JP2007068341A - リニアパルスモータの制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 プラテンの軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向に駆動される一群のフォーサを介してステージを所望位置まで高速度で円滑に駆動できるリニアパルスモータの制御方法を提供する。
【解決手段】 プラテン4のXY平面上の所望位置に一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2を介してステージ3を駆動する際、ステージ3の瞬時目標位置と速度フィードフォワード出力値と加速度フィードフォワード出力値との合算値によりフォーサをフィードフォワード制御するため、フォーサは、その瞬時目標位置に対し遅れを発生することなく、しかも振動を発生することなく円滑に駆動される。その結果、ステージは、所望位置まで高速度で円滑に駆動される。
【選択図】 図1
【解決手段】 プラテン4のXY平面上の所望位置に一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2を介してステージ3を駆動する際、ステージ3の瞬時目標位置と速度フィードフォワード出力値と加速度フィードフォワード出力値との合算値によりフォーサをフィードフォワード制御するため、フォーサは、その瞬時目標位置に対し遅れを発生することなく、しかも振動を発生することなく円滑に駆動される。その結果、ステージは、所望位置まで高速度で円滑に駆動される。
【選択図】 図1
Description
本発明は、プラテンの軌道面に沿ってXY平面上の所望位置にステージを駆動可能なリニアパルスモータの制御方法に関するものである。
半導体や液晶などの半導体デバイスの製造工程(露光工程)あるいは検査工程においては、半導体デバイスをステージに載置してXY軸方向に駆動するXYステージ装置が位置決め用または搬送用として使用されている。この種のXYステージ装置として、半導体デバイスを載置するステージをプラテンの軌道面に沿ってXY平面上の所望位置に駆動するリニアパルスモータを備えたものが従来一般に知られている(例えば特許文献1参照)。
このリニアパルスモータは、いわゆる平面型のPM型リニアステッピングモータであり、表面に磁性体が格子状に配列された平板状の固定子であるプラテンと、このプラテンの表面の軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向に駆動されるブロック状の可動子である一群のフォーサとを備えている。そして、このリニアパルスモータは、プラテン上にエアベアリングを介して滑動可能に載置され、かつ、一群のフォーサを介して駆動可能に支持されたステージをプラテンの軌道面に沿ってXY平面上の所望位置に駆動するように制御される。
ここで、プラテンの軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向にフォーサを所望の距離だけ駆動するリニアパルスモータの制御方法としては、オープンループ制御が一般的であり、例えば特許文献1には、フォーサの駆動距離をx、プラテンの軌道面に格子状に配列された磁性体のピッチ間隔をτ、その繰り返しの一周期を2πとしたとき、フォーサの励磁電流の位相を2π・x/τだけ進めれば、フォーサを距離xだけ駆動できることが記載されている。
また、特許文献1には、フォーサの励磁電流の位相進み角をθ、フォーサの推力をFとし、CおよびIを所定の定数としたとき、F=C・I・sin(θ)で表される関係があり、θがπ/4を超えるとFの値の線形性が悪化し、θがπ/2を超えるとFの値が減少し、θがπを超えるとFの値が反転するため、フォーサの励磁電流の位相進み角θは、π/4を超えない範囲で徐々に進めるべきことが記載されている。
特開平8−9674号公報(段落番号0002〜段落番号0009、図6、図9〜図11)
ところで、特許文献1に記載されたリニアパルスモータの制御方法においては、フォーサの励磁電流の位相進み角θに応じてフォーサの推力Fが発生する関係があるため、移動中のフォーサの位置xは、その瞬時目標位置xcomに対して遅れが発生し、その結果、ステージの目標位置への到達および整定が遅れるという問題がある。
また、フォーサの推力Fがフォーサの位置xに依存する関係は、機械的なバネが結合しているのと等価の関係であるため、フォーサの加速時および減速時にステージが振動するという問題もある。
さらに、フォーサを高速駆動するためにフォーサの励磁電流の位相進み角θを大きくし過ぎると、フォーサが脱調してステージが目標位置に到達できなくなることがある。
そこで、本発明は、プラテンの軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向に駆動される一群のフォーサを介してステージを所望位置まで高速度で円滑に駆動することができるリニアパルスモータの制御方法を提供することを課題とする。
本発明に係るリニアパルスモータの制御方法は、プラテンの軌道面に沿って少なくともX軸方向およびY軸方向に駆動される一群のフォーサを介してXY平面上の所望位置にステージを駆動可能なリニアパルスモータの制御方法であって、ステージの瞬時目標位置と、瞬時目標位置の1階微分値に所定のゲインを乗じた速度フィードフォワード出力値と、瞬時目標位置の2階微分値に所定のゲインを乗じた加速度フィードフォワード出力値とを求め、これらの合算値によりフォーサをフィードフォワード制御してステージを所望位置まで駆動することを特徴とする。
