JP2007073531A - 排気管 - Google Patents
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Abstract
【課題】環境上問題がないだけでなく、信頼性が高く、しかもより薄型のPDPやFEDを効率よく、また歩留まり良く作製することが可能な排気管を提供する。
【解決手段】30〜380℃における線熱膨張係数が75〜90×10-7/℃、軟化点が670℃以下、かつ作業温度が970℃以下であるガラスを用いて排気管を作製する。
【選択図】なし
【解決手段】30〜380℃における線熱膨張係数が75〜90×10-7/℃、軟化点が670℃以下、かつ作業温度が970℃以下であるガラスを用いて排気管を作製する。
【選択図】なし
Description
本発明は、排気管に関し、特にプラズマディスプレイパネル(PDP)や電界放射ディスプレイ(FED)等の放電を利用したフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造時に、パネル内部の真空排気やガス置換を行うための排気管に関するものである。
近年、大型平面テレビや壁掛けテレビとして、LCD(液晶ディスプレイ)、PDP、FEDなどのFPDの開発が急速に進められている。このうちPDPとFEDは、内部の電極間に電界を加えたときの放電を利用した表示装置である。
PDPは、パネル内部に閉じ込めた低圧の希ガス中で放電するによって、希ガスから紫外線を発生させて所定の蛍光体を励起し、可視光に変換して文字や絵を表示するというものである。従って、PDPの製造の最終段階(前面パネルと背面パネルのシール後)において、パネル内部に所定の成分と圧力に制御された希ガスを密封する工程が必須となる。この工程は、予めPDPの背面パネルの非表示部分にφ数mmの孔を開けておき、この孔にφ3〜10mm、長さ50〜150mm程度の管ガラス、いわゆる排気管をフリットを介して400〜500℃程度でシールする。次いで、パネル全体を数百度に加熱しながらこの排気管を通じてパネル内部を一旦高真空に排気し、続いて必要な成分に調整された希ガスを必要な圧力分だけ排気管を通して注入する。その後、排気管ガラスを加熱軟化させて封止し、熔断することによって希ガスを密封するというものである。
FEDは、パネル内部が高真空に保たれており、この高真空中で電界を加えて発生させた電子線で蛍光体を励起し、可視光線を発光させる方式の表示装置である。FEDにおいても、製造の最終工程で排気管を通じて高真空に排気した後、密封し熔断するという工程が存在する。
実開平5−15299号公報
ところで、PDPやFEDの排気管として現在使われているガラスには、従来から蛍光ランプのステム、排気管として広く使われている鉛系ガラス(鉛含有率がPbO換算で15〜30%)が転用されている。また極く少量ではあるが、ソーダ系ガラスが使われている例もある。
しかし、鉛系ガラスは、鉛の毒性が人体や環境上問題視されており好ましくない。さらに、この鉛系ガラスの熱膨張係数は約94×10-7/℃であり、PDPやFEDのパネルガラスとして多く使われているソーダライム系の板ガラス(熱膨張係数:80〜90×10-7/℃)や、専用に開発された高歪点ガラス(熱膨張係数:80〜85×10-7/℃)との膨張差が大きい。このため、封止時の熱衝撃により、シール部分でパネルガラスやフリット、または排気管ガラスにクラックが生じて不良となることがある。PDPやFEDの真空排気工程やガス置換工程はパネル製造の最終工程となるので、ここでの歩留りの低下はトータルコストを大きく上げてしまう。また、封止時にクラックの発生がなくとも、パネルガラスと排気管ガラスの膨張差に起因する応力が過度に残留するため、非常に不安定な状態となり、使用する間にクラックが発生して機能を失う等、信頼性に大きな問題を抱えている。
一方、ソーダ系ガラスの排気管は鉛を含有せず、また熱膨張係数が約84×10-7/℃であるために上記したような問題は生じない。しかし、ソーダ系ガラスの欠点は、ガラスの粘度が鉛系ガラスのそれよりも遥かに高いことにある。つまり、ソーダ系ガラスからなる排気管を用いると、ガラスの粘度が高いために、封止時の加熱温度をかなり高温にする必要がある。それゆえエネルギー消費量が増え、しかも封止に時間がかかるために効率が悪く、大量生産に適さない。またPDPやFEDの薄型化のためには、できる限りパネルの根元に近いところで排気管を封止して熔断することが必要であるが、封止温度が高くなると封止部分近傍のフリットやパネル本体に過度の温度上昇を招き易くなり、PDPやFEDの性能に悪影響を与えてしまう。またフリットが再溶融して隙間が生じ、気密性が保てなくなる(リークする)こともある。それゆえ排気管を根元付近で熔断することが困難であり、PDPやFEDの更なる薄型化の障害となるおそれがある。
