JP2007073484A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】バス電極間の放電を防止し、放電ロスやクロストークを抑制する。
【解決手段】隣接する2つの行電極を電極対として面放電を生じるように基板上に等間隔に配列された複数の行電極と、行電極を覆って基板上に広がる誘電体層とを備え、各行電極は、行方向の全長にわたって平行に延びる2本の帯状透明電極と、2本の帯状透明電極の中央にそれらから間隔をおいて行方向の全長にわたって延びる帯状バス電極と、各帯状透明電極を帯状バス電極に電気的に接続するために列方向に延びる複数の連結電極からなり、連結電極の長さL(μm)と、誘電体層の厚さt(μm)との関係が、L=2t+α(α>0)となるように設定されてなるプラズマディスプレイパネル。
【選択図】図5
【解決手段】隣接する2つの行電極を電極対として面放電を生じるように基板上に等間隔に配列された複数の行電極と、行電極を覆って基板上に広がる誘電体層とを備え、各行電極は、行方向の全長にわたって平行に延びる2本の帯状透明電極と、2本の帯状透明電極の中央にそれらから間隔をおいて行方向の全長にわたって延びる帯状バス電極と、各帯状透明電極を帯状バス電極に電気的に接続するために列方向に延びる複数の連結電極からなり、連結電極の長さL(μm)と、誘電体層の厚さt(μm)との関係が、L=2t+α(α>0)となるように設定されてなるプラズマディスプレイパネル。
【選択図】図5
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関し、とくに、パーソナルコンピュータやワークステーション等のディスプレイ装置,平面型のテレビジョン,広告や情報等の表示用のディスプレイ等に使用するプラズマディスプレイパネル(以下PDPという)に関する。
現在、一般的に商品化されているPDPはAC型の面放電型である。面放電型とは、主放電である表示放電において、陰極及び陽極となる第1及び第2の表示電極を共に、前面側、または、背面側の基板上に平行に平面的に配列するものである。面放電型では、カラー表示のための蛍光体層を表示電極対からパネル厚さ方向に遠ざけて配置することができ、それによって放電時のイオン衝撃による蛍光体層の劣化を低減することができる。従って、面放電型は、第1及び第2の表示電極を前面基板と背面基板とに対向させて配置する対向放電型と比べて、長寿命である。
面放電型の電極マトリクス構造は、一般的に一対の表示電極とそれらに交差するようにセル選択のためのアドレス電極とを配列した、いわゆる“3電極構造”であり、その基本形態は画面の各行に一対の表示電極を面放電電極として配置するものである。一般的に各表示電極は透明電極とバス電極(金属電極)から構成され、各行における表示電極対の配列間隔(放電スリット又は面放電ギャップ長)は、数十μm〜百数十μm程度であり、200〜250ボルト程度の電圧で放電が生じる。これに対して、隣接する2対の表示電極間の間隔(非放電スリットいわゆる逆スリット)は、そこでの面放電を防止するため、面放電ギャップ長(放電スリット)よりも充分に大きい値に設定される。この場合、通常は一対の透明電極間で放電が生じるが、場合によっては、その放電がバス電極上まで拡がることがある。これに対し、透明電極にスリット(細長い窓)を設けて透明電極とバス電極とを空間的に分離することにより、放電領域を制御するようにしたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
3電極構造のもう一つの形態として、表示電極を等間隔に配列し、すべての隣接する電極どうしを電極対として面放電を生じさせる構造がある。この構造は、ALIS(Alternate Lighting Surfaces)構造と呼ばれ、放電スリットと逆スリットの幅が同じであるため、放電スリット側よりも逆スリット側の広い構造のものと同様な駆動方法では駆動が困難である。そのため、1フィールド毎に奇数ラインと偶数ラインを交互に放電させるインタレース形式によって表示を行う。この方法によれば、従来発光しない逆スリット側も発光領域となるため発光の利用率を高めることができ、高輝度・高効率なPDPを実現することができる(例えば、特許文献2参照)。
特許第3106992号公報
特開2003−5699号公報
前記ALIS構造のPDPは逆スリットが存在せず、表示電極が縦方向(列方向)に隣接するので、列方向に隣接する表示セルでの放電の干渉が発生しやすい。
そこで、図7に示すように、行方向に延びる面放電用の一対の表示電極X,Yの各々において、バス電極24の両側に空間的に分離した透明電極23を設置し、バス電極24と透明電極23とを連結電極25で電気的に接続した電極構造を用いて放電の形態を電極X−Y間への印加電圧Vsの大きさによって制御しようとする試みがなされている。