本発明に係るリニアパルスモータの制御方法では、プラテンのXY平面上の所望位置に一群のフォーサを介してステージを駆動する際、ステージの瞬時目標位置と速度フィードフォワード出力値と加速度フィードフォワード出力値との合算値によりフォーサをフィードフォワード制御するため、フォーサは、その瞬時目標位置に対し遅れを発生することなく、しかも振動を発生することなく円滑に駆動される。その結果、ステージは、所望位置まで高速度で円滑に駆動される。
本発明のリニアパルスモータの制御方法において、瞬時目標位置の1階微分値に乗じる速度ゲインは、ステージの等速区間における瞬時目標位置と現在位置との偏差が小さくなるように予め調整し、瞬時目標位置の2階微分値に乗じる加速度ゲインは、ステージの加減速区間における瞬時目標位置と現在位置との偏差が小さくなるように予め調整するのが好ましい。
本発明に係るリニアパルスモータの制御方法によれば、プラテンのXY平面上の所望位置に一群のフォーサを介してステージを駆動する際、フォーサは、その瞬時目標位置に対し遅れを発生することなく、しかも振動を発生することなく円滑に駆動されるため、ステージを所望位置まで高速度で円滑に駆動することができる。
以下、図面を参照して本発明に係るリニアパルスモータの制御方法の実施の形態を説明する。参照する図面において、図1は一実施形態に係るリニアパルスモータの制御方法が適用されるXYステージ装置の制御系のブロック構成図である。
図1に示すXYステージ装置1は、半導体や液晶などの半導体デバイスの製造工程(露光工程)や検査工程において位置決め用などに使用される装置である。このXYステージ装置1は、いわゆる平面型のPM型リニアステッピングモータの一種であるリニアパルスモータ2によりXY平面上の所望位置に駆動されるステージ3を備えている。
リニアパルスモータ2は、図1に示すように、平板状の固定子であるプラテン4と、ブロック状の可動子である一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2とを備えて構成されている。プラテン4は、表面に多数の磁性体の歯がX軸方向およびY軸方向に沿って格子状に配列された軌道面を有し、この軌道面は、多数の歯と歯の間に非磁性体のエポキシ樹脂などが充填されることで平滑面として構成されている。
一方、一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2は、プラテン4の軌道面に沿ってX軸方向またはY軸方向に駆動されるものであり、X軸方向に駆動される一対のフォーサ5X1,5X2は、ステージ3のX軸に沿う2辺の下面に固定され、Y軸方向に駆動される一対のフォーサ5Y1,5Y2は、ステージ3のY軸に沿う2辺の下面に固定されている。
フォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2は、いずれも同様に構成されているため、これらを代表してフォーサ5X1について説明する。このフォーサ5X1は、図2に示すように、上面が平坦なフォーサ本体5Aの下面にA相駆動部5BとB相駆動部5Cとが一列に配列されて組み込まれた構造を有する。
A相駆動部5Bは、永久磁石の両極に接触して隣接配置された一対の鉄心5D,5D間にA相コイル5Eが巻装された構造を有する。同様に、B相駆動部5Cは、永久磁石の両極に接触して隣接配置された一対の鉄心5F,5F間にB相コイル5Gが巻装された構造を有する。
A相駆動部5Bの鉄心5D,5Dには、A相コイル5Eの通電による磁界の発生によってプラテン4側の多数の磁性体の歯に合わせて整列する少数の磁性体の歯がX軸方向に配列されている。同様に、B相駆動部5Cの鉄心5F,5Fには、B相コイル5Gの通電による磁界の発生によってプラテン4側の多数の磁性体の歯に合わせて整列する少数の磁性体の歯がX軸方向に配列されている。
なお、図1に示したステージ3は、図示しないエア噴出孔からプラテン4の軌道面に向けて噴出されるエアのエアベアリング効果によってプラテン4の軌道面上をX軸方向およびY軸方向に滑動可能に構成されている。
ここで、XYステージ装置1には、フォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2の駆動を制御するためのコントローラ6およびDCアンプ7が制御系として付設されている。また、ステージ3の少なくともX軸方向およびY軸方向の位置を検出するためのX軸レーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9が付設されている。
X軸レーザ干渉計8は、ステージ3のY軸に沿う一辺上にX軸と直交して立設されたX軸ミラー10との間の距離を計測することでステージ3のX軸方向の位置を検出する。一方、Y軸レーザ干渉計9は、ステージ3のX軸に沿う一辺上にY軸と直交して立設されたY軸ミラー11との間の距離を計測することでステージ3のY軸方向の位置を検出する。
コントローラ6は、例えばパーソナルコンピュータのハードウェアおよびソフトウェアを利用して構成されており、入出力インターフェースI/O、A/Dコンバータ、プログラムおよびデータを記憶したROM(Read Only Memory)、入力データ等を一時記憶するRAM(Random Access Memory)、プログラムを実行するCPU(CentralProcessing Unit)等をハードウェアとして備えている。
