JP2007073587A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法において、
   前記基板の基材上に撥液性を有する膜を被覆する被覆工程と、
   前記膜上に液体の液浸領域を形成して前記露光光を照射する露光工程とを有し、
   前記膜の露光光に対する屈折率と前記液体の露光光に対する屈折率とをほぼ同じにする露光方法。
2. 前記被覆工程において、前記液体に応じた屈折率を有する膜を被覆する請求項１記載の露光方法。
3. 前記露光工程において、前記膜に応じた屈折率を有する液体を前記膜上に供給する請求項１記載の露光方法。
4. 露光不良の発生を抑えるために、前記膜の露光光に対する屈折率と前記液体の露光光に対する屈折率とをほぼ同じにする請求項１〜３のいずれか一項記載の露光方法。
5. 前記膜の内部に浸入した液体に起因する前記露光光の照射状態の変動を抑えるために、前記膜の露光光に対する屈折率と前記液体の露光光に対する屈折率とをほぼ同じにする請求項１〜４のいずれか一項記載の露光方法。
6. 前記膜の内部に浸入した液体部分で、前記露光光の光路の変化を抑えるために、前記膜の露光光に対する屈折率と前記液体の露光光に対する屈折率とをほぼ同じにする請求項５記載の露光方法。
7. 請求項１〜請求項６のいずれか一項記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
8. 基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
   前記基板の基材上には撥液性を有する膜が被覆されており、
   前記膜上に液浸領域を形成するための液体を供給する液体供給装置を備え、
   前記液体供給装置は、前記膜の露光光に対する屈折率とほぼ同じ屈折率を有する液体を供給する露光装置。
9. 前記液体供給装置は、露光不良の発生を抑えるために、前記膜の露光光に対する屈折率とほぼ同じ屈折率を有する液体を供給する請求項８記載の露光装置。
10. 前記液体供給装置は、前記膜の内部に浸入した液体に起因する前記露光光の照射状態の変動を抑えるために、前記膜の露光光に対する屈折率とほぼ同じ屈折率を有する液体を供給する請求項８又は９記載の露光装置。
11. 前記液体供給装置は、前記膜の内部に浸入した液体部分で、前記露光光の光路の変化を抑えるために、前記膜の露光光に対する屈折率とほぼ同じ屈折率を有する液体を供給する請求項１０記載の露光装置。
12. 請求項８〜請求項１１のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。