そこで、図7に示すように、行方向に延びる面放電用の一対の表示電極X,Yの各々において、バス電極24の両側に空間的に分離した透明電極23を設置し、バス電極24と透明電極23とを連結電極25で電気的に接続した電極構造を用いて放電の形態を電極X−Y間への印加電圧Vsの大きさによって制御しようとする試みがなされている。
つまり、図7のような電極構造において、印加電圧Vsを低い電圧から高い電圧に変化させると、まず、電極X,Yの最も接近した2つの透明電極23、23の間の領域でω放電が発生する。次に、2つのバス電極24、24の間の領域でのα放電が発生し、続いて、最も離れた2つの透明電極23、23の間の領域でβ放電が発生する。
そして、印加電圧Vsの大きさに対する放電形態α,β,ωと輝度βとの関係は図8のようになり、ω放電は輝度が低く、β放電は輝度が高いが電圧Vsが大きく消費電力が大きくなる。従って、α放電が輝度と消費電力からみて好ましい。
しかしながら、各形態の放電を発生させるための印加電圧範囲が、図8に示すように明確でないため、所望の放電形態を印加電圧Vsにより任意に発生させて維持することが難しいという問題があった。
しかしながら、各形態の放電を発生させるための印加電圧範囲が、図8に示すように明確でないため、所望の放電形態を印加電圧Vsにより任意に発生させて維持することが難しいという問題があった。
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、ALIS構造のPDPにおいて、種々の電極構造における印加電圧対放電形態の関係について、実験的に、また理論的に種々検討を加えた結果、所望の放電形態を印加電圧を制御して得るためには、次のようなPDPであればよいことが見出された。
つまり、この発明によれば、隣接する2つの行電極を電極対として面放電を生じるように基板上に等間隔に配列された複数の行電極と、行電極を覆って基板上に広がる誘電体層とを備え、各行電極は、行方向の全長にわたって平行に延びる2本の帯状透明電極と、2本の帯状透明電極の中央にそれらから間隔をおいて行方向の全長にわたって延びる帯状バス電極と、各帯状透明電極を帯状バス電極に電気的に接続するために列方向に延びる複数の連結電極からなり、連結電極の長さ(透明電極とバス電極との間隔)L(μm)と、誘電体層の厚さt(μm)との関係が、L=2t+α(α>0),となるように設定されてなるプラズマディスプレイパネルが提供される。
さらに、3≦t≦20,α≧30であり、誘電体層の比誘電率εが1≦ε≦8であることが好ましい。
5≦t≦15,α≧50で、誘電体層の比誘電率εが2≦ε≦5であればさらに好ましい。
5≦t≦15,α≧50で、誘電体層の比誘電率εが2≦ε≦5であればさらに好ましい。
誘電体層がSiO2およびCH3SiO2の一方であってもよい。
誘電体層はCVD法で形成された膜であってもよい。
誘電体層はCVD法で形成された膜であってもよい。
帯状透明電極がITO膜からなり、連結電極および帯状バス電極がCr/Cu/Crの積層金属膜であってもよい。
前記基板に対向して設けられる対向基板をさらに備え、対向基板は列方向に平行に伸びる複数の隔壁と、隔壁間に設けられた蛍光体層とを有し、各連結電極が各隔壁に対向するように配置されることが好ましい。
この発明によれば、表面放電を行う電極間への印加電圧の大きさにより放電領域および放電形態が制御でき、所望の放電形態によって輝度の安定した表示を得ることができる。
以下、図面に示す実施形態に基づいてこの発明を詳述する。
PDPの構成
図1はこの発明のPDPの要部を示す分解斜視図である。同図に示すPDP100は、カラー表示用のAC型3電極面放電構造のPDPであり、全体的には、一対の基板間に複数の表示電極が配置され、それらの表示電極と交差する方向に複数のアドレス電極が配置された構造となっている。
図1はこの発明のPDPの要部を示す分解斜視図である。同図に示すPDP100は、カラー表示用のAC型3電極面放電構造のPDPであり、全体的には、一対の基板間に複数の表示電極が配置され、それらの表示電極と交差する方向に複数のアドレス電極が配置された構造となっている。
具体的には、PDP100は、前面側の基板1を含む前面側のパネルアセンブリと、背面側の基板2を含む背面側のパネルアセンブリから構成されている。前面側の基板1と背面側の基板2はそれぞれ厚さ2〜3mmのソーダライムガラスのようなガラスで形成されている。
前面側の基板1の内側面には、行方向に延びる複数の表示電極X,Yが列方向に等間隔に配列されている。これらの表示電極X,Yは、隣接する表示電極X(X電極ともいう)と表示電極Y(Y電極ともいう)との間で表示用の面放電を発生させるものである。この面放電は、表示用の放電であるため一般に表示放電と呼ばれるが、点灯を維持するための放電であるため、維持放電またはサスティン放電とも呼ばれる。また、この意味で表示電極は、維持電極またはサスティン電極とも呼ばれる。
