JP2007077085A - Hdac阻害活性を有する新規置換ヒドロキサム酸誘導体 - Google Patents

Hdac阻害活性を有する新規置換ヒドロキサム酸誘導体 Download PDF

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Hiroyuki Miyaji
弘幸 宮地
Yuichi Hashimoto
祐一 橋本
Chihiro Shinshi
千尋 進士
Minoru Yoshida
稔 吉田
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Abstract

【課題】HDAC阻害活性を有する新規な抗癌剤ならびに免疫性疾患治療薬の提供。
【解決手段】下記一般式(1)
Figure 2007077085

[式中、Aは窒素または炭素原子であり、BおよびDは同一または相異なってカルボニル基、メチレン基であり、EはCH=CH基、CH―CH基およびO−CH基を表し、Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基等を表す]で表される置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物。
【選択図】なし

Description

本発明はヒストン脱アセチル化酵素(以下HDACと略す)阻害剤として癌の治療、免疫性疾患治療に有効な置換ヒドロキサム酸誘導体とその付加塩並びにそれらの水和物ならびにこれらの化合物を含有する医薬組成物に関する。
細胞内のタンパク質はリン酸化、アセチル化、メチル化、ユビキチン化等種々のエピジェネティックな化学修飾を受けその機能制御が成されている。真核生物の細胞核内に存在するDNAはヒストンや非ヒストンタンパク質と複合体を形成してクロマチン構造をとっている。クロマチンの基本構造単位がヌクレオソームであり、146塩基対のDNAがヒストンオクタマーを約二巻きした構造である(非特許文献1)。ヒストンオクタマーはヒストンH2A,H2B,H3,及びH4各2分子より構成されている。正常なヌクレオソーム構造中においては遺伝子の転写は通常抑制状態にあり、転写が活性化されるためにはヌクレオソーム構造が弛緩されることが必要となる。この転写の活性制御に重要な因子がヒストンのアセチル化および脱アセチル化である。すなわち、ヒストンのアセチル化並びに脱アセチル化がクロマチン構造修飾および遺伝子発現制御において重要なタンパク質修飾である(非特許文献2)。
ヒストンタンパク質修飾に重要な酵素がヒストンアセチルトランスフェラーゼ(ヒストンアセチル化酵素、HAT)とヒストンデアセチラーゼ(ヒストン脱アセチル化酵素、HDAC)である。このうちHDACは活性中心に亜鉛を含有する金属酵素でありアセチル化されたヒストンからアセチル基を脱離させる反応を触媒する。HDACはこれまでに少なくとも11種類のアイソフォームの存在が確認されている(非特許文献3)。各アイソフォームは他の多数のタンパク質と相互作用することにより巨大複合体を構成している。例えばHDAC1とHDAC2はSIN3複合体やNURD/Mi2複合体中に存在している。HDAC3はNCoRやSMRTと複合体を形成し例えばレチノイド受容体やチロイド受容体の転写抑制に関与していることが知られている。
一方、酪酸は細胞周期停止、形質転換細胞の形態正常化・分化誘導作用を示すが、HDAC阻害作用を有し、細胞内にアセチル化されたヒストンを高度に蓄積させることが報告された(非特許文献4)。また天然物であるトリコスタチンAは細胞周期の低下作用や分化誘導能およびアポトーシス誘導を示すが(非特許文献5、6)、やはり強力なHDAC阻害作用を有することが報告された(非特許文献7)。これらのことよりHDAC阻害剤は細胞周期停止作用、形態正常化作用、分化誘導作用、アポトーシス誘導作用に基づく抗癌剤としての有効性が考えられている(非特許文献8)。また、HDAC阻害活性を有する、例えば、SAHA(スベロイルアニリドヒドロキサム酸)、トリコスタチンAなどのヒドロキサム酸誘導体がプロインフラマトリーサイトカイン類(IL−12、IL−18など)の合成を阻害することが報告されており、HDAC阻害剤が炎症または免疫疾患などに対しても治療効果を有する可能性が示唆されている(特許文献1)。
以上のように、HDAC阻害剤の臨床治療における有用性が明らかにされつつあるが、今なお活性の強度、安定性、体内動態、安全性の面で有効なHDAC阻害剤の創製が求められている。
本発明者らはサリドマイドをリード化合物とした構造展開による新規医薬創製研究に従事している。サリドマイドは催眠・鎮痙剤として1950年代後半に臨床使用された薬物であるが、その催奇形性のためにいったんは市場撤退した薬物である。しかし近年サリドマイドは種々の難治性疾患に対する有効性が示され、実際、FDAは1998年にサリドマイドのハンセン病治療薬としての承認を行った。本邦においては2005年に厚生労働省の薬事・食品衛生審議会医薬品第二部会は本薬を多発性骨髄腫の治療薬として希少疾病用医薬品に指定することを承認した。本発明者らはサリドマイドの基本骨格であるフタルイミド構造を有する抗癌剤創製研究の過程で一連の(1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド誘導体がHDAC阻害活性を示すことを発見し本研究に着手した。
従来HDAC阻害剤として例えば以下の化合物が知られている(特許文献1−5)。
Wolffe A.P. et al.Cell, 84:817−819 (1996) Hebbes T R et al.EMBO J, 7:1395−1402 (1988) Pandey R et al.Nucleic Acids Research, 30(23):5036−5055 (2002) Counsens L S et al.J. Biol. Chem. 254:1716−1723 (1979) Yoshida M et al.Cancer Res. 47:3688−3691 (1987) Yoshida M et al.,Exp. Cell Res. 177:122−131 (1988) Yoshida M et al.,J. Biol.Chem. 265:17174−17179 (1990) Marks P A et al.,J. Natl.Cancer Inst. 92:1210−1216 (2000) 特表2005−506320 特開平11−302173 再表2003−070754 特表2005−519950 特開平2004−43390
癌は本邦における死因の第一位を示す疾患であることから、有効で安全性の高い抗癌剤の開発が臨床上望まれている。本発明は構造上、新規な抗癌剤ならびに免疫性疾患治療薬を提供することにある。
本発明者らは抗がん剤や免疫性疾患治療薬として有効性及び安全性の高い構造上新規な薬物の創製を目的としてかかるHDACの遺伝子発現制御に関する役割に着目し、鋭意研究を重ねた結果下記一般式(1)で表される新規置換ヒドロキサム酸誘導体が優れたHDAC阻害作用を有し、抗癌作用を示す事を見出し本発明を完成した。即ち本発明は 一般式(1)
Figure 2007077085
[式中、Aは窒素または炭素原子であり、BおよびDは同一または相異なってカルボニル基、メチレン基であり、EはCH=CH基、CH―CH基およびO−CH基を表し、Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基を表す)の何れかである]で表される置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物である。
本発明の化合物は、構造上新規で、従来のHDAC阻害剤(例えば、SAHA)よりも高いHDAC活性を有する化合物である。
本発明の化合物は、HDAC関連疾患(例えば、ガン、免疫疾患など)治療剤として有用であり、また、さらなるHDAC関連疾患治療剤の開発に有用である。
本発明における一般式(1)で表される化合物の塩類は慣用のものであって、金属塩例えばアルカリ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩など)、アルカリ土類金属塩(例えばカルシウム塩、マグネシウム塩など)、アルミニウム塩等その薬剤上許容される塩があげられる。
また、本発明における一般式(1)で表される化合物にはEがCH=CH基の場合には幾何異性体が存在し得るが、そのような幾何異性体及びそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に含まれるものである。さらに、本発明における一般式(1)で表される化合物にはFの置換基に基づく光学異性体が含まれる場合があるが、そのような光学異性体及びそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に含まれるものである。
本発明の一般式(1)において、無置換または置換基を有していても良いフェニル基で許容される置換基は炭素数1から6の低級アルキル基、炭素数1から3の低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びトリフルオロメチル基が挙げられる。置換基の数は1から5であり、その置換位置は任意である。
本発明の一般式(1)において、「炭素数1から6の低級アルキル基」とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等、直鎖もしくは分岐した炭素数1から6のものが挙げられる。
「炭素数1から3の低級アルコキシ基」とは、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、プロポキシ等、直鎖もしくは分岐した炭素数1から3のものが挙げられる。
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。無置換または置換基を有していても良いフェニル基で許容される置換基は炭素数1から6の低級アルキル基、炭素数1から3の低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びトリフルオロメチル基が挙げられる。置換基の数は1から5であり、その置換位置は任意である。
無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基で許容される置換基は炭素数1から6の低級アルキル基、炭素数1から3の低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びトリフルオロメチル基が挙げられる。置換基の数は1から5であり、その置換位置は任意である。
無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基で許容される置換基は炭素数1から6の低級アルキル基、炭素数1から3の低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びトリフルオロメチル基が挙げられる。置換基の数は1から5であり、その置換位置は任意である。
本発明の一般式(1)で示される化合物のうち、Aが窒素原子であり、BおよびDが同一でカルボニル基であり、EがCH=CH基であり、Fが無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)で表される一般式(1a)
Figure 2007077085
で示される化合物は例えば以下の方法により製造することができる(スキーム 1)。
Figure 2007077085
スキーム 1
すなわち、一般式(1a)
Figure 2007077085
[式中Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)で示される化合物は5−ヒドロキシフタル酸(化合物2)の脱水反応(第一工程)により合成される5−ヒドロキシフタル酸無水物(化合物3)に一般式(9)
Figure 2007077085
[式中Fは前述の通りである]とを反応させて(第二工程)得られる一般式(4)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]にトリフルオロメタンスルホン酸無水物を作用させることにより(第三工程)得られる一般式(5)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りであり、Tfはトリフルオロメタンスルホニル基を表す]で表される化合物とアクリル酸メチルと触媒存在下反応させる(第四工程)ことにより得られる一般式(6)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物を加水分解(第五工程)することにより得られる一般式(7)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物に一般式(10)
Figure 2007077085
[式中、Pはテトラヒドロピラニル基、tert−ブチル基である]で表される化合物を反応させることにより得られる一般式(8)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物を脱保護する(第七工程)ことにより製造する事ができる。
第一工程の反応は無溶媒下加熱することにより、また酢酸中で実施する事ができる。反応温度としては無溶媒の場合には150℃から220℃にて、好適には170℃から200℃にて実施する事ができる。溶媒に用いる場合には還流条件にて実施することができる。
第二工程の反応は無溶媒下加熱することにより、また酢酸中で実施する事ができる。反応温度としては無溶媒の場合には150℃から220℃にて、好適には170℃から200℃にて実施する事ができる。溶媒に用いる場合には還流条件にて実施することができる。
第三工程の反応はトルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、塩基として例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、又はピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基の存在下または非存在下に実施する事ができる。反応温度としては−20℃から150℃にて、好適には0℃から100℃にて実施する事ができる。