本発明の目的は、環境上問題がないだけでなく、信頼性が高く、しかもより薄型のPDPやFEDを効率よく、また歩留まり良く作製することが可能な排気管を提供することである。
本発明の排気管は、30〜380℃における線熱膨張係数が75〜90×10-7/℃、軟化点が670℃以下、かつ作業温度が970℃以下であるガラスからなることを特徴とする。
本発明の排気管を用いれば、信頼性が高く、しかもより薄型のPDPやFEDを効率よく、また歩留まり良く作製することできる。しかもPbOを含有する必要がないため、環境上の問題がない。
本発明において、ガラスの線熱膨張係数、軟化点及び作業温度を上記のように限定した理由を以下に述べる。
線熱膨張係数が上記範囲から外れると、PDPやFEDのパネルガラスとの膨張差が大きくなり、封止、熔断時にパネルガラスやフリット、または排気管ガラスにクラックが生じて不良となり易い。また長期の使用中にクラックが発生して機能を失う等、信頼性が低下する。なお線熱膨張係数の好適な範囲は80〜87×10-7/℃である。
また軟化点及び作業温度の限定は、以下の理由による。つまり排気管の封止、熔断は、ガラスの軟化点と作業温度に挟まれた温度域、いわゆる作業温度域で行われる。ところが軟化点が670℃を超えたり、作業温度が970℃を超えるガラスでは、排気管の封止、熔断のための温度を高くする必要があり、加熱に長時間を要し効率が悪い。さらにパネル本体に過度の温度上昇を招き、表示のセルを劣化させる。またフリットが再溶融して排気管がずれたり、最悪の場合は気密性が保てなくなる。なお軟化点の好適な範囲は400〜650℃、作業温度の好適な範囲は600〜960℃である。
上記特性を有するガラスとしては、種々のガラスが使用できるが、環境上の点から実質的にPbOを含有しない組成を選択する必要がある。またPbO以外にも、As2O3等の有害成分を実質的に含まないことが望ましい。
上記ガラスの好適な例として、ガラス組成として、少なくともSiO2、Al2O3、B2O3を含有するSiO2−B2O3−Al2O3系ガラス(好ましくは、酸化物換算の重量百分率で、B2O3 5〜20%含有)を使用することができる。
上記ガラスの更に好適な例として、酸化物換算の重量百分率で、SiO2 50〜70%、Al2O3 1〜20%、B2O3 5〜20%、RO 0〜10%(RはCa、Mg、Sr、Ba、Znから選ばれる1種以上)、Li2O 2〜9%、Na2O 3〜10%、K2O 0〜10%、Li2O+Na2O+K2O 12〜20%、ZrO2 0〜5%の組成を含有するガラスを使用することができる。組成範囲をこのように限定した理由を以下に述べる。
SiO2はガラスのマトリックスを作る必須の成分であるが、70%を超えると粘度が高くなり、PDPやFED製造時の加熱熔断における低温化が難しくなる。またガラスの溶融が難しくなり、ブツ、脈理、気泡の多いガラスとなる。逆に50%未満では熱膨張係数が大きくなり過ぎて、パネルガラスとの膨張係数の整合性がとれなくなる。また耐候性が著しく悪化し、電子機器としての信頼性を保てなくなる。
Al2O3はガラスの耐候性を向上させる効果が大きく、また、ガラスの失透を抑えるのに有効であるが、1%以下ではその効果は小さく、20%を超えるとガラスの粘度が急激に高くなる。
B2O3はガラスの粘度を小さくし、さらに耐候性を向上させる成分であるが、20%より多いと逆に耐候性が後退するとともに、溶融時の蒸発が多くなって均質性の高いガラスが得難くなる。5%未満ではその効果が殆どない。
RO(RはCa、Mg、Sr、Ba、Znから選ばれる1種以上)は、ガラスの溶解を促進すると共に、ガラスの耐久性を上げる作用がある。また、粘度を下げる効果も大きいので適量含有させることができる。しかし10%を超えるとガラスの失透性が増大し、均質性の高いガラスが得難くなる。また温度に対する粘度の変化が急激になり、熱間でのガラス管の精密な成形が困難になる。