表示電極X,Yは、ITO、SnO2 などの幅の広い透明電極3と、電極の抵抗を下げるための、例えばAg、Au、Al、Cu、Cr及びそれらの積層体(例えばCr/Cu/Crの積層構造)等からなる金属製の幅の狭いバス電極(不透明電極)4から構成される。表示電極X,Yは、Ag、Auなどについては印刷法を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の成膜法とエッチング法を組み合わせることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成する。アドレシングの際には、表示電極Yがスキャン電極として用いられる。
図2は表示電極X,Yの構成と基板2との位置関係を示す平面図である。
図2に示すように、表示電極X,Yの各々は、行方向に平行に延びる2本の帯状の透明電極3と、2本の透明電極3の間に行方向に延びる帯状のバス電極4と、2本の透明電極3を所定ピッチで列方向にそれぞれバス電極4に電気的に接続する連結電極5から構成される。そして、連結電極5は後述するように基板2の上に列方向に延びる隔壁15に重なるように配置される。
図2に示すように、表示電極X,Yの各々は、行方向に平行に延びる2本の帯状の透明電極3と、2本の透明電極3の間に行方向に延びる帯状のバス電極4と、2本の透明電極3を所定ピッチで列方向にそれぞれバス電極4に電気的に接続する連結電極5から構成される。そして、連結電極5は後述するように基板2の上に列方向に延びる隔壁15に重なるように配置される。
図1に示す誘電体層11は、表示電極X,Yを覆うように形成されるが、これは気相成長法、例えば、プラズマCVD法により形成されてもよい。
誘電体層11の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層11を保護するための保護膜12が設けられる。この保護膜12は厚さが1〜0.5μmで、例えば、MgO、CaO、SrO、BaO等から形成される。
背面側の基板2の内側面には、表示電極X,Yと直交する方向、つまり列方向に延びる複数のアドレス電極13が形成される。これらのアドレス電極13は、スキャン用の表示電極との交差部でアドレス放電を発生するものであり、例えばAg、Au、Al、Cu、Cr及びそれらの積層体(例えばCr/Cu/Crの積層構造)等から構成される。アドレス電極13も、表示電極X,Yと同様に、Ag、Auについては印刷法を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の成膜法とエッチング法を組み合わせることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成する。
誘電体層14は、例えば、低融点ガラスフリットにバインダと溶剤を加えたガラスペーストを、前面側の基板1上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することによりアドレス電極13を覆うように形成される。
プラズマCVD法による誘電体層ではSi、O2、CH3SiO2等が用いられる。
誘電体層14は、例えば、低融点ガラスフリットにバインダと溶剤を加えたガラスペーストを、前面側の基板1上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することによりアドレス電極13を覆うように形成される。
プラズマCVD法による誘電体層ではSi、O2、CH3SiO2等が用いられる。
列方向に延びる隔壁15は、誘電体層14上に、サンドブラスト法、印刷法、フォトエッチング法等により形成される。例えば、低融点ガラスフリット、バインダ、溶剤等からなるガラスペーストを誘電体層14上に塗布して乾燥させた後、サンドブラスト法で切削して、焼成することにより形成することができる。また、バインダに感光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光及び現像の後、焼成することにより形成することも可能である。なお、形成される隔壁15の高さは100〜200μm程度である。
蛍光体層16,17,18は、蛍光体粉末とバインダとを含む蛍光体ペーストを隔壁15に囲まれた溝状領域内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成する。この蛍光体層16,17,18は、蛍光体粉末とバインダとを含むシート状の蛍光体層材料(いわゆるグリーンシート)を使用し、フォトリソ法で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応する隔壁間に各色の蛍光体層を形成することができる。
PDP100は、上記前面側のパネルアセンブリと背面側のパネルアセンブリとを、表示電極X,Yとアドレス電極13とが直交し、かつ、図2に示すように連結電極5が隔壁15に重なるように対向するように配置し、周縁部をシールフリットで封止し、隔壁15で囲まれた空間からガスを排気し、その後でネオンとキセノンの混合ガスなどの放電ガスを充填することにより作製される。このPDP100では、表示電極X,Yとアドレス電極13との交差部の放電空間(セル)が表示の最小単位である1つのセル領域(単位発光領域)となる。