このコントローラ6には、X軸レーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9から計測データがパルス信号として入力されるパルスカウンタ6Aと、このパルスカウンタ6Aからその計数信号がそれぞれ入力されるPID制御部6Bおよび転流制御部6Cと、転流制御部6Cから励磁電流の指令信号が入力されるD/A変換部6Dとが設けられている。
PID制御部6Bは、X軸レーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9の計測データに基づくステージ3のX軸方向およびY軸方向の位置が所望の目標位置に円滑に収束するように、比例(Proportinal)制御、積分(Integral)制御、微分(Differential)制御の組み合わせによって一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2の駆動をフィードバック制御する。
また、転流制御部6Cは、ステージ3を現在位置から所望位置まで駆動するように、図2に示したフォーサ5X1(5X2,5Y1,5Y2)のA相コイル5EおよびB相コイル5Gに流す励磁電流を順次切り替えてフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2をプラテン4のX軸方向およびY軸方向に駆動するための指令信号をD/A変換部6Dに出力する。
D/A変換部6Dは、転流制御部6Cのデジタル信号をアナログ信号としてDCアンプ7に出力し、このDCアンプ7を介してフォーサ5X1(5X2,5Y1,5Y2)のA相コイル5EおよびB相コイル5Gに流す励磁電流を順次切り替えることで、一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2をプラテン4のX軸方向およびY軸方向に駆動する。
ここで、本実施形態におけるリニアパルスモータの制御方法、すなわちプラテン4の軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向に一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2を駆動することでステージ3をXY平面上の所望位置に駆動するリニアパルスモータの制御方法は、例えば図3に伝達関数のブロック線図で示すような制御系によって実行される。
図3に示す制御系は、一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2のうち、ステージ3をX軸方向に駆動する一対のフォーサ5X1,5X2に対応した制御系でる。この制御系は、例えば図1に示したPID制御部6Bで構成されるK(s)をフィードバックパスに備えており、フィードフォワードパスにはステージ3の速度フィードフォワード出力値を示すkvFsと、加速度フィードフォワード出力値を示すkaFs2とが設けられている。なお、ステージ3をY軸方向に駆動する一対のフォーサ5X1,5X2対応した制御系も図3に示す制御系と同様に構成されているため、その説明は省略する。
図3に示す制御系では、予め図4に示すように軌道生成された目標位置、目標速度、目標加速度でステージ3を駆動するように、以下の数式1を制御則として一対のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2の駆動を制御する。
ここで、数式1において、θsは例えばステージ3をX軸方向に駆動する一対のフォーサ5X1,5X2の現在の励磁位相、xsはステージ3の現在位置、θcはフォーサ5X1,5X2の動作開始後から時々刻々変化する励磁位相、xcomはその瞬時目標位置、τはプラテン4の軌道面に格子状に配列された磁性体のピッチ間隔、2πはその繰り返しの一周期をそれぞれ示している。
この数式(1)の制御則により、一対のフォーサ5X1,5X2は、A相コイル5EおよびB相コイル5Gに順次切り替えて流される励磁電流の位相θcが転流制御部6Cからの指令信号に応じて2π(xcom−xs)/τだけ進められることにより、x=xcom−xsの距離xだけX軸方向に向けて駆動される。
ここで、数式2において、xrefは軌道生成されたステージ3の瞬時目標位置、kvFは速度ゲイン、kaFは加速度ゲイン、sは微分を示すラプラス変換子を示している。
速度ゲインkvFは、例えば図4に示す等速区間において駆動されるステージ3の現時位置xをX軸レーザ干渉計8により計測しつつその現時位置xと瞬時目標位置xrefとの偏差が小さくなるように予め調整する。また、加速度ゲインkaFは、図4に示す加速区間または減速区間において駆動されるステージ3の現時位置xをX軸レーザ干渉計8により計測しつつその現在位置xと瞬時目標位置xrefとの偏差が小さくなるように予め調整する。
速度ゲインkvFおよび加速度ゲインkaFの調整は、フィードバックパスのK(s)をK(s)=0の無効状態として行い、K(s)は、速度ゲインkvFおよび加速度ゲインkaFの調整完了後に行う。