第四工程の反応はトルエン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、これらの有機溶媒と水酸化カリウム、水酸化ナトリウム水溶液との混合溶液等の溶媒中、塩基として例えばピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基の存在下テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム触媒存在下実施する事ができる。反応温度としては−20℃から150℃にて、好適には0℃から100℃にて実施する事ができる。
第五工程の加水分解反応はアルカリ性条件下で行う事ができる。アルカリ性条件としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。反応温度としては0℃から100℃にて、好適には室温から60℃にて実施する事ができる。
第六工程の反応は塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中縮合剤の存在下塩基の存在下実施する事ができる。
縮合剤としては例えばN,N−ジメチルイミゾリニウムクロライド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−[3-(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、シアノリン酸ジエチル、ジフェニルリン酸アジド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、又はピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基が挙げられる。添加剤としてはN−ヒドロキシベンゾトリアゾール、 N−ヒドロキシスクシンイミドや3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン等が挙げられる。反応温度としては−20℃から100℃にて、好適には0℃から50℃にて実施する事ができる。
第七工程の脱保護反応は酸性条件下で行う事ができる。酸性条件としては塩酸、トリフルオロ酢酸等がそのままで、またはメタノールやエタノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒との混合溶媒として用いられる。反応温度としては0℃から100℃にて、好適には室温から80℃にて実施する事ができる。
また本発明の一般式(1)で示される化合物のうち、Aが窒素原子であり、BおよびDが同一でカルボニル基であり、EがCH−CH基であり、Fが無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)で表される一般式(1b)
Figure 2007077085
で示される化合物は例えば以下の方法により製造することができる(スキーム 2)。
Figure 2007077085
スキーム 2
すなわち、一般式(1b)
Figure 2007077085
[式中Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)]で示される化合物は1,2,4−ベンゼントリカルボン酸無水物(11)と一般式(9)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]とを反応(第八工程)させて得られる一般式(12)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]を還元(第九工程)することにより得られる一般式(13)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]で表される化合物を臭素化(第十工程)して得られる一般式(14)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物にマロン酸ジメチルエステルを反応(第十一工程)させることにより得られる一般式(15)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物を加水分解ならびに脱炭酸(第十二工程)させて得られる一般式(16)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]にヒドロキシルアミンを反応させる(第十三工程)ことにより製造する事ができる。
第八工程の反応は無溶媒下加熱することにより、また酢酸中にて実施する事ができる。反応温度としては無溶媒の場合には150℃から220℃にて、好適には170℃から200℃にて実施する事ができる。溶媒に用いる場合には還流条件にて実施することができる。
第九工程の反応はテトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、還元剤としてボラン・テトラヒドロフラン錯体やボラン・ヂメチルスルフィド錯体の存在下実施する事ができる。反応温度としては−100℃から50℃にて、好適には−20℃から30℃にて実施する事ができる。
第十工程の反応は塩化メチレン、トルエン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、臭素化剤として例えばトリフェニルホスフィン−四臭化炭素存在下実施する事ができる。反応温度としては−20℃から150℃にて、好適には0℃から50℃にて実施する事ができる。
第十一工程の反応はテトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中塩基の存在下実施する事ができる。塩基としてはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、水素化ナトリウム、ブチルリチウム等が上げられる。反応温度としては−20℃から150℃にて、好適には0℃から100℃にて実施する事ができる。
第十二工程の反応は酸性条件で実施することができる。酸としては塩酸や硫酸等が挙げられる。溶媒としては塩酸や硫酸の水溶液をそのままで、またはエタノールや酢酸エチル等の有機溶媒との混合溶媒が挙げられる。
第十三工程の反応はテトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中縮合剤の存在下塩基の存在下実施する事ができる。
縮合剤としては例えばクロロギ酸エチルN,N−ジメチルイミゾリニウムクロライド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−[3-(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、シアノリン酸ジエチル、ジフェニルリン酸アジド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、又はピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基が挙げられる。反応温度としては−20℃から100℃にて、好適には0℃から50℃にて実施する事ができる。
また本発明の一般式(1)で示される化合物のうち、Aが窒素原子であり、Bがカルボニル基であり、Dがメチレン基あり、EがCH=CH基であり、Fが無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)で表される一般式(1c)
Figure 2007077085
で示される化合物は例えば以下の方法により製造することができる(スキーム 3)。
Figure 2007077085
スキーム 3
すなわち、一般式(1c)
Figure 2007077085
[式中Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)]で示される化合物は一般式(12)
Figure 2007077085
[式中Fは前述の通りである]の一方のカルボニル基を還元(第十四工程)して得られる一般式(17)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]を還元後再び酸化(第十五工程)することにより得られる一般式(18)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]で表される化合物にトリフェニルホスホラニリデン酢酸メチルを反応させて(第十六工程)得られる一般式(19)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物を加水分解(第十七工程)させて得られる一般式(20)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]に一般式(10)
Figure 2007077085
[式中、Pはテトラヒドロピラニル基、tert−ブチル基である]で表される化合物を反応させる(第十八工程)ことにより得られる一般式(21)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りであり、Pはテトラヒドロピラニル基、tert−ブチル基である]で表される合物を脱保護する(第十九工程)ことにより製造する事ができる。
第十四工程の反応は塩酸や酢酸等の溶媒中、還元剤として塩化すずや塩化鉄の存
在下実施する事ができる。反応温度としては50℃から200℃にて、好適には80℃から150℃にて実施する事ができる。
第十五工程前半の還元反応はテトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、還元剤としてボラン・テトラヒドロフラン錯体やボラン・ジメチルスルフィド錯体、ジイソブチルアルミニウムヒドリドの存在下実施する事ができる。反応温度としては−20℃から150℃にて、好適には0℃から120℃にて実施する事ができる。
第十五工程後半の酸化反応は塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、酸化剤として二酸化マンガン、ピリジニウムジクロマート、ピリジニウムクロロクロマート存在下実施する事ができる。反応温度としては−80℃から150℃にて、好適には−50℃から100℃にて実施する事ができる。
第十六工程の反応はテトラヒドロフラン、塩化メチレン、トルエン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中実施する事ができる。反応温度としてはー20℃から150℃にて、好適には0℃から100℃にて実施する事ができる。
第十七工程の反応はアルカリ性条件下で行う事ができる。アルカリ性条件としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。反応温度としては0℃から150℃にて、好適には室温から100℃にて実施する事ができる。
第十八工程の反応は塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中縮合剤の存在下塩基の存在下実施する事ができる。
縮合剤としては例えばN,N−ジメチルイミゾリニウムクロライド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−[3-(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、シアノリン酸ジエチル、ジフェニルリン酸アジド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、又はピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基が挙げられる。添加剤としてはN−ヒドロキシベンゾトリアゾール、 N−ヒドロキシスクシンイミドや3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン等が挙げられる。反応温度としては−20℃から100℃にて、好適には0℃から50℃にて実施する事ができる。
第十九工程の脱保護反応は酸性条件下で行う事ができる。酸性条件としては塩酸、トリフルオロ酢酸等がそのままで、またはメタノールやエタノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒との混合溶媒として用いられる。反応温度としては0℃から100℃にて、好適には室温から80℃にて実施する事ができる。
また本発明の一般式(1)で示される化合物のうち、Aが窒素原子であり、Bがメチレン基であり、Dがカルボニル基あり、EがCH=CH基であり、Fが無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)で表される一般式(1d)
Figure 2007077085
で示される化合物は例えば以下の方法により製造することができる(スキーム 4)。
Figure 2007077085
スキーム 4
すなわち、一般式(1d)
Figure 2007077085
[式中Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
Figure 2007077085
(ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基)]で示される化合物は2−メチル−4−ニトロ安息香酸メチル(22)
Figure 2007077085
を臭素化(第二十工程)して得られる (23)
Figure 2007077085
に一般式(9)
Figure 2007077085
[式中Fは前述の通りである]を反応させて(第二十一工程)得られる一般式(24)
Figure 2007077085
[式中、Fは前述の通りである]で表される化合物を還元して(第二十二工程)得られる一般式(25)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物をMeerwein arylation反応(第二十三工程)させて得られる一般式(26)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]を脱臭化水素化(第二十四工程)することにより得られる一般式(27)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]を加水分解(第二十五工程)することにより得られる一般式(28)
Figure 2007077085
[式中、 Fは前述の通りである]で表される化合物に一般式(10)
Figure 2007077085
[式中、Pはテトラヒドロピラニル基、tert−ブチル基である]で表される化合物を反応させる(第二十六工程)ことにより得られる一般式(29)
Figure 2007077085
