JP2007075857A - シーム溶接機 - Google Patents
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Abstract
【目的】溶接電流の制御を容易にし、気密漏れや容器本体の破損を防止して信頼性を高めたシーム溶接機を提供する。
【構成】
回転中心を水平方向の同一線上として回転自在とするとともに上下方向に昇降自在とし、互いに対向する傾斜面を有する一対の電極ローラを備え、電子素子を収容する凹状とした容器本体とその開口面を封止する金属カバーとからなる電子部品を被加工物とし、金属カバーにおける一組の対向辺の一端側に一対の電極ローラを当接させ、電極ローラを押し上げるとともに金属カバーを押圧し、電極ローラを金属カバーの一端側から他端側に進行させると同時に、電極ローラ間に溶接電流を供給してジュール熱を発生させ、金属カバーの外周を容器本体の開口端面に接合してなるシーム溶接機において、電極ローラは位置センサによってカバーに対する当接時からの高さを検出され、電極ローラの高さから溶接電流の電流値を制御した構成とする。
【選択図】図1
【構成】
回転中心を水平方向の同一線上として回転自在とするとともに上下方向に昇降自在とし、互いに対向する傾斜面を有する一対の電極ローラを備え、電子素子を収容する凹状とした容器本体とその開口面を封止する金属カバーとからなる電子部品を被加工物とし、金属カバーにおける一組の対向辺の一端側に一対の電極ローラを当接させ、電極ローラを押し上げるとともに金属カバーを押圧し、電極ローラを金属カバーの一端側から他端側に進行させると同時に、電極ローラ間に溶接電流を供給してジュール熱を発生させ、金属カバーの外周を容器本体の開口端面に接合してなるシーム溶接機において、電極ローラは位置センサによってカバーに対する当接時からの高さを検出され、電極ローラの高さから溶接電流の電流値を制御した構成とする。
【選択図】図1
Description
本発明は電子部品用のシーム溶接機を技術分野とし、特に電極ローラの高さを検出して溶接電流を制御する被加工物としての電子部品を水晶振動子としたシーム溶接機に関する。
(発明の背景)
水晶振動子は周波数制御素子として知られ、例えば周波数や時間の基準源として各種電子機器の発振回路に組み込まれる。このようなものの一つに、積層セラミックからなる凹状とした容器本体に水晶片を収容して金属カバーを被せ、密閉封入した表面実装型がある。通常では、特許文献1に示されるようにシーム溶接機によって、容器本体の開口面に金属カバーを接合して封止する。
水晶振動子は周波数制御素子として知られ、例えば周波数や時間の基準源として各種電子機器の発振回路に組み込まれる。このようなものの一つに、積層セラミックからなる凹状とした容器本体に水晶片を収容して金属カバーを被せ、密閉封入した表面実装型がある。通常では、特許文献1に示されるようにシーム溶接機によって、容器本体の開口面に金属カバーを接合して封止する。
(従来技術の一例)第2図は一従来例のシーム溶接方法を説明するシーム溶接機の概略的な正面図である。シーム溶接機は、概ね、作業台1と一対の電極ローラ2(ab)とからなる。作業台1は被溶接体としての水晶振動子3を図示しない治具によって保持して固定する。水晶振動子3は、図示しない水晶片を収容した凹状の容器本体4と、開口面を封止する金属カバー5とからなる。なお、容器本体4の開口端面には図示しない金メッキ及び溶接用の金属リング等が設けられる。
一対の電極ローラ2(ab)は互いに対向した傾斜面を有し、回転中心を水平方向の同一線上とした各回転軸6に結合する。一対の電極ローラ2(ab)間は予め一定の間隔に固定される。各回転軸6は筒体軸受7に結合して回転自在とし、筒体軸受7は可動体8に垂下した保持体9に結合する。保持体9は図示しないスライド機構によって上下方向に昇降自在とする。可動体8は紙面に対して垂直方向に移動する。要するに、一対の電極ローラ2(ab)は回転中心を水平方向の同一線上として回転自在とするとともに上下方向に昇降自在とし、互いに対向する傾斜面を有する。
このようなものでは、先ず、シーム溶接機の可動体8を駆動し、作業台1に固定された水晶振動子3における金属カバー5の対向辺の一端側に、一対の電極ローラ2(ab)を当接させる。この場合、第3図の走行図に示したように、電極ローラ2(ab)の低端は金属カバー5の表面よりも低い位置に設定され、金属カバー5に対する電極ローラ2(ab)の当接点は低端よりも高い位置となる。例えば電極ローラ2(ab)の半径は6〜7mmであり、低端から当接点までの高さLは0.3mm程度とする。