前述した数式2の制御則により、一対のフォーサ5X1,5X2は、ステージ3の軌道生成された瞬時目標位置xrefと、瞬時目標位置xrefの1階微分値に所定の速度ゲインkvFを乗じた速度フィードフォワード出力値kvFsと、瞬時目標位置xrefの2階微分値に所定の加速度ゲインkaFを乗じた。同時に、ステージ3の瞬時目標位置xrefと現在位置xとの偏差がPID制御部6Bによって迅速にゼロに収束するよにフィードバック制御される。
そして、一対のフォーサ5X1,5X2は、瞬時目標位置xrefと速度フィードフォワード出力値kvFsと加速度フィードフォワード出力値kaFs2との合算値によりフィードフォワード制御される結果、軌道生成されたステージ3の瞬時目標位置xrefに対して遅れを発生することなく高速度で駆動される。
ここで、図5に示すブロック線図は、図3に示した伝達関数の一部を詳述するブロック線図であり、Dは減衰係数を表している。また、CIはフォーサ5X1,5X2の推力F=C・I・sin(θ)を線形化したものである。
数式3に示した分母多項式Ms2+Ds+2πCI/τは、フォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2を介してステージ3を加減速駆動する際の振動の原因となるものである。ここで、フォーサ5X1,5X2を以下の数式4に示す制御則によってフィードフォワード制御したとき、軌道生成されたステージ3の瞬時目標位置xrefと現時位置xとの偏差は以下の数式5で表される。
数式5において、ステージ3が一定速度v0で移動中の定常偏差は、最終値の定理により、以下の数式6のようになる。従って、前述したように、図4に示す等速区間で現時位置xと瞬時目標位置xrefとの偏差が小さくするように速度ゲインkvFを調整した場合、速度ゲインkvFは以下の数式7のように調整される。
このような調整が完了した状態ではステージ3が一定加速度a0で加減速中に発生する偏差は、以下の数式8のようになる。そして、このような条件で偏差を小さくするように加速度ゲインkaFを調整した場合、加速度ゲインkaFは以下の数式9のように調整される。
その結果、数式4の制御則xcom=(kaFs2+kvFs+1)xrefは、以下の数式10に示すように調整されることとなる。この数式10の制御則は、ステージ3の振動の原因となる数式3の分母多項式Ms2+Ds+2πCI/τを分子に有するため、その分母多項式Ms2+Ds+2πCI/τを相殺してステージ3を加減速駆動する際の振動を防止することができる。
以上説明したように、本実施形態のリニアパルスモータの制御方法では、プラテン4のXY平面上の所望位置に一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2を介してステージ3を駆動する際、軌道生成されたステージ3の瞬時目標位置xrefと速度フィードフォワード出力値kvFsと加速度フィードフォワード出力値kaFs2との合算値により一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2をフィードフォワード制御するため、一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2は、ステージ3の瞬時目標位置xrefに対して遅れを生じることなく高速駆動されてステージ3を所望位置まで高速度で駆動する。そして、ステージ3の振動を防止しつつステージ3を所望位置に速やかに整定して位置決めする。
すなわち、本実施形態のリニアパルスモータの制御方法によれば、プラテン4のXY平面上の所望位置までステージ3を高速度で駆動することができる。また、ステージ3の振動を防止しつつステージ3を所望位置に速やかに整定して位置決めすることができる。
本発明に係るリニアパルスモータの制御方法は、前述した一実施形態に限定されるものではない。例えば、図3に示した制御系は、フィードバックパスを備えない構成とすることができる。この場合、数式2で示した制御則は、数式4で示した制御則に変更される。
1 XYステージ装置
2 リニアパルスモータ
3 ステージ
4 プラテン
5 フォーサ
6 コントローラ
7 DCアンプ
8 X軸レーザ干渉計
9 Y軸レーザ干渉計
10 X軸ミラー
11 Y軸ミラー
2 リニアパルスモータ
3 ステージ
4 プラテン
5 フォーサ
6 コントローラ
7 DCアンプ
8 X軸レーザ干渉計
9 Y軸レーザ干渉計
10 X軸ミラー
11 Y軸ミラー
Claims (2)
- プラテンの軌道面に沿って少なくともX軸方向およびY軸方向に駆動される一群のフォーサを介してXY平面上の所望位置にステージを駆動可能なリニアパルスモータの制御方法であって、
軌道生成された前記ステージの瞬時目標位置と、瞬時目標位置の1階微分値に所定の速度ゲインを乗じた速度フィードフォワード出力値と、瞬時目標位置の2階微分値に所定の加速度ゲインを乗じた加速度フィードフォワード出力値とを求め、これらの合算値により前記フォーサをフィードフォワード制御して前記ステージを所望位置まで駆動することを特徴とするリニアパルスモータの制御方法。 - 前記速度ゲインは、前記ステージの等速区間における瞬時目標位置と現在位置との偏差が小さくなるように予め調整し、前記加速度ゲインは、前記ステージの加減速区間における瞬時目標位置と現在位置との偏差が小さくなるように予め調整することを特徴とする請求項1に記載のリニアパルスモータの制御方法。
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