製造方法
次に、図3に示すフローチャートを用いて、図1に示すPDP100の製造工程の流れを説明する。
まず、前面側パネルアセンブリの工程、つまり、ステップS1〜S5において、基板1として、ガラス基板を用意し(ステップS1)、蒸着法又はスパッタ法とエッチング法を組み合わせて、基板1の表面にITO膜からなる帯状の透明電極3を形成してパターニングする(ステップS2)。
次に、図3に示すフローチャートを用いて、図1に示すPDP100の製造工程の流れを説明する。
まず、前面側パネルアセンブリの工程、つまり、ステップS1〜S5において、基板1として、ガラス基板を用意し(ステップS1)、蒸着法又はスパッタ法とエッチング法を組み合わせて、基板1の表面にITO膜からなる帯状の透明電極3を形成してパターニングする(ステップS2)。
次に、印刷法を用いて、各2本の透明電極3の中央に金属製のバス電極4を形成し、さらに、金属製の連結電極5を形成し、2本の透明電極3とバス電極4とを連結電極5により接続させる(ステップS3)。次に、誘電体層11と保護膜12を形成し(ステップS4,S5)、前面側のパネルアセンブリが完成する。
一方、背面側パネルアセンブリの工程、つまり、ステップS6〜S11においては、基板2として厚さ3mmのガラス基板を用意し(ステップS6)、印刷法を用いて金属製のアドレス電極13を基板2の表面に形成し、その上に、誘電体層14を形成する(ステップS8)。さらに、その上に、列方向に延びる隔壁15を形成し、蛍光体層16〜18を形成する(ステップS9,S10)。
次に、基板2の表面の周縁部にシールフリット材を印刷法で塗布し、焼成する。それによって、基板2の周縁部には封止用のシールフリットが形成される(ステップS11)。
次に、図3のステップS5までの工程を終了した基板1と、ステップS11までの工程を終了した基板2とが、ステップS12において、図1に示すように組み合わされる。
次に、基板1と2を加熱しながら基板間内部を排気すると、基板間内部が負圧になることで基板間に吸引力による加圧が生じ、周縁部の溶融状態にあるシールフリットは押しつぶされて周縁部が封止され、かつ排気が行われる。
そして、温度が下がるとシールフリットの溶融部分は硬化し、ステップ13の封止と排気の工程が完了する。
そして、温度が下がるとシールフリットの溶融部分は硬化し、ステップ13の封止と排気の工程が完了する。
次に、図3のステップS14では、温度が常温まで下がった時点において放電ガス(希ガス)を封入する。それによって、パネル100が完成する(ステップS15)。
図5はステップS2とS3において基板1上に形成される表示電極X,Yつまり透明電極3、バス電極4および連結電極5と、ステップS4で形成される誘電体層11とを示す拡大断面図である。
この実施形態のステップS2とS3では、基板1に寸法980×600×3mmのソーダライムガラスを使用し、透明電極3としてITO膜(厚さ0.02μm)を形成し、バス電極4および連結電極5としてCr/Cu/Cr積層膜(厚さ0.1/2.0/0.1μm)を形成した。
この実施形態のステップS2とS3では、基板1に寸法980×600×3mmのソーダライムガラスを使用し、透明電極3としてITO膜(厚さ0.02μm)を形成し、バス電極4および連結電極5としてCr/Cu/Cr積層膜(厚さ0.1/2.0/0.1μm)を形成した。
そして、図5に示すように放電ギャップG=100μm、透明電極3の幅W1=50μm、バス電極4の幅W2=80μm、連結電極5の列方向の長さつまり透明電極3とバス電極4との間隔L=50μmに設定された。
次に、ステップS4における誘電体層の形成方法について、2つの実施例を用いて以下に詳述する。
次に、ステップS4における誘電体層の形成方法について、2つの実施例を用いて以下に詳述する。
図4はここで使用するプラズマCVD装置の概略図である。プラズマCVD装置200は平行平板型である。真空チャンバ201内に表示電極X,Y(図1)の配列を終えた段階の基板1を処理電極202の上に配置し、電源203から処理電極202と対向電極204との間に高周波電圧を印加してプラズマを発生させ、下地面sに所定の物質を推積させる。下地面sは表示電極X,Y及び基板1の露出面である、チャンバ201内にソースガスSGを導入するとともに反応ガスRGを導入し、誘電体層11を形成する。
〔実施例1〕
図4のプラズマCVD装置200を用い、基板1に次の条件で厚さ10μmのSiO2の膜を成膜した。
図4のプラズマCVD装置200を用い、基板1に次の条件で厚さ10μmのSiO2の膜を成膜した。
導入ガスSGと流量:TEOS/850SCCM
導入ガスRGと流量:O2/2000SCCM
高周波出力 :1.5kW
基板温度 :350℃
真空度 :1.0Torr
得られたSiO2膜は、比誘電率が4.1であった。
導入ガスRGと流量:O2/2000SCCM