これにより、金属カバー5の一端側では、電極ローラ2(ab)の進行とともに保持体9のスライド機構によって電極ローラ2(ab)を押し上げる。そして、金属カバー5の表面に乗り上げ、他端側に進行する。この場合、電極ローラ2(ab)は保持体9の自重によって押圧(加圧)されながら密着して、カバー表面を進行する。そして、金属カバー5の他端側を乗り下げる。但し、電極ローラ2(ab)の進行速度(回転速度)は一定とする。
そして、金属カバー5への当接時から一対の電極ローラ2(ab)間に溶接電流を供給してジュール熱を発生させる。これにより、金属カバー5の一組の対向辺となる外周面を容器本体4の開口端面に接合する。次に、容器本体4の他組の対向辺を例えばこれに続いて配置された他のシーム溶接機によって同様に接合する。
これらの場合、通常では、金属カバー5の一端側での当接時には、金属屑が飛散する所謂スプラッシュを防止するため、第4図の電流特性に示したように、溶接電流を次第に高める。また、金属カバー5の他端側では熱が集中するため、溶接電流を次第に弱める。これらは、例えば電極ローラ2(ab)の初期位置(非接触時)からの金属カバー5までの距離や電極ローラ2(ab)の進行速度等から当接時間を設定し、通電開始時やそれ以降の溶接電流を制御していた。
また、いずれの場合でも、電極ローラ2(ab)は金属カバー5の一端側では、金属カバー5の表面側の稜線部を乗り上げ、他端側では稜線部を乗り下げる。このため、電極ローラ2(ab)は、両端側の稜線部に当接する時間が長く単位時間あたりの溶接電流を小さくする制御する必要があった。
特願2004−292406号
特許第3644807号公報
(従来技術の問題点)
しかしながら、上記構成のシーム溶接機では、作業台1に対する水晶振動子3の位置精度等によって、電極ローラ2(ab)の駆動時から当接時までの時間にバラツキを生じる。このため、溶接電流の制御を困難にし、溶接不良による気密漏れ、熱の集中による容器本体4の破損等を生じて信頼性を低下させる問題があった。
しかしながら、上記構成のシーム溶接機では、作業台1に対する水晶振動子3の位置精度等によって、電極ローラ2(ab)の駆動時から当接時までの時間にバラツキを生じる。このため、溶接電流の制御を困難にし、溶接不良による気密漏れ、熱の集中による容器本体4の破損等を生じて信頼性を低下させる問題があった。
このことから、例えば特許文献2に示されるように、金属カバー5への当接前後の電極ローラ2(ab)の接触抵抗に基づいて制御することも考えられた。しかし、この場合には、金属ローラの金属カバー5への乗り上がりや乗り下がり時での接触抵抗の変化が微妙になる。また、水晶振動子3の位置精度や金属カバー5の加工精度等によって接触抵抗も異なり、溶接電流の制御を困難にしていた。
(発明の目的)
本発明は溶接電流の制御を容易にし、気密漏れや容器本体の破損を防止して信頼性を高めたシーム溶接機を提供する。
本発明は溶接電流の制御を容易にし、気密漏れや容器本体の破損を防止して信頼性を高めたシーム溶接機を提供する。
本発明は、特許請求の範囲(請求項1)に示したように、回転中心を水平方向の同一線上として回転自在とするとともに上下方向に昇降自在とし、互いに対向する傾斜面を有する一対の電極ローラを備え、電子素子を収容する凹状とした容器本体と前記容器本体の開口面を封止する金属カバーとからなる電子部品を被加工物とし、前記金属カバーにおける一組の対向辺の一端側に前記一対の電極ローラを当接させて、前記一対の電極ローラを押し上げるとともに前記金属カバーを押圧し、前記一対の電極ローラを前記金属カバーの一端側から他端側に進行させると同時に、前記一対の電極ローラ間に溶接電流を供給してジュール熱を発生させ、前記金属カバーの外周を前記容器本体の開口端面に接合してなるシーム溶接機において、前記一対の電極ローラは位置センサによって前記カバーに対する当接時からの高さを検出され、前記電極ローラの高さから前記溶接電流の電流値を制御した構成とする。
このような構成であれば、電極ローラの高さ変化から、金属カバーに対する接触時、上昇走行時、表面走行時、下降走行時、離反時等の位置情報を確実に検出できる。したがって、これらの位置情報に基づき、特に、接触時の位置情報に基づき、溶接電流を確実に制御できる。
(実施態様項)