[式中、 FおよびPは前述の通りである]で表される化合物を脱保護する(第二十七工程)ことにより製造する事ができる。
第二十工程の反応は四塩化炭素、シクロヘキサン、ベンゼン等の溶媒中、触媒の存在下臭素化剤として臭素、N−ブロモスクシンイミド等を用いて実施することができる。触媒としては光、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル等を用いることができる、反応温度としては50℃から200℃にて、好適には溶媒の還流温度にて実施する事ができる。
第二十一工程の反応はトルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、塩基として例えばピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基の存在下実施する事ができる。反応温度としては−20℃から150℃にて、好適には0℃から130℃にて実施する事ができる。
第二十二工程の還元反応はパラジウム担持活性炭、白金担持活性炭、酸化白金、ロジウム担持アルミナ等の金属触媒存在下、エタノール、メタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中水素圧0.1MPaから0.5MPaで実施する事ができる。反応温度としては0℃から100℃にて、好適には室温から80℃にて実施する事ができる。
第二十三工程のMeerwein arylationは塩酸や臭化水素酸等のハロゲン化水素の水溶液中で亜硝酸ナトリウムを作用させジアゾニウム塩を合成後アクリル酸メチル又はアクリル酸エチル等のアクリル酸エステル及び酸化銅(I)等の第一銅塩類を加える事によって実施する事ができる。反応温度はジアゾニウム塩の合成は−40℃から0℃にて、好適には−20℃から−5℃にて実施する事ができる。次のアクリル酸エステルとの反応は0℃から50℃にて、好適には室温から40℃にて実施する事ができる。
第二十四工程の反応はテトラヒドロフラン、トルエン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中塩基として例えばピリジン、トリエチルアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウンデセン等の有機塩基の存在下実施する事ができる。実施する事ができる。反応温度としては0℃から200℃にて、好適には59℃から150℃にて実施する事ができる。
第二十五工程の反応はアルカリ性条件下で行う事ができる。アルカリ性条件としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。反応温度としては0℃から150℃にて、好適には室温から100℃にて実施する事ができる。
第二十六工程の反応は塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中縮合剤の存在下塩基の存在下実施する事ができる。
縮合剤としては例えばN,N−ジメチルイミゾリニウムクロライド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−[3-(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、シアノリン酸ジエチル、ジフェニルリン酸アジド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、又はピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基が挙げられる。添加剤としてはN−ヒドロキシベンゾトリアゾール、 N−ヒドロキシスクシンイミドや3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン等が挙げられる。反応温度としては−20℃から100℃にて、好適には0℃から50℃にて実施する事ができる。
第二十七工程の脱保護反応は酸性条件下で行う事ができる。酸性条件としては塩酸、トリフルオロ酢酸等がそのままで、またはメタノールやエタノール、テトラヒドロフラン等の有機溶媒との混合溶媒として用いられる。反応温度としては0℃から100℃にて、好適には室温から80℃にて実施する事ができる。
本発明の化合物は、抗癌剤、免疫疾患治療剤等、HDAC関連疾患の治療剤としても有効に使用することができる。
本発明の化合物は、生体に対して悪影響を及ぼさない医薬組成物の形態で特定の疾患の治療薬として使用することができる。通常、そのような組成物には、本発明の化合物の他、薬剤上許容される担体が含まれる。
「薬剤上許容される担体」は、溶媒、分散媒、コーティング剤、抗菌及び抗真菌剤、アイソトニックに作用して吸着を遅らせる薬剤及びその類似物を含み、薬剤的投与に適するもののことである。該担体及び該担体を希釈するために好ましいものの例には、限定はしないが、水、生理食塩水、フィンガー溶液、デキストロース溶液、及びヒト血清アルブミンなどが含まれる。また、リポソーム及び不揮発性油などの非水溶性媒体も用いられる。さらに、本発明の化合物の活性を保護又は促進するような特定の化合物が、該組成物中に包含されていてもよい。
本発明に係る医薬組成物は、静脈内、皮内、皮下、経口(例えば、吸入なども含む)、経皮及び経粘膜への投与を含み、治療上適切な投与経路に適合するように製剤化される。非経口、皮内、又は皮下への適用に使用される溶液又は懸濁液には、限定はしないが、注射用の水などの滅菌的希釈液、生理食塩水溶液、不揮発性油、ポリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、又は他の合成溶媒、ベンジルアルコール又は他のメチルパラベンなどの保存剤、アスコルビン酸又は亜硫酸水素ナトリウムなどの抗酸化剤、塩化ベンザルコニウム、塩酸プロカインなどの無痛化剤、エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)などのキレート剤、酢酸塩、クエン酸塩、又はリン酸塩などの緩衝剤、塩化ナトリウム又はデキストロースなど浸透圧調製のための薬剤を含んでもよい。
pHは塩酸又は水酸化ナトリウムなどの酸又は塩基で調製することができる。非経口的標品はアンプル、ガラスもしくはプラスチック製の使い捨てシリンジ又は複数回投与用バイアル中に収納される。
注射に適する医薬組成物には、滅菌された注射可能な溶液又は分散媒を、使用時に調製するための滅菌水溶液(水溶性の)又は分散媒及び滅菌されたパウダーが含まれる。静脈内の投与に関し、適切な担体には生理食塩水、静菌水、又はリン酸緩衝化生理食塩水(PBS)が含まれる。注射剤として使用する場合、組成物は滅菌的でなくてはならず、また、シリンジを用いて投与されるために十分な流動性を保持していなくてはならない。該組成物は、調剤及び保存の間、化学変化及び腐食等に対して安定でなくてはならず、細菌及び真菌などの微生物由来のコンタミネーションを防止する必要がある。担体は、例えば、水、エタノール、ポリオール(グリセロール、プロピレングリコール、及び液体ポリエチレングリコールなど)、及び適切な混合物を含む溶媒又は分散媒培地を使用することができる。例えば、レクチンなどのコーティング剤を用い、分散媒においては必要とされる粒子サイズを維持し、界面活性剤を用いることにより適度な流動性が維持される。種々の抗菌剤及び抗真菌剤、例えば、パラベン、クロロブタノール、フェノール、アスコルビン酸、及びチメロサールなどは、微生物のコンタミネーションの防止に対して使用可能である。また、糖、マンニトール、ソルビトールなどのポリアルコール及び塩化ナトリウムのような等張性を保つ薬剤が組成物中に含まれてもよい。吸着を遅らせることができる組成物には、モノステアリン酸アルミニウム及びゼラチンなどの薬剤が含まれる。
滅菌的な注射可能溶液は、必要な成分を単独で、又は他の成分と組み合わせた後に、適切な溶媒中に必要量の活性化合物を加え、滅菌することで調製される。一般に、分散媒は、基本的な分散培地及び上述したその他の必要成分を含む滅菌的媒体中に活性化合物を取り込むことにより調製される。滅菌的な注射可能な溶液を調製するための滅菌的パウダーの調製方法には、活性な成分及び滅菌溶液に由来する何れかの所望な成分を含むパウダーを調製する真空乾燥及び凍結乾燥が含まれる。
経口組成物には、不活性な希釈剤又は体内に取り込んでも害を及ぼさない担体が含まれる。経口組成物には、例えば、ゼラチンのカプセル剤に包含されるか、加圧されて錠剤化される。経口的治療のためには、活性化合物は賦形剤と共に取り込まれ、錠剤、トローチ又はカプセル剤の形態で使用される。また、経口組成物は、流動性担体を用いて調製することも可能であり、流動性担体中の該組成物は経口的に適用される。さらに、薬剤的に適合する結合剤、及び/又はアジュバント物質などが包含されてもよい。
錠剤、丸薬、カプセル剤、トローチ及びその類似物は以下の成分又は類似の性質を持つ化合物の何れかを含み得る:微結晶性セルロースのような賦形剤、アラビアゴム、トラガント又はゼラチンなどの結合剤;スターチ又はラクトースなどの、アルギン酸、PRIMOGEL、又はコーンスターチなどの膨化剤;ステアリン酸マグネシウム又はSTRROTESなどの潤滑剤;コロイド性シリコン二酸化物などの滑剤;スクロース又はサッカリンなどの甘味剤;又はペパーミント、メチルサリチル酸又はオレンジフレイバーなどの香料添加剤。
本発明の化合物は、植込錠及びマイクロカプセルに封入された送達システムなどの徐放性製剤として、体内から即時に除去されることを防ぎ得る担体を用いて調製することができる。エチレンビニル酢酸塩、ポリ酸無水物、ポリグリコール酸、コラーゲン、ポリオルトエステル、及びポリ乳酸などの、生物分解性、生物適合性ポリマーを用いることができる。このような材料は、当業者によって容易に調製することができる。また、リポソームの懸濁液も薬剤的に受容可能な担体として使用することができる。有用なリポソームは、限定はしないが、ホスファチジルコリン、コレステロール及びPEG誘導ホスファチジルエタノール(PEG−PE)を含む脂質組成物として、使用に適するサイズになるように、適当なポアサイズのフィルターを通して調製され、逆相蒸発法によって精製される。
本発明の化合物による特定の疾患の治療又は予防において、適切な投与量レベルは、投与される患者の状態、投与方法等に依存するが、当業者であれば、容易に最適化することが可能である。
注射投与の場合は、例えば、一日に患者の体重あたり約0.1μg/kgから約500mg/kgを投与するのが好ましく、一般に一回又は複数回に分けて投与され得るであろう。好ましくは、投与量レベルは、一日に約0.1μg/kgから約250mg/kgであり、より好ましくは一日に約0.5〜約100mg/kgである。
経口投与の場合は、組成物は、好ましくは1.0から1000mgの活性成分を含む錠剤の形態で提供され、好ましくは活性成分が1.0,5.0,10.0,15.0,20.0,25.0,50.0,75.0,100.0,150.0,200.0,250.0,300.0,400.0,500.0,600.0,750.0,800.0,900.0及び1000.0mgである。化合物は一日に1〜4回の投与計画で、好ましくは一日に一回又は二回投与される。
医薬組成物又は製剤は、一定の投与量を保障すべく、均一単位投与量により構成されなくてはならない。単位投与量は、患者の治療に有効な一回の投与量を含み、薬剤的に受容可能な担体と共に製剤化された一単位のことである。本発明の単位投与量を決定する場合には、製剤化される化合物の物理的、化学的特徴、期待される治療上の効果、及び該化合物に特有な製剤化における留意事項等により影響を受ける。
本発明の医薬組成物はキットの形態で、容器、パック中に投与の説明書と共に含めることができる。本発明に係る薬剤組成物がキットとして供給される場合、該薬剤組成物のうち異なる構成成分が別々の容器中に包装され、使用直前に混合される。このように構成成分を別々に包装するのは、活性構成成分の機能を失うことなく長期間の貯蔵を可能にするためである。
キット中に含まれる試薬は、構成成分が活性を長期間有効に持続し、容器の材質によって吸着されず、変質を受けないような何れかの種類の容器中に供給される。例えば、封着されたガラスアンプルは、窒素ガスのような中性で不反応性ガスの下において包装されたバッファーを含む。アンプルは、ガラス、ポリカーボネート、ポリスチレンなどの有機ポリマー、セラミック、金属、又は試薬を保持するために通常用いられる他の何れかの適切な材料などから構成される。他の適切な容器の例には、アンプルなどの類似物質から作られる簡単なボトル、及び内部がアルミニウム又は合金などのホイルで裏打ちされた包装材が含まれる。他の容器には、試験管、バイアル、フラスコ、ボトル、シリンジ、又はその類似物が含まれる。容器は、皮下用注射針で貫通可能なストッパーを有するボトルなどの無菌のアクセスポートを有する。
また、キットには使用説明書も添付される。当該医薬組成物からな成るキットの使用説明は、紙又は他の材質上に印刷され、及び/又はフロッピー(登録商標)ディスク、CD−ROM、DVD−ROM、Zipディスク、ビデオテープ、オーディオテープなどの電気的又は電磁的に読み取り可能な媒体として供給されてもよい。詳細な使用説明は、キット内に実際に添付されていてもよく、あるいは、キットの製造者又は分配者によって指定され又は電子メール等で通知されるウェブサイトに掲載されていてもよい。
次に本発明を具体例によって説明するがこれらの例によって本発明が限定されるものではない。
2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボン酸
Figure 2007077085
ベンジルアミン (567 μL, 5.20 mmol), 1,2,4-トリカルボン無水物 (1.00 g, 5.20 mmol)を混合し、175 ℃にて4 時間加熱した。反応物を酢酸エチルに溶解し、希塩酸、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去して 1.46 gの表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.43 (dd, J = 1.2, 7.6 Hz, 1H), 8.40 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 7.96 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.37 (m, 2H), 7.30 (m, 2H), 7.25 (m, 1H), 4.87 (s, 2H).
