JP2007078466A - 外観検査装置及び外観検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 外観検査装置1を、試料4の表面をP波成分とS波成分とを含む照明光で照明する光源部20と、試料4の表面で反射した反射光のP波成分反射光とS波成分反射を生成する偏光部31と、P波及びS波成分反射光による試料4の光学像のそれぞれを撮像してP波成分によるP波画像信号とS波成分によるS波画像信号とを生成する撮像部6p、6sと、P波画像信号及びS波画像信号毎に、試料の対応する2箇所を撮像した画素値の差分を検出する差分検出部12p、12sと、を備えて構成し、P波及びS波画像信号毎にこれらの同じ位置の画素について検出した差分の一方、又は差分の両者間の演算値と欠陥検出閾値とを比較して前記欠陥を検出する。
【選択図】 図3
Description
そこで、途中の工程で形成したパターンを検査して欠陥を検出するパターン欠陥検査が行われる。全工程のうちの複数の工程でパターン欠陥検査を行なえば、前の検査の後で発生した欠陥を検出することができ、検査結果を迅速に工程管理に反映することができる。
差分検出部12は、隣り合うダイの同じ部分の部分画像の一方を検査部分画像とし他方を参照画像として、各々の対応する画素同士のグレイレベル信号の差(グレイレベル差)を検出して、検出閾値計算部13と欠陥検出部14とに出力する。検出閾値計算部13は、グレイレベル差の分布に応じて自動的に欠陥検出閾値を決定して欠陥検出部14に出力する。欠陥検出部14は、差分検出部12が検出したグレイレベル差と検出閾値計算部13が決定した閾値とを比較し、グレイレベル差が閾値を超えるときこれら画素のうちいずれかが欠陥であると判定する。そして欠陥検出部14は、欠陥と判定された部分について、各欠陥毎に、その欠陥の位置やグレイレベル差などを含む欠陥情報を出力する。
そしてP波画像信号及びS波画像信号毎に試料の対応する2箇所を撮像した画素値の差分を検出した後に、P波画像信号及びS波画像信号の同じ位置の画素について検出した差分のいずれか又はこれら差分間の演算値と、欠陥検出閾値とを比較して欠陥を検出する。
あるいは、P波画像信号及びS波画像信号の同じ位置の画素同士の画素値の間の演算値を算出したのち、試料の対応する2箇所について演算値同士の差分を検出し、この演算値同士の差分と欠陥検出閾値とを比較して欠陥を検出する。
図示するように外観検査装置1には、2次元又は3次元方向に自在に移動可能なステージ2と、ステージ2の上面に設けられ試料となる半導体ウエハ4を保持する試料台(チャックステージ)3と、試料台3上に保持された半導体ウエハ4を照明する光源部20と、光源部20による照明光が半導体ウエハ4上で反射した反射光による光学像を後述の撮像部6p及び6sの撮像面上に結像するための結像光学系5と、を備える。
例えば、図4の(A)に示す構成では、光源部20は、水銀ランプなどのランプ部21と、ランプ部21が発生した光から、例えば波長365nmの単波長紫外線や波長450〜600nmの広域紫外線を取り出す光学フィルタ22と、光学フィルタ22を透過した光線を直線偏光する偏光子23と、直線偏光された光線を円偏光するλ/4波長板24から構成され、円偏光又は楕円偏光された照明光を提供する。なお直線偏光光で照明する場合にはλ/4波長板24は不要であるが、ウエハ4を照明する照明光にP波成分とS波成分を持たせるために、例えば、偏光面が入射面に対して45度の角度をなすように偏光子23を設ける。
または、レーザ光源25から生じた直線偏光の光を、偏波面保存ファイバーである光ファイバー26を介してガイドすることとし、光ファイバー26から出射した直線偏光の光がウエハ4の表面に照射される際にP及びS偏向成分を含むように(例えば偏光面がウエハ4表面に対して45度の角度をなすように)、光ファイバー26を配置することとしてもよい。
なお、光源部20は、半導体ウエハ4で反射した正反射光による光学像が撮像部6p及び6sで捉えられるように外観検査装置1に設けてもよく(明視野照明)、半導体ウエハ4で反射した散乱光による光学像が撮像部6p及び6sで捉えられるように外観検査装置1に設けてもよい(暗視野照明)。
そして外観検査装置1は、偏光スプリッター31を透過したP波成分反射光による半導体ウエハ4表面の光学像を撮像してP波画像信号を生成するP波用撮像部6pと、偏光スプリッター31で反射したS波成分反射光による半導体ウエハ4表面の光学像を撮像してS波画像信号を生成するS波用撮像部6sと、を備える。