アルカリ金属酸化物であるLi2O、Na2O、K2Oは、SiO2−Al2O3−B2O3系ガラスにおいて、線熱膨張係数を75〜90×10-7/℃に設定し、なおかつ、軟化点が670℃以下、及び作業温度が970℃以下という低粘度に調整するために必須の成分である。また融剤としての作用も大きい。しかしその合量が12%より少ないと上記効果を得ることが困難になる。一方、これら成分の合量が20%を超えると線熱膨張係数が大きくなりすぎ、またガラスからアルカリ成分が溶出しやすくなって電子機器用ガラスとしての十分な耐候性が得られなくなる。
Li2Oは粘度を下げる効果が特に著しく、所望の熱膨張係数に保ったまま、鉛系ガラスと同等の低粘度を達成するために必要な成分であるが、2%未満ではその効果がなく、9%を超えるとガラスの失透性が急激に悪化し、安定したガラスができなくなる。Na2Oが3%より少ないと所望の熱膨張係数と低粘度化の達成ができなくなり、10%を超えると熱膨張係数高くなりすぎるとともに、耐候性が大きく後退する。K2Oが10%を超えると熱膨張係数が高くなりすぎ、またガラスの失透性が悪化する。
ZrO2はガラスの耐候性を高める効果があるので添加することが好ましいが、5%を超えるとガラスの失透性が増大し、安定したガラスの溶融ができなくなる。
その他に、清澄剤としてSb2O3、F、Cl等を1%まで、特性の微調整や耐候性を改善効果があるTiO2等の成分を3%程度まで加えることができる。
次に、本発明の排気管の製造方法を説明する。
まず、所望の特性を有するガラスとなるようにバッチを調製し、溶融する。
続いて溶融ガラスをダウンドロー法やダンナー法等を用いて管状に成形し、所定の長さに切断する。さらに必要に応じてガラス管端にフレア加工を施すことにより、排気管を得ることができる。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
表1及び表2は本発明の実施例(試料No.1〜8)、表3は比較例(試料No.9〜11)を示している。なお比較例として用いる試料No.9及び10は、従来より排気管として使用されている鉛系ガラス及びソーダ系ガラスである。また試料No.11は、蛍光灯のステム、排気管用として近年開発された無鉛のガラスである。
各試料は次のようにして調製した。
まず目的のガラス組成になるように定められた量の原料粉末を秤量して混合し、白金製の坩堝に入れ、電気炉中で1500℃で溶解した。原料が十分に溶解した後、撹拌羽をガラス融液に挿入し約2時間撹拌した。次に、撹拌羽を取り出し30分間静置した後、治具に融液を流し込むことによってガラスブロックを得た。その後、各ガラスのガラス転移点付近までガラスブロックを再加熱し、徐冷して歪み取りを行った。そして、得られたガラスブロックから線熱膨張係数、軟化点及び作業温度の測定に必要なガラス試料を作製した。
各測定は以下のようにして行った。線熱膨張係数は、外径3.5mm×長さ50mmの円柱状の試料を作製し、ディラトメータで30〜380℃間の平均線熱膨張係数を測定した。ガラスの軟化点は、ASTM−C338に準拠するファイバエロンゲーション法によって測定した。作業温度はストークスの法則に基づく白金球引き上げ法によって、ガラスの粘度が104ポイズとなる温度を求めた。
その結果、本発明の実施例であるNo.1〜8の各試料は、線熱膨張係数が78.2〜86.0×10-7/℃であり、PDPやFEDのパネルガラスとして用いられているソーダライムガラスや専用に開発された高歪点ガラスのそれとよく整合していた。また軟化点が658℃以下、作業温度が961℃以下であり、作業温度域において、この用途に広く使われている鉛系ガラス(試料No.9)と同等の低温軟化性を有していることが分かった。
比較例である鉛系ガラスからなるNo.9の試料は、低温軟化性だが線熱膨張係数が94.2×10-7/℃と大きいので、パネルガラスのそれと整合していない。ソーダ系ガラスからなるNo.10の試料は、線熱膨張係数が84.3×10-7/℃とパネルガラスにマッチしているが、軟化点及び作業温度が鉛系ガラスのそれより各々100℃程度高かった。No.11の試料は、軟化点が668℃、作業温度が985℃とソーダ系ガラスより低いものの、線熱膨張係数が鉛系ガラスと同等であった。
次に、上記と同様にしてガラスを溶融した後、管状に成形し、切断して、外径6mm、肉厚1mm、長さ80mmの試料を作製した。続いて得られた管状試料を排気管として用い、熔断による不良発生数及び熔断に要する時間を評価した。