本発明の請求項2では、請求項1における前記溶接電流の通電開始時は、前記金属カバーの一端側で前記電極ローラが押し上げられる上昇中であって、前記電極ローラの前記金属カバーに対する当接時よりも高い位置であるとする。これにより、非接触時と同じ高さとなる電極ローラの接触を確実に検出できる。
本発明の請求項2では、請求項1における前記溶接電流の通電開始時は、前記金属カバーの一端側で前記電極ローラが押し上げられる上昇中であって、前記電極ローラの前記金属カバーに対する当接時よりも高い位置であるとする。これにより、非接触時と同じ高さとなる電極ローラの接触を確実に検出できる。
同請求項3では、請求項1における前記溶接電流は、前記金属カバーの一端側での通電開始時から除々に高まり、前記金属カバーの他端側で除々に弱まる電流特性であるとする。これにより、通電開始時のスプラッシュや、また、他端側での熱の集中を避けて破損等を防止できる。
第1図は本発明の一実施形態を説明するシーム溶接機の概略的な正面図である。なお、前従来例と同一部分の説明は簡略又は省略する。
シーム溶接機は、前述したように水晶振動子3の固定される作業台1と、回転中心を水平方向の同一線上として回転自在とするとともに上下方向に昇降自在とし、互いに対向する傾斜面を有する一対の電極ローラ2(ab)とを備える。一対の電極ローラ2(ab)の回転軸6は筒体軸受7に軸着し、筒体軸受7は可動体8に対して上下方向に昇降自在とした保持体9に結合する。
そして、この実施例では、保持体9の一方の上端部となる可動体8にリニアスライドセンサ10を取り付ける。リニアスライドセンサ10はセンサ本体からセンサ可動棒10aが突出し、センサ可動棒10aの先端が保持体9の上端面に当接する。これにより、保持体9の上下動を例えば0.5ミクロン(μ)単位で検出でき、電極ローラ2(ab)の高さを相対的に検出できる。但し、厳格には一方の電極ローラ2bの高さであるが、同一高さに設定されているので差し支えない。そして、リニアスライドセンサ10からは、高さに応じた検出信号が図示しない溶接電流制御回路11に送出される。
このようなものでは、前述同様に、可動体8の駆動によって、電極ローラ2(ab)が金属カバー5の一端側から他端側に進行する。この場合でも、電極ローラ2(ab)の低端は金属カバー5の表面よりも低くて当接点は低端よりも高い位置(0.3mm程度)に設定されており、電極ローラ2(ab)の進行とともに金属カバー5が電極ローラ2(ab)を押し上げる。そして、金属カバー5の表面に乗り上げ、他端側に進行して金属カバー5の表面から乗り下がる。
そして、ここでは、リニアスライドセンサ10によって、電極ローラ2(ab)の金属カバー5に対する接触時を検出する。この場合、電極ローラ2(ab)の接触時は非接触時の高さと同じなので、非接触時と同じ高さである接触時からの高さ変化例えば乗り上げ時である上昇中の0.3mmを検出する。そして、接触検出信号を電流制御回路に送出し、溶接電流の通電を開始する。
溶接電流は電極ローラ2(ab)の回転速度を一定とすると、前述したように当接時の一端側では通電開始から除々に高めて、他端側では溶接電流除々に弱めて通電を終了する(前第4図参照)。これらの電流特性は、電極ローラ2(ab)の接触検出位置からの距離や電極ローラ2(ab)の進行速度等によって予め設定される。
このような構成であれば、電極ローラ2(ab)の高さ変化から接触位置を確実に検出できる。この場合、接触時よりも上昇中の位置を検出するので、非接触時との誤信号を発生することがない。そして、リニアスライドセンサ10によって機械的な変化を検出するので、抵抗等の電気的な検出に比較して、例えば金属カバー5のバリや材質等による誤差を吸収する。したがって、接触検出位置を均一し、接触検出位置からの制御電流によって均一な接合が可能になる。
(他の事項)
上記実施形態では接触検出位置から規定の電流特性とした溶接電流を供給したが、リニアスライドセンサ10によって、金属カバー5に対する電極ローラ2(ab)の接触時、上昇走行時、表面走行時、下降走行時、離反時等の位置情報を確実に検出できる。したがって、これらの位置情報に基づき、溶接電流を随時制御することもできる。
上記実施形態では接触検出位置から規定の電流特性とした溶接電流を供給したが、リニアスライドセンサ10によって、金属カバー5に対する電極ローラ2(ab)の接触時、上昇走行時、表面走行時、下降走行時、離反時等の位置情報を確実に検出できる。したがって、これらの位置情報に基づき、溶接電流を随時制御することもできる。