FAB MS m/z 282 (M+H)
2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール
Figure 2007077085
2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボン酸 (1.46 g) をTHF 15 mL に溶解し、−20℃にて BH− THF 1.0 mol/L溶液 (10.4 mL) を滴下した。そのまま室温に戻しながら24 hr撹拌した。0 ℃にて撹拌しながら水 2.3 mL, KCO 619 mgを加え、飽和NaHCO、飽和食塩水、希塩酸で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(AcOEt : Hexane = 1 : 1→AcOEt)にて精製し、1.00 gの表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.86 (s, 1H), 7.83 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.70 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.43 (m, 2H), 7.32 (m, 2H), 7.27 (m, 1H), 4.86 (d, J = 6.5 Hz, 2H), 4.85 (s, 2H).
FAB MS m/z 268 (M+H)
2−ベンジル−5−ブロモメチル−1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール (100 mg, 0.374 mmol), トリエチルアミン (103 μL, 0.743 mmol)をTHFに溶解し、−50 ℃にて撹拌した。そこにメタンスルホニルクロライド (38 μL, 0.491 mmol)を滴下し、温度を−50 ℃に保ったまま40 分撹拌した後、リチウムブロマイド (127 mg, 1.48 mmol)を加え、室温に戻しながら一晩撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、希塩酸、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去して表題化合物77 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.86 (d, J = 1.0 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.72 (dd, J = 1.0, 7.6 Hz, 1H), 7.42 (m, 2H), 7.32 (m, 3H), 4.84 (s, 2H), 4.54 (s, 2H) .
FAB MS m/z 330, 332 (M+H)
(2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール)−5−イルマロン酸ジメチル
Figure 2007077085
マロン酸ジメチル (790 μL, 6.89 mmol), ナトリウムメトキシド (92 mg, 7.11 mmol), モレキュラーシーブス4Aをメタノールに溶解し50℃にて40 分撹拌した。2−ベンジルー5−ブロモメチル−1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール (400 mg, 1.05 mmol)を加え、42時間加熱還流させた。溶媒を留去後、酢酸エチルに溶解し飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー( AcOEt: Hexane= 1: 2→ 1 : 1)にて精製表題化合物を64 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.77 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.70 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 7.56 (dd, J = 1.2, 7.6 Hz, 1H), 7.44 (m, 2H), 7.26 (m, 3H), 4.84 (s, 2H), 3.73 (s, 6H), 3.42 (s, 1H), 3.37 (d, J = 7.7 Hz, 2H) .
FAB MS m/z 382 (M+H)
3−(2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)プロピオン酸
Figure 2007077085
(2−ベンジル−1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール)−5−イルマロン酸ジメチル (64 mg, 0.17 mmol)を0.5 mol/L 塩酸水溶液 2 mL、氷酢酸 2 mLの混合溶媒の溶解し、4時間還流した。反応液を水にあけ、酢酸エチルにて抽出後、飽和食塩水で洗った。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し表題化合物を36 mg得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.76 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.69 (s, 1H), 7.54 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.41 (m, 2H), 7.31 (m, 3H), 4.83 (s, 2H), 3.08 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 2.73 (t, J = 7.3 Hz, 2H) .
FAB MS m/z 310 (M+H)
3−(2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシ−プロピオンアミド
Figure 2007077085
3−(2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)プロピオン酸 (36 mg, 0.11 mmol)をテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下トリエチルアミン (31 μL, 0.22 mmol), クロロ蟻酸エチル (13μL, 0.13 mmol)を加え、20 分撹拌した。そして別のフラスコにて撹拌しておいた塩酸ヒドロキシルアミン(76.4 mg, 1.10 mmol), 水酸化カリウム (61 mg, 1.09 mmol)のメタノール溶液を加え、徐々に室温に戻しながら、10時間撹拌した。溶媒を留去後、酢酸エチルに溶解し希塩酸、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去して表題化合物 35 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 9.07 (s, 1H), 8.70 (s,1H), 7.79 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.73 (s,1H), 7.66 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.32 (m, 5H), 4.75 (s, 2H), 2.99 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 2.33 (t, J = 7.3 Hz, 2H).
HR FAB MS: (M+H)+ 計算値 C1817,
325.1188, 実測値, 325.1204
2−フェニルー1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール
Figure 2007077085
実施例2と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.97 (s, 1H), 7.94 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.79 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.52 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.44 (dd, J = 6.7, 7.9 Hz, 2H), 7.41 (t, J = 6.7 Hz, 1H), 4.90 (s, 2H) .
FAB MS m/z 254 (M+H)+
2−フェニル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボキサミド
Figure 2007077085
2−フェニル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール (320 mg, 1.19 mmol), PCC (563 mg, 2.61 mmol)を塩化メチレン 10 mLに溶解し、セライト1 gを加えて室温にて3 時間撹拌した。反応液を濾過した後、飽和食塩水で洗い溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(AcOEt : Hexane = 1 : 2)にて精製し表題化合物270 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 10.16 (s, 1H), 8.31 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 8.24 (dd, J = 1.2, 8.0 Hz, 1H), 8.00 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.53 (m, 2H), 7.44 (m, 3H) .
FAB MS m/z 252 (M+H)+
(E)−3−(1,3−ジオキソ−2−フェニルー2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−(テトラヒドロピランー2−イルオキシ)アクリルアミド
Figure 2007077085
5−ホルミル−2−フェニル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール(153 mg, 0.52 mmol), ジアザビシクロウンデセン (163 μL, 1.09 mmol)をテトラヒドロフラン に溶解し、N−(O-テトラヒドロピランー2−イル)ーオキシ ジエチルホスホノアセトアミド (130 mg, 0.52 mmol)を加え二日間撹拌した。反応液を飽和食塩水、希塩酸で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(AcOEt : Hexane = 1 : 2→AcOEt)にて精製し表題化合物101 mg( E: Z= 4 : 1)を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 9.27 (s, 1H), 7.89 (s, 1H), 7.79 (m, 3H), 7.40 (m, 5H), 6.59 (m,1H), 5.05 (m, 1H), 3.99 (m, 1H), 3.61 (m, 1H), 1.82 (m, 3H), 1.58 (m, 3H) .
FAB MS m/z 393 (M+H)+
(E)−N−ヒドロキシ−3−(1,3−ジオキソー2−フェニルー2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)アクリルアミド
Figure 2007077085
(E)−3−(1,3−ジオキソ−2−フェニルー2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−(テトラヒドロピランー2−イルオキシ)アクリルアミド (90 mg, 0.23 mmol), p−トルエンスルホン酸・一水和物 (87 mg, 0.46 mmol)をメタノールに溶解し、室温で2時間撹拌した。溶媒を留去後、酢酸エチルに溶解し飽和食塩水、希塩酸で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、表題化合物 67 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.85 (s, 1H), 9.19 (s, 1H), 8.13 (d, J = 0.6 Hz, 1H), 8.06 (dd, J = 0.6, 7.4 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 7.65 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 7.52(m, 2H), 7.44 (m, 3H), 6.74 (d, J = 15.9 Hz, 1H) .
HR FAB MS: (M+H)+ 計算値 C1713, 309.0875, 実測値,309.0865
2−フェネチル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール
Figure 2007077085
実施例2と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.82 (s, 1H), 7.77 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.68 (d, J = 7.7 Hz,1H), 7.25 (m, 5H), 4.90 (s, 2H), 3.92 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.97 (t, J = 7.6 Hz, 2H).
FAB MS m/z 282 (M+H)+
2−フェネチル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボキサミド
Figure 2007077085
実施例8と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 10.16 (s, 1H), 8.31 (d, J = 1.2 Hz 1H), 8.24 (dd, J = 1.2, 8.0 Hz, 1H), 8.00 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.25(m, 5H), 3.97 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 3.03 (t, J = 7.4 Hz, 2H).