これら画像記憶部11p及び11sに、隣り合うダイ2個分のグレイレベル信号が記憶されると、P波用差分検出部12p及びS波用差分検出部12sは、これらの2つのダイの各々同じ部分の小さな部分画像(ロジカルフレーム)のグレイレベル信号をそれぞれP波用画像記憶部11p及びS波用画像記憶部11sから読み出す。
画像選択部14は、P波画像信号及びS波画像信号に基づくグレイレベル差のうちいずれかを所定の決定方法によって選択して検出閾値計算部13及び欠陥検出部14に出力する。
例えば、画像選択部14は、各ロジカルフレーム毎に、そのロジカルフレーム内で検出されたグレイレベル差の平均値又は最大値がより大きい方のグレイレベル差を選択することとしてよい。またウエハ4上に形成されるダイの既知のパターン設計データに基づいて、ダイ上の各領域に形成される薄膜に材質や形態に応じて、P波及びS波画像信号の画像信号を元にしたグレイレベル差信号のうちいずれか適する方を選択してもよい。
画像記憶部11に、隣り合う2個のダイ分の画素について算出された演算値が記憶されると、差分検出部12は、これらの2つのダイの各々同じ部分のロジカルフレームの画素について算出された演算値を画像記憶部11から読み出す。そして、2個のダイの同じ部分のロジカルフレームの一方を検査部分画像とし他方を参照画像として、これら2つのロジカルフレームの間において対応する画素についてそれぞれ算出された演算値同士の差分を検出して、検出閾値計算部13と欠陥検出部14とに出力する。検出閾値計算部13は、グレイレベル差の分布に応じて自動的に検出閾値を決定して欠陥検出部14に出力する。欠陥検出部14は、差分検出部12が検出した演算値の差分と検出閾値計算部13が決定した閾値とを比較し、演算値の差分が閾値を超えるとき、対比したダイのいずれかの当該画素部分が欠陥であると判定する。
例えば、演算値としてP波画像信号とS波画像信号の画素値の差を求めるとすると、照明光が殆どウエハ4表面で反射して入射光のP波成分とS波成分の反射率が殆ど変わらない領域においては、これらの画素値間の演算値がゼロとなり検査部分画像と参照画像で差がなくなる。このため膜特性による反射率の変化がある領域のみを欠陥検出の対象とすることが可能となる。
また、例えば演算値としてP波画像信号とS波画像信号の画素値の比を求めるとすると、膜厚や膜の屈折率の変動によってP波成分とS波成分が等比的に変化する領域においては、これらの膜厚等の変動にともなう画素値の変動を回避することが可能となるのでこれらの膜厚等の変動にともなう画素値の明度の変化による疑似欠陥の発生を回避する。
2 ステージ
3 試料台
4 ウエハ
5 撮像光学系
6p、6s 撮像部
20 光源部
31 偏光ビームスプリッタ
Claims (10)
- 試料の対応する2箇所を撮像した検査画像を比較して、互いに異なる部分を欠陥として検出する外観検査装置において、
前記試料を、その表面を反射面とするP波成分とS波成分とを少なくとも含む照明光で照明する光源部と、
前記照明光が前記試料の表面で反射した反射光のP波成分反射光とS波成分反射光とを分離生成する偏光部と、
前記P波成分反射光及び前記S波成分反射光による前記試料の光学像のそれぞれを撮像して、前記P波成分反射光によるP波画像信号と前記S波成分反射光によるS波画像信号とを生成する撮像部と、
前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎に、前記試料の前記対応する2箇所を撮像した画素値の差分を検出する差分検出部と、
前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎にこれら画像の同じ位置の画素について検出した前記差分のいずれか又はこれら差分間の演算値と、欠陥検出閾値とを比較して前記欠陥を検出することを特徴とする外観検査装置。 - 前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎にこれら画像の同じ位置の画素について検出した前記差分のいずれか一方を所定の選択方法に従って選択する選択部と、
選択された前記差分と前記欠陥検出閾値とを比較して、前記欠陥を検出する欠陥検出部と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の外観検査装置。 - 前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎にこれら画像の同じ位置の画素について検出した前記差分の間の演算値を算出する画像演算部と、