高周波出力 :1.5kW
基板温度 :350℃
真空度 :1.0Torr
得られたSiO2膜は、比誘電率が4.1であった。
〔実施例2〕
プラズマCVD装置200(図4)を用い、基板1に次の条件で厚さ10μmの有機酸化珪素膜(CH3SiO)を成膜した。
プラズマCVD装置200(図4)を用い、基板1に次の条件で厚さ10μmの有機酸化珪素膜(CH3SiO)を成膜した。
導入ガスSGと流量:Si(CH3)4/800SCCM
導入ガスRGと流量:H2O/4000SCCM
高周波出力 :2.0kW
基板温度 :400℃
真空度 :1.0Torr
得られた有機酸化珪素膜の比誘電率は2.6であった。
導入ガスRGと流量:H2O/4000SCCM
高周波出力 :2.0kW
基板温度 :400℃
真空度 :1.0Torr
得られた有機酸化珪素膜の比誘電率は2.6であった。
図6は、この発明の一実施形態のPDPにおける印加電圧Vsに対する放電の形態(ω放電,α放電,β放電)と輝度βの関係を示すグラフである。
図6から、この発明によれば、放電の形態に対応する印加電圧Vsの範囲が明確となり、輝度βの制御を確実に行うことができることが分かる。
この発明の実施形態において、多くの実施例を実施し、結合電極5の長さL(μm)、誘電体層11の厚さt(μm),誘電体層11の比誘電率εを変化させ、印加電圧Vsによる放電形態の制御性を検討した。
その結果、
(1)L=2t+α(α>0)であればよく、
(2)上記(1)において、3≦t≦20,α≧30,1≦ε≦8
であることが好ましく、
(3)5≦t≦15,α≧50,2≦ε≦5
であれば、さらに好ましいことが確認された。
図6から、この発明によれば、放電の形態に対応する印加電圧Vsの範囲が明確となり、輝度βの制御を確実に行うことができることが分かる。
この発明の実施形態において、多くの実施例を実施し、結合電極5の長さL(μm)、誘電体層11の厚さt(μm),誘電体層11の比誘電率εを変化させ、印加電圧Vsによる放電形態の制御性を検討した。
その結果、
(1)L=2t+α(α>0)であればよく、
(2)上記(1)において、3≦t≦20,α≧30,1≦ε≦8
であることが好ましく、
(3)5≦t≦15,α≧50,2≦ε≦5
であれば、さらに好ましいことが確認された。
この発明のPDPは、印加電圧によって所望の放電形態を確実に選択できるので、高品位で高品質なプラズマディスプレイパネルに適用できる。
1 基板
2 基板
3 透明電極
4 バス電極
5 連結電極
11 誘電体層
12 保護膜
13 アドレス電極
14 誘電体層
15 隔壁
16 蛍光体層
17 蛍光体層
18 蛍光体層
100 PDP
200 プラズマCVD装置
2 基板
3 透明電極
4 バス電極
5 連結電極
11 誘電体層
12 保護膜
13 アドレス電極
14 誘電体層
15 隔壁
16 蛍光体層
17 蛍光体層
18 蛍光体層
100 PDP
200 プラズマCVD装置
Claims (7)
- 隣接する2つの行電極を電極対として面放電を生じるように基板上に等間隔に配列された複数の行電極と、行電極を覆って基板上に広がる誘電体層とを備え、各行電極は、行方向の全長にわたって平行に延びる2本の帯状透明電極と、2本の帯状透明電極の中央にそれらから間隔をおいて行方向の全長にわたって延びる帯状バス電極と、各帯状透明電極を帯状バス電極に電気的に接続するために列方向に延びる複数の連結電極からなり、連結電極の長さL(μm)と、誘電体層の厚さt(μm)との関係が、
L=2t+α(α>0)
となるように設定されてなるプラズマディスプレイパネル。 - 3≦t≦20,α≧30
である請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。 - 5≦t≦15,α≧50
である請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。 - 誘電体層がSiO2およびCH3SiO2の一方からなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 誘電体層がCVD法で形成された膜である請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 帯状透明電極がITO膜からなり、帯状バス電極および連結電極がCr/Cu/Crの積層金属膜からなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記基板に対向して設けられる対向基板をさらに備え、対向基板は列方向に平行に伸びる複数の隔壁と、隔壁間に設けられた蛍光体層とを有し、各連結電極が各隔壁に対向するように配置される請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
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