FAB MS m/z 280 (M+H)+
(E)−3−(1,3−ジオキソー2−フェネチル−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−(テトラヒドロピランー2−イルオキシ)アクリルアミド
Figure 2007077085
実施例9と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.99 (s, 1H), 7.98 (s, 1H), 7.80 (m, 3H), 7.26 (m, 5H), 6.54 (m, 1H), 5.05 (m, 1H), 3.99 (m, 1H), 3.93 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 3.67 (m, 1H), 2.99 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 1.86 (m, 3H), 1.62 (m, 3H) .
FAB MS m/z 421 (M+H)+
(E)−3−(1,3−ジオキソ−2−フェネチル−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例10と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.78 (s, 1H), 9.28 (s, 1H), 7.99 (s, 1H), 7.96 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.84 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 7.24 (m, 2H), 7.18 (m, 3H), 6.68 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 3.81 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 2.91 (t, J =7.3 Hz, 1H).
HR FAB MS: (M+H)+ 計算値 C1917, 337.1188, 実測値, 337.1209
5−ヒドロキシ−2−ジフェニルメチル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
4-ヒドロキシフタル酸 (200 mg, 1.10 mmol)を200 ℃で2 hr加熱し、その後175 ℃に温度を下げ、アミノジフェニルメタン (190 μL, 1.10 mmol)を加え、4時間加熱した。反応物を酢酸エチルに溶解し、希塩酸で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー( AcOEt : Hexane = 1 : 2→1 : 1 )にて精製し表題化合物 300 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.60 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.20 (m, 10H), 7.18 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 6.96 (dd, J = 2.1, 8.2 Hz 1H), 6.62 (s, 1H).
FAB MS m/z 330 (M+H)+
2−ジフェニルメチル−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
5−ヒドロキシ−2−ジフェニルメチル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール (270 mg, 0.82 mmol)、トリエチルアミン (170 μL, 1.23 mmol)をトルエンに溶解しアルゴン雰囲気下、0 ℃で撹拌しながら、トリフルオロメタンスルホン酸無水物 (207 μL, 1.23 mmol)を滴下した。その後室温に戻し、24時間撹拌した。反応液を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウムで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー ( AcOEt : Hexane = 1 : 5)にて精製し、表題化合物 258 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.84 (d, J =8.2 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 2.1 Hz, 1H),7.51 (dd, J = 2.1, 8.2 Hz, 1H), 7.25 (m, 10H), 6.62 (s, 1H).
FAB MS m/z 462 (M+H)+
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル-1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−tert−ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
2−ジフェニルメチルー5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール (256 mg, 0.56 mmol), N-tert−ブトキシアクリルアミド (77 mg, 0.54 mmol), トリエチルアミン (90 μL, 0.65 mmol), ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムクロライド (38 mg, 0.056 mmol)をN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、アルゴン雰囲気下脱気後、100℃で1日加熱撹拌した。反応液をセライト濾過後、酢酸エチルで希釈し、希塩酸、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー( AcOEt : Hexane = 1 :1.5)にて精製し、表題化合物 120 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.38 (s, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.71 (m, 3H), 7.25 (m, 10H), 6.64 (s, 1H), 6.63 (m, 1H), 1.15 (s, 9H).
FAB MS m/z 455 (M+H)+
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル-1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−tert−ブトキシアクリルアミド
をトリフルオロ酢酸 8 mL中で一晩撹拌した。溶媒を留去後、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー( AcOEt : Hexane = 1 : 1→AcOEt)にて精製し、表題化合物 35 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.48(s, 1H), 7.96 (s, 1H), 7.80 (m, 3H), 7.36 (m, 10H), 6.72 (s, 1H), 6.47 (m, 1H).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C2419, 399.1345 実測値, 399.1352
2−(2,2−ジフェニル−1−エチル)−5−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−1,3−ジオン
Figure 2007077085
実施例15と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.63 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.28 (m, 8H), 7.18 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 7.16 (d, J = 2.2 Hz, 1H), 7.03 (dd, J = 2.1, 8.2 Hz 1H), 4.72 (t, J = 8.2 Hz, 1H), 4.27 (d, J = 8.2 Hz, 2H).
FAB MS m/z 344 (M+H)+
2−(2,2−ジフェニル−1−エチル)−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−1,3−ジオン
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.82 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.61 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.51 (dd, J = 2.4, 8.3 Hz, 1H), 7.24 (m, 8H), 7.15 (m, 2H), 4.67 (t, J = 8.3 Hz, 1H), 4.28 (d, J = 8.2 Hz, 2H).
FAB MS m/z 476 (M+H)+
(E)−3−(2−(2,2−ジフェニル−1−エチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−tert−ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例17と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.31 (s, 1H), 7.91 (s, 1H), 7.76 (m, 3H), 7.31 (m, 4H), 7.26 (m,4H), 7.18 (m, 2H), 6.50 (d, J = 17.7 Hz, 1H),4.73 (t, J = 8.6 Hz, 1H), 4.31 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 1.33 (s, 9H).
FAB MS m/z 469 (M+H)+
(E)−3−(2−(2,2−ジフェニル−1−エチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例18と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.81 (s, 1H), 9.16 (s, 1H), 7.95 (s, 1H), 7.93 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.80 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 7.33 (d, J = 7.3 Hz, 4H),7.25 (dd, J = 7.3 Hz, 4H), 7.17 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 6.66 (d, J =15.7 Hz, 1H), 4.57 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 4.23 (d, J = 8.0 Hz, 2H).
HR FAB MS: (M+H)+ 計算値 C2521, 413.1501, 実測値, 413.1541
2−((S)−2−ベンジルオキシー1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボン酸
Figure 2007077085
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.41 (dd, J = 1.2, 7.6 Hz 1H), 8.37 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 7.92 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.32 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 2H), 7.29 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 7.20 (s, 5H), 5.60 (dd, J = 5.5, 10.1 Hz), 4.59 (dd, J = 10.1 Hz, 1H) 4.56 (m, 2H), 4.05 (dd, J = 5.5, 10.1 Hz, 1H).
FAB MS m/z 402 (M+H)+
2−((S)−2−ベンジルオキシ−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール
Figure 2007077085
実施例2と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.79 (d, J = 1.0 Hz 1H), 7.75 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.65 (dd, J = 1.0, 7.8 Hz, 1H), 7.47 (m, 2H), 7.28(m, 8H), 5.62 (dd, J = 5.4, 10.3 Hz), 4.82 (s,2H), 4.63 (dd, J = 10.3 Hz, 1H) 4.58 (s, 2H),4.03 (dd, J = 5.4, 10.3 Hz, 1H).
FAB MS m/z 388 (M+H)+
2−((S)−2−ベンジルオキシ−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボクスアルデヒド
Figure 2007077085
実施例8と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.31 (d, J = 1.2 Hz 1H), 8.21 (dd, J = 1.2, 7.6 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.51 (m, 2H), 7.30(m, 8H), 5.66 (dd, J = 5.5, 10.0 Hz, 1H), 4.68 (dd, J = 10.0 Hz, 1H) 4.59 (s, 2H), 4.03 (dd, J = 5.5, 10.0 Hz, 1H).
FAB MS m/z 386 (M+H)+
(E)−3−[2−((S)−2−ベンジルオキシー1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル]−N−(テトラヒドロピランー2−イルオキシ)アクリルアミド
Figure 2007077085
実施例9と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.79 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.80 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 13.7 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.47 (m, 2H), 7.28 (m, 8H), 6.50 (d, J = 13.7 Hz, 1H), 5.61 (dd, J = 5.2, 10.1 Hz), 5.01 (m, 1H), 4.63 (dd, J = 10.1 Hz, 1H) 4.57 (s, 2H), 4.03 (dd, J = 5.2, 10.1 Hz, 1H), 3.99 (m, 1H), 3.67 (m, 1H), 1.85 (m, 3H), 1.65 (m, 3H).
FAB MS m/z 542 (M+H)+
(E)−3−[2−((S)−2−ベンジルオキシー1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル]−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例10と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 9.33 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.80 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.79 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 13.5 Hz, 1H), 7.72 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.48 (m, 2H), 7.26 (m, 8H), 6.46 (d, J = 13.5 Hz, 1H), 5.61 (dd, J = 5.5, 10.3 Hz), 4.65 (dd, J = 10.3 Hz, 1H) 4.57 (s, 2H), 4.02 (dd, J = 5.5, 10.3 Hz, 1H).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C2623, 443.1607, 実測値, 443.1643
2−((R)−2−ベンジルオキシ−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボン酸
Figure 2007077085
実施例1と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.41 (dd, J = 1.2, 7.6 Hz 1H), 8.37 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 7.92 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 7.3Hz, 2H), 7.32 (dd, J = 7.3, 7.3 Hz, 2H), 7.29 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 7.20 (s, 5H), 5.60 (dd, J = 5.5, 10.1 Hz), 4.59 (dd, J = 10.1 Hz, 1H) 4.56 (m, 2H), 4.05 (dd, J = 5.5, 10.1 Hz, 1H).
FAB MS m/z 402 (M+H)+
2−((R)−2−ベンジルオキシー1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール
Figure 2007077085
実施例2と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.79 (d, J = 1.0 Hz 1H), 7.75 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.65 (dd, J = 1.0, 7.8 Hz, 1H), 7.47 (m, 2H), 7.28(m, 8H), 5.62 (dd, J = 5.4, 10.3 Hz, 1H), 4.82 (s, 2H), 4.63 (d, J = 10.3 Hz,1H) 4.58 (s, 2H), 4.03 (dd, J = 5.4, 10.3 Hz, 1H).