また、溶接電流の電流特性は一端側で除々に高まり他端側で徐々に弱まるとしたが、これに限らず最適な電流特性に設定できる。また、リニアスライドセンサ10は保持体9の一方のみに設けたが、安全を期すために例えば両方に設けて平均値を検出してもよい。そして、リニアスライドセンサ10(接触式)以外の例えばレーザセンサ(非接触式)であってもよく、要は、取り付け位置を含めて電極ローラ2(ab)の高さを検出できるセンサであればよい。
1 作業台、2 電極ローラ、3 水晶振動子(被溶接体)、4 容器本体、5 金属カバー、6 回転軸、7 筒体軸受、8 可動体、9 保持体、10 リニアスライドセンサ、11 溶接電流制御回路。
Claims (3)
- 回転中心を水平方向の同一線上として回転自在とするとともに上下方向に昇降自在とし、互いに対向する傾斜面を有する一対の電極ローラを備え、電子素子を収容する凹状とした容器本体と前記容器本体の開口面を封止する金属カバーとからなる電子部品を被加工物とし、
前記金属カバーにおける一組の対向辺の一端側に前記一対の電極ローラを当接させて、前記一対の電極ローラを押し上げるとともに前記金属カバーの表面を押圧し、前記一対の電極ローラを前記金属カバーの一端側から他端側に進行させると同時に、
前記一対の電極ローラ間に溶接電流を供給してジュール熱を発生させ、前記金属カバーの外周を前記容器本体の開口端面に接合してなるシーム溶接機において、
前記一対の電極ローラは位置センサによって前記カバーに対する当接時時からの高さを検出され、前記電極ローラの高さから前記溶接電流の電流値を制御したことを特徴とするシーム溶接機。 - 前記溶接電流の通電開始時は、前記金属カバーの一端側で前記電極ローラが押し上げられる上昇中であって、前記電極ローラの前記金属カバーに対する当接時よりも高い位置である請求項1のシーム溶接機。
- 前記溶接電流は、前記金属カバーの一端側での通電開始時から除々に高まり、前記金属カバーの他端側で除々に弱まる電流特性である請求項1のシーム溶接機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005267317A JP2007075857A (ja) | 2005-09-14 | 2005-09-14 | シーム溶接機 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101562435A (zh) * | 2008-04-18 | 2009-10-21 | 日本电波工业株式会社 | 用于表面安装的晶体器件 |
US7859348B2 (en) | 2008-04-16 | 2010-12-28 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Crystal device for surface mounting |
US7952440B2 (en) | 2008-04-18 | 2011-05-31 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Crystal device for surface mounting |
JP2016112597A (ja) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | 日本パーカライジング株式会社 | シーム溶接方法及びこれを用いた熱交換器の製造方法 |
Citations (3)
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JPS59175141A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Toshiba Corp | 半導体外囲器封止装置 |
JPS59198735A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Fujitsu Ltd | シ−ム溶接法 |
JPH02299781A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-12 | Dengensha Mfg Co Ltd | ストリップ接続用シーム溶接方法及びその装置 |
-
2005
- 2005-09-14 JP JP2005267317A patent/JP2007075857A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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