不良発生数及び熔断に要する時間は次のようにして評価した。まず、ソーダライムガラスからなる背面パネルに直径約3mmの排気孔を形成し、この孔に排気管を排気管用フリットを用いて420℃でシールした。次にこの背面パネルと、ソーダライムガラスからなる前面パネルをパネル用フリットを用いて400℃でシールした。続いて、排気管を真空系に接続して排気しながら、ガスバーナーで加熱し、封止、熔断した。このときバーナーの加熱は、背面パネルから30mm離れた位置と、10mm離れた位置の2通りで行った。試料数は各10個とし、不良数をカウントするとともに、良好に封止できた試料については熔断に要した平均時間を測定した。
その結果、本発明の実施例である試料No.1〜8の排気管を用いて作製したパネルでは不良が発生せず、また熔断に要する平均時間は9秒以下であった。
一方、鉛系ガラスからなる試料No.9の排気管を用いたパネルでは、熔断は9秒以下で完了したが、不良発生数は加熱位置が30mmのときが4個、10mmのときが7個であった。不良の内容は、排気管用フリット部分や、パネルガラスと排気管用フリットの界面でクラックが発生するというものであり、排気管ガラスとパネルガラスの熱膨張係数の不整合に起因するものと考えられる。
ソーダ系ガラスからなる試料No.10の排気管を用いたパネルでは、熔断に要した時間は約18秒であり、実施例の各試料の2倍程度の時間を要した。また加熱位置が30mmのときは不良発生数が0個であったものの、10mmのときは10個(全数)であった。不良の内容は、フリットが再溶融したために加熱途中で排気管がずれたり、気密が破られるというものであり、高温で封止、熔断する必要があることが原因であると考えられる。
また試料No.11の排気管を用いたパネルでは、熔断に要した時間は13〜14秒であり、実施例の各試料の1.5倍程度の時間を要した。不良発生数は加熱位置が30mmのときは5個、10mmのときは8個であった。不良の内容を見てみると、加熱位置が30mmのときは、試料No.9と同様にクラックが発生するというものであり、10mmのときはクラック発生が6個、排気管のずれによるものが2個であった。
以上説明した通り、本発明の排気管は、PDPやFED等の放電を利用したFPDの製造時に、パネル内部の真空排気やガス置換を行うための排気管として好適である。
Claims (7)
- 30〜380℃における線熱膨張係数が75〜90×10-7/℃、軟化点が670℃以下、かつ作業温度が970℃以下のガラスからなることを特徴とする排気管。
- PbOを実質的に含まないガラスからなることを特徴とする請求項1に記載の排気管。
- ガラス組成として、少なくともSiO2、Al2O3、B2O3を含有するガラスからなることを特徴とする請求項1または2に記載の排気管。
- 酸化物換算の重量百分率で、B2O3 5〜20%の組成を含有するガラスからなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の排気管。
- 酸化物換算の重量百分率で、Li2O+Na2O+K2O 12〜20%の組成を含有するガラスからなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の排気管。
- 酸化物換算の重量百分率で、SiO2 50〜70%、Al2O3 1〜20%、B2O3 5〜20%、RO 0〜10%(RはCa、Mg、Sr、Ba、Znから選ばれる1種以上)、Li2O 2〜9%、Na2O 3〜10%、K2O 0〜10%、Li2O+Na2O+K2O 12〜20%、ZrO2 0〜5%の組成を含有するガラスからなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の排気管。
- プラズマディスプレイパネル又は電界放射ディスプレイ用であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の排気管。
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Cited By (2)
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US9540275B2 (en) | 2014-01-17 | 2017-01-10 | Namics Corporation | Conductive paste and method for producing a semiconductor device using the same |
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