FAB MS m/z 388(M+H)+
2−((R)−2−ベンジルオキシ−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボクスアルデヒド
Figure 2007077085
実施例8と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.31 (d, J = 1.2 Hz 1H), 8.21 (dd, J = 1.2, 7.6 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.51 (m, 2H), 7.30(m, 8H), 5.66 (dd, J = 5.5, 10.0 Hz, 1H), 4.68 (d, J = 10.0 Hz, 1H), 4.59 (s, 2H), 4.03 (dd, J = 5.5, 10.0 Hz, 1H).
FAB MS m/z 386 (M+H)+
(E)−3−[2−((R)−2−ベンジルオキシー1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル]−N−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)アクリルアミド
Figure 2007077085
実施例9と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.79 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.80 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 13.7 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.47 (m, 2H), 7.28 (m, 8H), 6.50 (d, J = 13.7 Hz,1H), 5.61 (dd, J = 5.2, 10.1 Hz,1H),5.01 (m, 1H), 4.63 (dd, J =10.1 Hz, 1H), 4.57 (s, 2H), 4.03 (dd, J = 5.2, 10.1 Hz, 1H), 3.99 (m, 1H), 3.67 (m, 1H), 1.85 (m, 3H), 1.65 (m, 3H).
FAB MS m/z 542 (M+H)+
(E)−3−[2−((R)−2−ベンジルオキシー1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル]−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例10と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 9.33 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.80 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.79 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 13.5 Hz, 1H), 7.72 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.48 (m, 2H), 7.26 (m, 8H), 6.46 (d, J = 13.5 Hz, 1H), 5.61 (dd, J = 5.5, 10.3 Hz), 4.65 (dd, J = 10.3 Hz, 1H), 4.57 (s, 2H), 4.02 (dd, J = 5.5, 10.3 Hz, 1H).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C2623, 443.1607, 実測値 443.1638.
N−tert−ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
アクリル酸 (185 μL, 2.6 mmol)をテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下クロロ蟻酸エチル (296μL, 3.1 mmol), トリエチルアミン (1.1 mL, 7.8 mmol)を加え20 分撹拌した。別のなす型フラスコにてO-tert-ブチルヒドロキシルアミン塩酸塩 (339 mg, 2.7 mmol), 水酸化カリウム (151 mg, 2.7 mmol)をメタノール中で撹拌し、その上清を先のテトラヒドロフラン溶液に加えた。さらに室温にて3時間撹拌後溶液を濾過し、濾液を留去後、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(AcOEt)にて精製し、表題化合物 124 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.79 (s, 1H), 6.44 (dd, J = 1.8, 17.9 Hz, 1H), 6.13 (dd, J = 10.7, 17.9 Hz, 1H), 5.89 (dd, J = 1.8, 17.9 Hz, 1H), 1.29 (s, 9H).
FAB MS m/z 144 (M+H)+
3−ブロモーN−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−プロピオンアミド
Figure 2007077085
O-(テトラヒドロピラン−2−イル)ヒドロキシルアミン (1.00 g, 8.54 mmol)、トリエチルアミン (1.78 mL, 12.8 mmol)をテトラヒドロフラン 20 mLに溶解し、ブロモアセチルクロライド (778 μL, 9.39 mmol)を氷冷下ゆっくりと滴下した。その後室温にて一晩撹拌した。反応終了後、溶液をグラスフィルターで濾過し、溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(AcOEt : Hexane = 1 : 1)にて精製し表題化合物 1.44 gを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 9.00 (s, 1H), 4.98 (s, 1H), 3.97 (m, 1H), 3.84 (s, 2H), 3.66 (m,1H), 1.82 (m, 3H), 1.60 (m, 3H).
FAB MS m/z 238, 240 (M+H)+
N−(O-テトラヒドロピラン−2−イル)−オキシ ジエチルホスホノアセトアミド
Figure 2007077085
3−ブロモ−N−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−プロピオンアミド
(743 mg, 3.14 mmol)と燐酸トリエチル 2.5 mLを混合し、80 ℃にて5 時間撹拌した。反応物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(AcOEt→CHCL3:MeOH=5 : 1)にて精製し、表題化合物 904 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 4.96 (s, 1H), 4.14 (q, J = 7.4 Hz, 4H), 3.95 (t, J = 10.6 Hz, 1H), 3.59 (d, J = 10.6 Hz, 1H), 2.85 (d, J = 20.6 Hz, 2H), 1.82 (m, 3H), 1.54 (m, 3H), 1.32 (t, J = 7.4 Hz, 6H).
FAB MS m/z 296 (M+H)+
2−ベンジル−5−ヒドロキシ−2,3−ジヒドロ−イソインドール−1−オン
Figure 2007077085
2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール (680 mg, 2.69 mmol), 錫 (3.20 g, 26.9 mmol)を濃塩酸 10 mL, 氷酢酸 10 mLの混合溶媒に懸濁し、24時間加熱還流した。反応液をセライト濾過後留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した後、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー( AcOEt: Hexane= 1: 1→AcOEt)にて精製し、表題化合物 650 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.63 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.30 (m, 5H), 6.89 (dd, J = 2.2, 8.3 Hz, 1H), 6.86 (d, J = 2.3 Hz, 1H), 4.75 (s, 2H), 4.26 (s, 2H).
FAB MS m/z 240 (M+H)+
2−ベンジル−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−2,3−ジヒドロ−イソインドール−1−オン
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.97 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 7.34 (m, 7H), 4.80 (s, 2H), 4.31 (s, 2H).
FAB MS m/z 372 (M+H)+
2−ベンジル−5−ヒドロキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール
Figure 2007077085
4−ヒドロキシフタル酸 (810 mg, 4.45mmol)を200 ℃で2時間加熱し、その後175 ℃に温度を下げ、ベンジルアミン (560 μL, 5.12 mmol)を加え、2.5 時間加熱した。反応物を酢酸エチルに溶解し、希塩酸で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し、表題化合物 1.0 gを得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.60 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.20 (m, 5H), 7.10 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.01 (dd, J = 2.1, 8.2 Hz 1H), 4.69 (s, 2H).
FAB MS m/z (M+H)+
2−ベンジル−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.89 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.69 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.55 (dd, J = 2.1, 8.2 Hz, 1H), 7.37 (d, J = 6.7 Hz 2H), 7.25 (m, 3H), 4.80 (s, 2H).
FAB MS m/z 386 (M+H)
(E)−3−(2−ベンジル-1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸メチル
Figure 2007077085
実施例17と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) δ7.99 (s, 1H), 7.86 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.80 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 7.43 (m,2H), 7.30 (m, 3H), 6.58 (d, J = 16.2 Hz, 1H),4.86(s, 2H), 3.84 (s, 3H).
FAB MS m/z 322 (M+H)
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸
Figure 2007077085
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸メチル (283 mg, 0.88 mmol)を0.5 mol/L HCl: AcOH=1:1の混合溶液に溶解し、一晩加熱還流した。反応液を水で希釈後酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗った。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー( AcOEt : Hexane = 20 : 1)にて精製し、表題化合物 170 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.03 (s, 1H), 7.94 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 7.8 Hz,1H), 7.70 (d, J = 6.1 Hz, 1H), 7.23 (m, 2H), 7.30 (m, 3H), 6.63 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 4.51 (s, 2H).
HR FAB MS :( M+)計算値 C1815NO, 307.0845 実測値, 307.0843.
m.p. 219−221 ℃
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル-1,3−ジオキソー2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
(E)−3−(2−ベンゾヒドリル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸 (100 mg, 0.33 mmol) をテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下トリエチルアミン (68 μL, 0.49 mmol)、クロロ蟻酸エチル (47 μL, 0.49 mmol)を加え、30分撹拌した。メタノール中でヒドロキシルアミン塩酸塩 (69 mg, 1.00 mmol)と 水酸化カリウム (56 mg, 1.00 mmol)を撹拌し、その溶液を濾過して加え、室温で一晩撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、希塩酸で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をAcOEt/ Hexaneで再結晶し、表題化合物 26 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.84 (s, 1H), 9.17 (s, 1H), 8.05 (s, 1H), 8.00( d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.90 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.62 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 7.30 (m, 5H), 6.70 (d, J =15.9 Hz, 1H), 4.77 (s, 2H).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C1815, 323.1032 実測値, 323.1038.
m.p. 163−166 ℃
5−ヒドロキシ−2−((R)−1−フェニルエチル)−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−1,3−ジオン
Figure 2007077085
実施例38と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.63 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.30 (m, 5H), 7.13 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.06 (dd, J = 2.1, 8.5 Hz 1H), 5.47 (q, J= 7.8 Hz, 1H), 1.85 (d, J = 7.8 Hz, 3H).
2−((R)−1−フェニルエチル)−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−1,3−ジオン
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.51 (dd, J = 2.4, 8.3 Hz, 1H), 7.42 (d, J = 7.3 Hz 2H), 7.27 (m, 2H), 7.20 (m, 1H), (d, J = 7.8 Hz, 3H), 5.50 (q, J = 7.3 Hz, 1H), 1.85 (d, J =7.8 Hz, 3H).
(E)−3−((R)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸メチル
Figure 2007077085
実施例17と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.95 (s, 1H), 7.82 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.78 (dd, J = 1.3, 8.3 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 15.9 Hz 1H), 7.50 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.30 (m, 3H), 6.57 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.59 (q, J = 7.3 Hz, 1H),1.91 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
(E)−3−((R)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸
Figure 2007077085
実施例41と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.03 (s, 1H), 7.99 (dd, J = 1.3, 8.0 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 15.8 Hz 1H), 7.44 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.30 (t, J = 7.6 Hz,2H), 7.25 (m, 1H), 6.69 (d, J = 15.8 Hz, 1H),5.53 (q, J = 7.3 Hz, 1H), 1.89 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
FAB MS m/z 322 (M+H)+
(E)−3−((R)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−tert-ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例42と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.79 (s, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.70 (m, 3H), 7.44 (d, J = 7.6 Hz,2H), 7.28 (t, J = 7.6 Hz,2H), 7.27 (m, 1H), 6.54 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.51 (q, J = 7.3 Hz,1H), 1.87 (d, J = 7.3 Hz, 3H), 1.28 (s, 2H),
FAB MS m/z 393 (M+H)+
(E)−3−((R)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例18と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.84 (s, 1H),9.17 (s, 1H), 8.01 (s, 1H), 8.00 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.60 (d, J= 15.8 Hz, 1H), 7.32 (m, 5H), 6.68 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 5.45 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 1.81 (d, J = 7.3 Hz).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C1917337.1188, 実測値, 337.1196.
m.p. 137−138 ℃
5−ヒドロキシ−2−((S)−1−フェニルエチル)−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−1,3−ジオン
Figure 2007077085
実施例38と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.63 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.30 (m, 5H), 7.13 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.06 (dd, J = 2.1, 8.5 Hz 1H), 5.47 (q, J = 7.8 Hz, 1H), 1.85 (d, J = 7.8 Hz, 3H).