算出された前記演算値と前記欠陥検出閾値とを比較して、前記欠陥を検出する欠陥検出部と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の外観検査装置。 - 試料の対応する2箇所を撮像した検査画像を比較して、互いに異なる部分を欠陥として検出する外観検査装置において、
前記試料を、その表面を反射面とするP波成分とS波成分とを少なくとも含む照明光で照明する光源部と、
前記照明光が前記試料の表面で反射した反射光のP波成分反射光とS波成分反射光とを分離生成する偏光部と、
前記P波成分反射光及び前記S波成分反射光による前記試料の光学像のそれぞれを撮像して、前記P波成分反射光によるP波画像信号と前記S波成分反射光によるS波画像信号とを生成する撮像部と、
前記P波画像信号及び前記S波画像信号の同じ位置の画素同士の画素値の間の演算値を算出する画像演算部と、
前記試料の前記対応する2箇所について算出された前記演算値同士の差分を検出する差分検出部と、
前記演算値同士の差分と欠陥検出閾値とを比較して前記欠陥を検出する欠陥検出部と、
を備えることを特徴とする外観検査装置。 - 前記偏光部は、前記反射光を前記P波成分反射光と前記S波成分反射光とに分光する偏光ビームスプリッタであることを特徴とする請求項1〜4に記載の外観検査装置。
- 前記偏光部は、前記照明光が前記試料の表面で反射した反射光を分光するビームスプリッタと、分光した前記反射光を前記P波成分反射光と前記S波成分反射光とに偏光する偏光子と、を有することを特徴とする請求項1〜4に記載の外観検査装置。
- 試料の対応する2箇所を撮像した検査画像を比較して、互いに異なる部分を欠陥として検出する外観検査方法において、
前記試料を、その表面を反射面とするP波成分とS波成分とを少なくとも含む照明光で照明し、
前記照明光が前記試料の表面で反射した反射光のP波成分反射光とS波成分反射光とを分離生成し、
前記P波成分反射光及び前記S波成分反射光による前記試料の光学像のそれぞれを撮像して、前記P波成分反射光によるP波画像信号と前記S波成分反射光によるS波画像信号とを生成し、
前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎に、前記試料の前記対応する2箇所を撮像した画素値の差分を検出し、
前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎にこれら画像の同じ位置の画素について検出した前記差分のいずれか又はこれら差分間の演算値と、欠陥検出閾値とを比較して前記欠陥を検出することを特徴とする外観検査方法。 - 前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎にこれら画像の同じ位置の画素について検出した前記差分のいずれか一方を所定の選択方法に従って選択し、選択された前記差分と前記欠陥検出閾値とを比較して、前記欠陥を検出することを特徴とする請求項7に記載の外観検査方法。
- 前記P波画像信号及び前記S波画像信号毎にこれら画像の同じ位置の画素について検出した前記差分の間の演算値を算出し、算出された前記演算値と前記欠陥検出閾値とを比較して、前記欠陥を検出することを特徴とする請求項7に記載の外観検査方法。
- 試料の対応する2箇所を撮像した検査画像を比較して、互いに異なる部分を欠陥として検出する外観検査方法において、
前記試料を、その表面を反射面とするP波成分とS波成分とを少なくとも含む照明光で照明し、
前記照明光が前記試料の表面で反射した反射光のP波成分反射光とS波成分反射光とを分離生成し、
前記P波成分反射光及び前記S波成分反射光による前記試料の光学像のそれぞれを撮像して、前記P波成分反射光によるP波画像信号と前記S波成分反射光によるS波画像信号とを生成し、
前記P波画像信号及び前記S波画像信号の同じ位置の画素同士の画素値の間の演算値を算出し、
前記試料の前記対応する2箇所について算出された前記演算値同士の差分を検出し、
前記演算値同士の差分と欠陥検出閾値とを比較して前記欠陥を検出する、
ことを特徴とする外観検査方法。
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