋S2側(用力設備側)の用力ラインとを中継ユニット6に対して着脱自在に接続する。
【選択図】図1
Description
前記部屋に対して雰囲気が区画されかつ下方側に位置する第2の部屋に設けられ、前記処理ガスを供給するためのガス供給設備、ガス排気設備及び電気系統設備を含む、前記処理装置本体のための用力設備と、を備えたことを特徴とする。
処理ガスを供給し、排気しながらこの処理ガスにより被処理体を処理するための処理部とこの処理部に対して被処理体の移載が行われる移載領域とを含み、前記第1の部屋に設けられた複数の処理装置本体と、
前記第1の部屋に対して雰囲気が区画されかつ下方側に位置する第2の部屋と、
この第2の部屋に設けられ、前記処理ガスを供給するためのガス供給設備、ガス排気設備及び電気系統設備を含む、前記処理装置本体のための用力設備と、を備えたことを特徴とする処理システムである。
29 熱処理炉
3 ユ−ティリティボックス
31 ガス供給ユニット
32 電気系ユニット
33 冷却水ユニット
4 ポンプボックス
5 床部
6 中継ユニット
7 クロ−ズ型カセット
S1 第1の部屋
S2 第2の部屋
Claims (2)
- 処理ガスを供給し、排気しながらこの処理ガスにより被処理体を処理するための処理部とこの処理部に対して被処理体の移載が行われる移載領域とを含み、クリ−ン度の高い第1の部屋に設けられた処理装置本体と、
前記部屋に対して雰囲気が区画されかつ下方側に位置する第2の部屋に設けられ、前記処理ガスを供給するためのガス供給設備、ガス排気設備及び電気系統設備を含む、前記処理装置本体のための用力設備と、を備えたことを特徴とする処理装置。 - クリ−ン度の高い第1の部屋と、
処理ガスを供給し、排気しながらこの処理ガスにより被処理体を処理するための処理部とこの処理部に対して被処理体の移載が行われる移載領域とを含み、前記第1の部屋に設けられた複数の処理装置本体と、
前記第1の部屋に対して雰囲気が区画されかつ下方側に位置する第2の部屋と、
この第2の部屋に設けられ、前記処理ガスを供給するためのガス供給設備、ガス排気設備及び電気系統設備を含む、前記処理装置本体のための用力設備と、を備えたことを特徴とする処理システム。
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JP2006306571A JP4000174B2 (ja) | 2006-11-13 | 2006-11-13 | 処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2006306571A JP4000174B2 (ja) | 2006-11-13 | 2006-11-13 | 処理システム |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP26921396A Division JPH1097962A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 処理装置及び処理システム |
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JP2006306571A Expired - Fee Related JP4000174B2 (ja) | 2006-11-13 | 2006-11-13 | 処理システム |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200087075A (ko) * | 2019-01-10 | 2020-07-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리 장치 |
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2006
- 2006-11-13 JP JP2006306571A patent/JP4000174B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20200087075A (ko) * | 2019-01-10 | 2020-07-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리 장치 |
KR102562008B1 (ko) | 2019-01-10 | 2023-08-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리 장치 |
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