2−((S)−1−フェニルエチル)−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−1,3−ジオン
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.83 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.51 (dd, J = 2.4, 8.3 Hz, 1H), 7.42 (d, J = 7.3 Hz 2H), 7.27 (m, 2H), 7.20 (m, 1H), 5.50 (q, J = 7.3 Hz, 1H), 1.85 (d, J = 7.8 Hz, 3H)
(E)−3−((S)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸メチル
Figure 2007077085
実施例17と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.95 (s, 1H), 7.82 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.78 (dd, J = 1.3, 8.3 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 15.9 Hz 1H), 7.50 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.30 (m, 3H), 6.57 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.59 (q, J = 7.3 Hz, 1H), 1.91 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
(E)−3−((S)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸
Figure 2007077085
実施例41と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.03 (s, 1H), 7.99 (dd, J = 1.3, 8.0 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 15.8 Hz 1H), 7.44 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.30 (t, J = 7.6 Hz,2H), 7.25 (m, 1H), 6.69 (d, J = 15.8 Hz, 1H),5.53 (q, J = 7.3 Hz, 1H), 1.89 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
FAB MS m/z 322 (M+H)+
(E)−3−((S)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−tert-ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例42と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.79 (s, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.70 (m , 3H), 7.85 (d, J = 8.0 Hz,1H), 7.44 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.28 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 7.27 (m, 1H), 6.54 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.51 (q, J = 7.3 Hz, 1H), 1.87 (d, J= 7.3 Hz, 3H), 1.28 (s, 9H).
FAB MS m/z 393 (M+H)+
(E)−3−((S)−1−フェニルエチル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例18と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.84 (s, 1H),9.17 (s, 1H), 8.01 (s, 1H), 8.00 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.60 (d, J= 15.8 Hz, 1H), 7.32 (m, 5H), 6.68 (d, J = 15.9 Hz, 1H), 5.45 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 1.81 (d, J = 7.3 Hz).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C1917337.1188, 実測値, 337.1212.
m.p. 138−139 ℃
2−(4−メトキシベンジル)−5−ヒドロキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
実施例38と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.67 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 7.17 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.07 (dd, J = 2.1, 8.3 Hz, 1H), 6.84 (d, J = 8.9 Hz, 2H), 4.69 (s, 2H), 3.74 (s, 3H).
2−(4−メトキシベンジル)−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.95 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.59 (dd, J = 2.4, 8.3 Hz, 1H), 7.38 (d, J = 8.5 Hz 2H), 6.85 (d, J = 8.5 Hz , 2H), 4.80 (s, 1H), 3.78 (s, 3H).
FAB MS m/z 415 (M)+
(E)−3−(2−(4−メトキシベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸メチル
Figure 2007077085
実施例17と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.97 (s, 1H), 7.84 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.80 (dd, J = 1.3,7.3 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 15.8 Hz 1H), 7.38 (d, J = 6.4 Hz, 2H), 6.84 (d, J = 9.0 Hz,2H), 6.57 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 4.79 (s, 2H),3.83 (s, 3H), 3.77 (s , 3H).
FAB MS m/z 351 (M)+
(E)−3−(2−(4−メトキシベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸
Figure 2007077085
実施例41と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 8.23 (s, 1H),8.12 (dd, J = 1.3, 8.0 Hz, 1H), 7.88 (d, J= 8.0 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 16.1 Hz 1H), 7.24 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 6.87 (d, J = 8.9 Hz, 2H), 6.81 (d, J = 15.2 Hz, 1H), 4.69 (s, 2H), 3.70 (s, 1H).
FAB MS m/z 338 (M+H)+
(E)−3−(2−(4−メトキシベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−tert-ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例42と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.72 (s, 1H), 8.00 (s, 1H), 7.78 (m, 3H), 7.35 (d, J = 8.8 Hz,2H), 6.81 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 6.58 (d, J = 14.7 Hz,1H), 4.77 (s, 2H), 3.75 (s, 3H), 1.32 (s, 9H).
FAB MS m/z 409 (M+H)+
(E)−3−(2−(4−メトキシベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例18と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 8.05 (s, 1H), 7.92 (m, 1H), 7.86 (m, 1H), 7.66 (d, J = 15.6 Hz,1H), 7.30 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 6.85 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 6.66 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 4.75(s, 1H), 3.75 (s, 1H).
HR FAB MS : (M+H)+ 計算値 C1917353.1137, 実測値, 353.1118.
m.p. 113−116 ℃.
2−(4−メチルベンジル)−5−ヒドロキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
実施例38と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.70 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 7.31 (d, J = 7.9 Hz 2H), 7.26 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.11 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.08 (dd, J = 2.1, 8.6 Hz, 1H), 4.77 (s, 2H), 2.30 (s, 3H).
2−(4−メチルベンジル)−5−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
実施例16と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.95 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 1.3 Hz, 1H), 7.59 (dd, J = 1.3, 8.3 Hz, 1H), 7.32 (d, J = 7.9 Hz 2H), 7.13 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 4.82 (s,2H), 2.31 (s, 3H).
FAB MS m/z 400 (M+H)+
(E)−3−(2−(4−メチルベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸メチル
Figure 2007077085
実施例18と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.98 (s, 1H), 7.84 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.79 (dd, J = 1.3,7.7 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 15.9 Hz 1H), 7.32 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 7.12 (d, J = 7.9 Hz,2H), 6.58 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 4.81 (s, 2H),3.83 (s, 3H), 2.31 (s, 3H).
FAB MS m/z 336 (M+H)+
(E)−3−(2−(4−メチルベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−アクリル酸
Figure 2007077085
実施例41と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 12.64 (s, 1H), 8.23 (s, 1H), 8.12 (d, J = 7.4 Hz, 1H), 7.90 (d, J = 7.4 Hz 1H), 7.74 (d, J = 16.5 Hz,2H), 7.17 (m, 4H), 6.83 (d, J = 16.5 Hz, 1H),4.71 (s, 2H), 2.25 (s, 3H).
FAB MS m/z 322 (M+H)+
(E)−3−(2−(4−メチルベンジル)−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−tert−ブトキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例42と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.96 (s, 1H), 7.80 (m , 3H), 7.33 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 7.12 (d, J = 7.3 Hz 2H), 6.50 (m, 1H), 4.81 (s, 2H), 2.30 (s, 2H), 1.33 (s, 9H).
FAB MS m/z 393 (M+H)+.
m.p. 224 ℃.
2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボン酸
Figure 2007077085
2−ベンジル−1,3−ジオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボン酸 (461 mg, 2.75 mmol), 錫 (523 mg, 4.41 mmol)を 濃塩酸5 mL, 氷酢酸5 mLの混合溶液に懸濁し、 室温にて9時間撹拌した。反応液をセライト濾過後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗った。無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をフレッシュカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、表題化合物を 282 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.68 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 8.28 (dd, J = 1.5, 8.0 Hz, 1H), 7.50 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.33 (m, 5H), 4.84 (s, 2H), 4.35 (s, 2H).
FAB MS m/z 268 (M+H)+
2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−メタノール
Figure 2007077085
実施例2と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.83 (s, 1H), 7.48 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.27 (m, 6H), 4.74 (s, 4H), 4.18 (s, 2H).
FAB MS m/z 254 (M+H)+
2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボキサミド
Figure 2007077085
実施例8と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 10.05 (s, 1H), 8.31 (s, 1H), 8.02 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.49 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.27 (m, 5H), 4.77 (s, 2H), 4.31 (s, 2H).
FAB MS m/z 252 (M+H)
(E)−3−(2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)アクリル酸メチル
Figure 2007077085
ジエチルホスホノ酢酸エチル (128μL, 0.61 mmol), カリウム tertブトキソド (68 mg, 0.61 mmol)をテトラヒドロフランに溶解し、アルゴン下撹拌した。10分後2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−カルボキサミド(140 mg, 0.56 mmol)のテトラヒドロフラン溶液を加え、さらに4時間室温にて撹拌した。反応終了後、反応液を、飽和食塩水で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をフレッシュカラムクロマトグラフィー(Hexane: AcOEt= 1: 1)にて精製し、表題化合物 54 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.05 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 7.64 (dd, J = 1.2, 7.9 Hz, 1H), 7.39 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.30 (m, 5H), 6.52 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 4.80 (s, 2H), 4.28 (s, 2H), 3.81 (s, 3H).
FAB MS m/z 308 (M+H)+
E)−3−(2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)アクリル酸
Figure 2007077085
実施例41と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.99 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.80 (dd, J = 1.5, 7.9 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 7.53 (d, J = 7.9 Hz, 1H ), 7.31 (m, 5H), 6.58 (d, J = 16.1 Hz, 1H), 4.80 (s, 2H), 4.38 (s, 2H).
FAB MS m/z 294 (M+H)+
(E)−3−(2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)アクリルアミド
Figure 2007077085
実施例9と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.98 (s, 1H), 7.72 (d, J = 15.5 Hz, 1H), 7.71 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.53 (d, J = 7.9 Hz, 1H ), 7.28 (m, 5H), 6.52 (d, J = 15.5 Hz, 1H), 5.05 (m, 1H), 4.77 (s, 2H), 4.24 (s, 2H), 3.99 (m, 1H), 3.61 (m, 1H), 1.81 (m, 3H), 1.55 (m, 3H).
