JP2007115051A - Xyステージ装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができるXYステージ装置を提供する。
【解決手段】 XYステージ装置1の制御系は、PID制御要素13、力・位相シフト変換要素14、位相・電流変換要素15、電流・推力変換要素16およびステージ可動体動力学要素17が閉ループを構成している。加えてXYステージ装置1の制御系は、位置(角度)指令からプラテン補正量を算出するプラテンスケーリング要素18と、プラテン補正量と検出したステージ可動体位置(角度)とから補償量に対応した位相を算出する位置・位相変換要素19を備えている。これにより、プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができる。
【選択図】 図4
【解決手段】 XYステージ装置1の制御系は、PID制御要素13、力・位相シフト変換要素14、位相・電流変換要素15、電流・推力変換要素16およびステージ可動体動力学要素17が閉ループを構成している。加えてXYステージ装置1の制御系は、位置(角度)指令からプラテン補正量を算出するプラテンスケーリング要素18と、プラテン補正量と検出したステージ可動体位置(角度)とから補償量に対応した位相を算出する位置・位相変換要素19を備えている。これにより、プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができる。
【選択図】 図4
Description
本発明は、プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができるXYステージ装置に関するものである。
半導体、液晶の露光装置又は検査装置等に適用するXYステージ装置では、高精度な位置決めを求める要求がある。また、露光および検査のスループットの観点から高い応答性を求める要求もある。このXYステージ装置としては、半導体デバイスを載置するステージを定盤上面に設けられたプラテンの軌道面に沿ってXY平面上の所望位置に駆動するリニアパルスモータ(ソーヤモータ)を備えたものが従来一般に知られている。
このリニアパルスモータは、いわゆる平面型のPM型リニアステッピングモータである。定盤上面には、磁性区域と非磁性区域とが格子状に配列された平板状の固定子であるプラテンが設けられている。またステージ下面には、プラテンの表面の軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向に駆動されるブロック状の可動子である一群のフォーサが設けられている。そして、このリニアパルスモータは、プラテン上にエアベアリングを介して滑動可能に載置され、かつ、一群のフォーサを介して駆動可能に支持されたステージをプラテンの軌道面に沿ってXY平面上の所望位置に駆動するように制御される。特許文献1には、現在位置の情報から所望のトルクを発生するように励磁電流を決定する方式が記載されている。この方式を一般的なモータのトルク制御にならって転流という。また、特許文献2には、長い駆動ストロークで移動するステージの位置を高精度に計測する手段としてレーザ干渉計を用いる構成が記載されている。
特開平8−9674号公報
特開2002−153085号公報
しかしながら、このようなリニアパルスモータにおいて転流を行う場合、フォーサの磁極(フォーサ歯)とプラテンの磁性区域(プラテン歯)との相対関係が正確に定まっていないと所望のトルクが得られず、ステージの位置決め精度や位置指令に対する応答特性が悪化する。そのため、プラテンに歪み、捩れ、伸び等の変形があると、プラテン歯の位置の誤差により、転流に悪影響を及ぼす問題がある。特に、駆動ストロークが長い場合に問題となる。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができるXYステージ装置を提供することにある。
本発明によれば、定盤と、定盤上面を摺動するステージと、ステージを駆動するリニアパルスモータとを備え、リニアパルスモータは、定盤上面に格子状に配置された磁性区域と非磁性区域とからなるプラテンと、ステージ下面に配置されてプラテンと対向し、相互に特定の位相角だけ位相をずらすことが可能な一対の磁極面を含むフォーサとを有し、リニアパルスモータの制御系は、プラテンの形状情報を利用したプラテン形状補償要素を含むXYステージ装置が提供される。
この構成によれば、リニアパルスモータの制御系がプラテンの形状情報を利用したプラテン形状補償要素を含むため、プラテンの形状に歪み等の変形が生じていても、リニアパルスモータの制御系は当該プラテンの変形量を補償して、リニアパルスモータに所望の推力を発生させることができ、プラテンの変形によるステージの動作への悪影響を小さくすることができる。
