JP2007075245A - 粒子線がん治療システム及び照射方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、粒子線照射手段を有する粒子線がん治療システムに関する。前記粒子線照射手段は、粒子線が通過する位置によって失うエネルギーが異なる周期的な厚さ分布を有するリッジフィルタと、粒子線照射中に前記リッジフィルタの空間位置を、粒子線の進行方向に略直交する平面上で変化させる照射中位置変化手段を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
粒子線照射手段を有する粒子線がん治療システムであって、
前記粒子線照射手段は、
粒子線が通過する位置によって失うエネルギーが異なる周期的な厚さ分布を有するリッジフィルタと、
粒子線照射中に前記リッジフィルタの空間位置を、粒子線の進行方向に略直交する平面上で変化させる照射中位置変化手段を含むことを特徴とする。
図1は、本発明の実施の形態1に係る粒子線がん治療システムの粒子線照射手段の縦断面図である。図2は、本発明の実施の形態1に係る粒子線がん治療システムのリッジフィルタ10の斜視図である。図3は、本発明の実施の形態1に係る粒子線がん治療システムのリッジフィルタ10の拡大断面図である。
図5は、本発明の実施の形態2に係る粒子線がん治療システムの斜視図である。本発明の実施の形態2に係る粒子線がん治療システムは、本発明の実施の形態1に係る粒子線がん治療システムと略同様のものである。従って、同一部位には同一符号を付して説明を省略する。
図6は、本発明の実施の形態3に係る粒子線がん治療システムの斜視図である。本発明の実施の形態3に係る粒子線がん治療システムは、本発明の実施の形態2に係る粒子線がん治療システムと略同様のものである。但し、本実施の形態3に係る粒子線がん治療システムでは、リッジフィルタ格納機構34がリッジフィルタ10を格納する仕組み、及び、リッジフィルタ格納機構34の動作する仕組みが異なる。
図7は、本発明の実施の形態3に係る粒子線がん治療システムを利用して行う粒子線照射方法のフローチャートの例である。図6及び図7を用いて、本発明に係る粒子線照射方法の一例を以下に説明する。
Claims (8)
- 粒子線照射手段を有する粒子線がん治療システムであって、
前記粒子線照射手段は、
粒子線が通過する位置によって失うエネルギーが異なる周期的な厚さ分布を有するリッジフィルタと、
粒子線照射中に前記リッジフィルタの空間位置を、粒子線の進行方向に略直交する平面上で変化させる照射中位置変化手段を含むことを特徴とする粒子線がん治療システム。 - 前記照射中位置変化手段が、前記リッジフィルタを、リッジフィルタの設置平面内において、粒子線の進行方向の軸であってリッジフィルタの略中央を通る軸の周りで、回転動作させることを特徴とする請求項1に記載の粒子線がん治療システム。
- 前記照射中位置変化手段が、前記リッジフィルタを、リッジフィルタの設置平面内において、リッジが周期的な厚さ分布を有する方向に略平行する方向に往復動作させることを特徴とする請求項1に記載の粒子線がん治療システム。
- 円盤状の形状を有し、円盤の外延の近傍に複数のリッジフィルタを格納するリッジフィルタ格納手段と、
前記リッジフィルタ格納手段を回転させて、粒子線が通過するリッジフィルタを交換する交換手段を、更に有し、
前記リッジフィルタ格納手段は、夫々のリッジフィルタにおいてリッジが周期的な厚さ分布を有する方向が、リッジフィルタ格納手段の円盤の中心を向くように、各リッジフィルタを格納していることを特徴とする請求項3に記載の粒子線がん治療システム。 - 前記照射中位置変化手段が、前記リッジフィルタを、リッジフィルタの設置平面内において、粒子線の進行方向の軸であってリッジフィルタの外を通る軸の周りで、所定の角度範囲内で往復動作させることを特徴とする請求項1に記載の粒子線がん治療システム。
- 円盤状の形状を有し、円盤の外延に複数のリッジフィルタを格納しており、円盤の中心が上記軸と一致しているリッジフィルタ格納手段と、
前記リッジフィルタ格納手段を回転させて、粒子線が通過するリッジフィルタを交換する交換手段を、更に有し、
前記リッジフィルタ格納手段は、夫々のリッジフィルタにおいてリッジが周期的な厚さ分布を有する方向が、リッジフィルタ格納手段の円盤の中心を向く方向と略直交するように、リッジフィルタを格納していることを特徴とする請求項5に記載の粒子線がん治療システム。 - レールを有し、レールの上に複数のリッジフィルタを格納するリッジフィルタ格納手段と、
前記リッジフィルタ格納手段をレールに沿う方向に直進駆動させて、粒子線が通過するリッジフィルタを交換する交換手段を、更に有し、
前記リッジフィルタ格納手段は、夫々のリッジフィルタにおいてリッジが周期的な厚さ分布を有する方向が、レールに沿う方向に一致するように、リッジフィルタを格納していることを特徴とする請求項3に記載の粒子線がん治療システム。 - (1)粒子線ビームのSOBP形成手段を選択し、選択されたSOBP形成手段を粒子線の経路に配置させるステップ、
(2)粒子線ビームのSOBP形成手段の粒子線照射中における空間位置の変化パターンを設定するステップ、
(3)線量モニタのプリセット値を設定するステップ、
(4)照射を開始するステップ、
(5)照射中に上記(2)のステップで設定したSOBP形成手段の空間位置の変化パターンに従い、SOBP形成手段の空間位置を所定範囲内で変化させるステップ、
(6)照射中に線量モニタで線量モニタのプリセット値が満了されたかを確認し、満了でなければ上記(5)のステップに戻って繰り返し、満了であれば(7)のステップに進むステップ、及び、
(7)照射を停止するステップ
を備えることを特徴とする粒子線照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264993A JP4435059B2 (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 粒子線がん治療システム及び照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264993A JP4435059B2 (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 粒子線がん治療システム及び照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007075245A true JP2007075245A (ja) | 2007-03-29 |
JP4435059B2 JP4435059B2 (ja) | 2010-03-17 |
Family
ID=37936134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005264993A Active JP4435059B2 (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 粒子線がん治療システム及び照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4435059B2 (ja) |
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Publication number | Publication date |
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JP4435059B2 (ja) | 2010-03-17 |
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