FAB MS m/z 393 (M+H)+
(E)−3−(2−ベンジルー3−オキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
(E)−3−(2−ベンジル−3−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)アクリルアミド(26 mg, 0.066 mmol), d−10−カンファスルホン (18 mg, 0.073 mmol)をメタノールに溶解し、アルゴン下室温にて1時間半撹拌した。溶媒を留去後酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液,飽和食塩水で洗い、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、表題化合物 19 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 10.77 (s, 1H), 9.09 (s, 1H), 7.86 (s, 1H), 7.76 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 7.53 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 7.35 (m, 2H), 7.28 (m, 3H), 6.56 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 4.72 (s, 2H), 4.38 (s, 2H).
HR FAB MS: (M+H)+ calcd for C1817, 309.1239, found, 309.1259.
2−メチル−4−ニトロ安息香酸メチル
Figure 2007077085
2−メチル−4−ニトロ安息香酸 (1.00 g, 5.5 mmol), ヨードメタン (863 mg, 6.08 mmol), 無水炭酸カリウム (1.14 g, 8.28 mmol)をN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、室温にて二時間撹拌した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し表題化合物 1.05 gを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.11 (s, 1H), 8.07 (d, J = 8.6 Hz, 1H), 8.03 (d, J = 8.6 Hz,1H), 3.95 (s, 3H), 2.69 (s, 3H).
FAB MS m/z 196 (M+H)+
2−ブロモメチル−4−ニトロ安息香酸メチル
Figure 2007077085
2−メチル−4−ニトロ安息香酸メチル (985 mg, 5.05 mmol), N−ブロモスクシンイミド (989 mg, 5.56 mmol)を四塩化炭素に溶解し、過酸化ベンゾイル (15 mg, 0.06 mmol)を加え、アルゴン下、85℃にて還流した。八時間後N−ブロモスクシンイミド (92 mg, 0.52 mmol)を加え、さらに一時間半加熱還流した。反応液を飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(Hexane: AcOEt= 3: 1)にて精製し表題化合物 1.35 gを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.30 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 8.20 (dd, J = 2.1, 6.2 Hz, 1H),8.10 (d, J = 6.2 Hz, 1H), 4.96 (s, 2H), 4.00(s, 3H).
FAB MS m/z 273, 275 (M+H)+
2−ベンジル−5−ニトロ−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール
Figure 2007077085
2−ブロモメチル−4−ニトロ安息香酸メチル(300 mg, 1.10 mmol), ベンジルアミン (132 μL, 1.21 mmol), トリエチルアミン (168μL, 1.21 mmol)をメタノールに溶解し、90 ℃にて一日加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈し、希塩酸, 飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(Hexane: AcOEt= 3: 1→1: 1)にて精製し表題化合物 255 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 8.35 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 8.25 (s, 1H), 8.04 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.32 (m, 5H), 4.83 (s, 2H), 4.38 (s, 2H).
FAB MS m/z 269 (M+H)+
5−アミノ−2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドー
Figure 2007077085
2−ベンジル−5−ニトロ−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール (180 m
g, 0.67 mmol)を酢酸エチルに溶解し、10 % パラジウム担持活性炭 (18 mg)を加え、水素下室温にて六時間撹拌した。反応液をセライト濾過後、溶媒を留去し、表題化合物 131 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.63 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.26 (m, 5H), 6.67 (dd, J = 1.5, 8.0 Hz, 1H), 6.56 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 4.72 (s, 2H), 4.11 (s, 2H), 3.73 (s, 2H).
FAB MS m/z 239 (M+H)+
3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロー1H−イソインドール−5−イル)−2−ブロモ−プロピオン酸メチル
Figure 2007077085
5−アミノ−2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール (270 mg, 1.13 mmol)を47 % 臭化水素酸 3 mL, メタノール 6 mL, アセトン 15 mLの混合溶媒に溶解し、反応液を5℃以下に保ちながら、亜硝酸ナトリウム (94 mg, 1.36 mmol)水溶液3 mLを滴下した。三十分撹拌後アクリル酸メチル (1.01 mL, 11.3 mmol)を加え急激に50℃まで温度を上昇させた。酸化銅 (10 mg, 0.068 mmol)を少量ずつ加え、35〜40℃に保ち七時間撹拌した。反応終了後溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶解して、希水酸化ナトリウム水溶液、希塩酸、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(Hexane: AcOEt= 6:1→4: 1→3: 1)にて精製し、表題化合物 90 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.79 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.28 (m, 6H), 7.20 (s, 1H), 4.74 (s, 2H), 4.37 (dd, J = 7.3, 8.0 Hz, 1H), 4.20 (s, 2H), 3.68 (s, 3H), 3.49 (dd, J = 7.3 , 14.3 Hz, 1H), 3.27 (dd, J = 8.0, 14.3 Hz, 1H).
FAB MS m/z 388, 390 (M+H)+
3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)アクリル酸メチル
Figure 2007077085
3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−2−ブロモープロピオン酸メチル (90 mg, 0.23 mmol)、ジアザビシクロウンデセン (42 μL, 0.28 mmol)をtolueneトルエンに溶解し、110℃にて五時間加熱還流した。反応終了後、反応液を、希塩酸、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(Hexane: AcOEt=1.5: 1)にて精製し、表題化合物 68 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 7.82 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.68 (d, J = 16.0 Hz, 1H), 7.58 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.46 (s, 1H), 7.26 (m, 5H), 6.45 (d, J = 16.0 Hz, 1H), 4.76 (s, 2H), 4.24 (s, 2H), 3.77 (s, 3H).
FAB MS m/z 308 (M+H)+
3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)アクリル酸
Figure 2007077085
3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)アクリル酸メチル (67 mg, 0.22 mmol)を氷酢酸 8 mL, 0.5 mol/L 塩酸 8 mLの混合溶液に懸濁し、110 ℃にて一日加熱還流した。反応液を酢酸エチルで抽出後、有機層を水、飽和食塩水で洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー(Hexane: AcOEt=1: 1)にて精製し、表題化合物25 mgを得た。
H−NMR (500 MHz, CDOD, δ) 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.75 (s, 1H), 7.74 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 16.5 Hz, 1H), 7.31 (m, 5H), 6.58 (d, J = 16.5 Hz, 1H), 4.81 (s, 2H), 4.40 (s, 2H).
FAB MS m/z 294 (M+H)+
(E)−3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)アクリルアミド
Figure 2007077085
実施例9と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, CDCl, δ) 9.18 (s, 1H), 7.81 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.72 (d, J = 15.5 Hz, 1H), 7.55 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.41 (s, 1H), 7.26 (m, 5H), 6.46 (d, J = 15.5 Hz, 1H), 5.00 (m,1H), 4.76 (s, 2H), 4.22 (s, 2H), 3.95 (m, 1H), 3.61 (m, 1H), 1.80 (m, 3H), 1.56 (m, 3H).
FAB MS m/z 393 (M+H)+
(E)−3−(2−ベンジル−1−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−イソインドール−5−イル)−N−ヒドロキシアクリルアミド
Figure 2007077085
実施例72と同様にして表題化合物を得た。
H−NMR (500 MHz, DMSO−d, δ) 11.33 (s, 1H), 9.08 (s, 1H), 7.73 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.72 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.52 (d, J =15.8 Hz, 1H), 7.35 (m, 2H), 7.28 (m, 3H), 6.54 (d, J = 15.8 Hz, 1H), 4.72 (s, 2H), 4.38 (s, 2H).
HR FAB MS: (M+H)+ calcd for C181723, 309.1239, found, 309.1259
〔実験例1〕HDAC阻害活性
HDAC阻害活性はBIOMOLResearchLab.社のHDACfluorescent activity assay/drug discovery kit (AK-500)を用いて実施した。
Hela細胞核抽出液(0.5μL/well)を25μMのFluor de LysTM Substrateならびに種々の濃度の試験化合物と37度でインキュベートした。反応は30分後にFluor de LysTM Developerを加えて終了させた。反応終了後の蛍光を測定(Ex360nm/Em460nm)することにより阻害率を求めた。
代表的試験化合物のHDAC阻害活性を表1に示す。
Figure 2007077085
表1からも明らかなように、本発明化合物はHDAC阻害活性を有する構造上新規な化合物である。
本発明化合物はHDAC阻害活性を有することから癌の治療薬、免疫性疾患治療薬としての有効性を有すると言える。

Claims (7)

  1. 一般式(1)
    Figure 2007077085
    [式中、Aは窒素または炭素原子であり、BおよびDは同一または相異なってカルボニル基、メチレン基であり、EはCH=CH基、CH―CH基およびO−CH基を表し、Fは無置換または置換基を有していても良いフェニル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基および以下の置換基
    Figure 2007077085
    (ただしR1は水素原子、炭素数1から6の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基であり、R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1から3のアルコキシ基、炭素数1から6のアルキル基、無置換または置換基を有していても良いフェニル基、無置換または置換基を有していても良いフェノキシ基、無置換または置換基を有していても良いベンジルオキシ基を表す)の何れかである]で表される置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物。
  2. Aが窒素である請求項1に記載の置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物。
  3. Eがビニレン基である請求項1又は2に記載の置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物。
  4. B及び/又はDが、カルボニル基である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物。
  5. Fが、フェネチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、シクロヘキシル基、ナフチルメチル基からなるグループより選択されるものである請求項1ないし4のいずれか1項に記載の置換ヒドロキサム酸誘導体及びその薬剤上許容される塩並びにそれらの水和物。
  6. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の置換ヒドロキサム酸誘導体、その薬剤上許容される塩及びそれらの水和物、並びに薬剤上許容される担体を含有する抗ガン剤として有用な医薬組成物。
  7. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の置換ヒドロキサム酸誘導体、その薬剤上許容される塩及びそれらの水和物、並びに薬剤上許容される担体を含有する免疫疾患に有効な医薬組成物。
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