この場合、プラテン形状補償要素は、プラテン上面の4箇所におけるプラテンの変形量に基づいて算出されたプラテンの形状情報を利用することが好適である。この構成によれば、プラテン形状補償要素は、プラテン上面の4箇所におけるプラテンの変形量に基づいて算出されたプラテンの形状情報を利用するため、測定箇所が4箇所と少なくとも、プラテンの全域においてプラテンの形状情報による補償を行うことができる。
この場合、プラテン形状補償要素は、プラテン上面の複数箇所におけるプラテンの変形量と、複数箇所におけるプラテンの変形量を曲線補間して得られた複数箇所間におけるプラテンの変形量とから算出されたプラテンの形状情報を利用することが好適である。この構成によれば、複数箇所におけるプラテンの変形量を曲線補間して得られた複数箇所間におけるプラテンの変形量をプラテンの形状情報の算出に用いるため、プラテンの変形が線形近似しにくい場合においても、プラテンの全域において正確なプラテンの形状情報による補償を行うことができる。
この場合、プラテン形状補償要素は、プラテン上面に垂直な軸周りの角度θで表現されるプラテンの変形量に基づいて算出されたプラテンの形状情報を利用する、ことが好適である。この構成によれば、プラテン形状補償要素は、プラテン上面に垂直な軸周りの角度θで表現されるプラテンの変形量に基づいて算出されたプラテンの形状情報を利用するため、プラテン上面に垂直な軸周りにおけるプラテンの変形を補償することができる。
本発明のXYステージ装置によれば、プラテンに変形が生じていても、ステージの動作への悪影響を小さくすることができる。
以下、本発明の実施の形態に係るXYステージ装置について添付図面を参照して説明する。なお、同一の構成要素は同一の符号で示し、重複する説明は省略する。
図1は本発明の第1実施形態に係るXYステージ装置の構成を示す斜視図であり、図2は図1に示したリニアパルスモータの構造を示す部分断面図であり、図3は本発明の第1実施形態に係るXYステージ装置の機能ブロックの構成を示す図である。
本実施形態のXYステージ装置1は、半導体や液晶などの半導体デバイスの製造工程(露光工程)や検査工程において位置決め用などに使用される装置である。図1に示すように、XYステージ装置1は、略板状の定盤12と、定盤12の上面をXY方向に摺動自在とされたステージ3とから構成されている。図2および3に示すように、このXYステージ装置1は、いわゆる平面型のPM型リニアステッピングモータの一種であるリニアパルスモータ2により、定盤12のXY平面上の所望位置にステージ3を駆動する。また、XYステージ装置1は、定盤12上でステージ3を平面に、垂直なZ軸周りに任意の角度θだけ回転動させる。
リニアパルスモータ2は、図1〜3に示すように、平板状の固定子であるプラテン4と、ブロック状の可動子である一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2とを備えて構成されている。プラテン4は、表面に多数の磁性体の歯と、その周りを囲む非磁性区域とがX軸方向およびY軸方向に沿って格子状に配列された軌道面を有する。この軌道面は、多数の歯と歯の間に非磁性体のエポキシ樹脂などが充填されることで平滑面として構成されている。
一方、一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2は、プラテン4の軌道面に沿ってX軸方向またはY軸方向に駆動されるものであり、X軸方向に駆動される一対のフォーサ5X1,5X2は、ステージ3のX軸に沿う2辺の下面に固定され、Y軸方向に駆動される一対のフォーサ5Y1,5Y2は、ステージ3のY軸に沿う2辺の下面に固定されている。
フォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2は、いずれも同様に構成されているため、これらを代表してフォーサ5X1について説明する。このフォーサ5X1は、図2に示すように、上面が平坦なフォーサ本体5Aの下面にA相駆動部5BとB相駆動部5Cとが一列に配列されて組み込まれた構造を有する。
A相駆動部5Bは、永久磁石の両極に接触して隣接配置された一対の鉄心5D,5D間にA相コイル5Eが巻装された構造を有する。同様に、B相駆動部5Cは、永久磁石の両極に接触して隣接配置された一対の鉄心5F,5F間にB相コイル5Gが巻装された構造を有する。
A相駆動部5Bの鉄心5D,5Dには、A相コイル5Eの通電による磁界の発生によってプラテン4側の多数の磁性体の歯に合わせて整列する少数の磁性体の歯がX軸方向に配列されている。同様に、B相駆動部5Cの鉄心5F,5Fには、B相コイル5Gの通電による磁界の発生によってプラテン4側の多数の磁性体の歯に合わせて整列する少数の磁性体の歯がX軸方向に配列されている。A相駆動部5BおよびB相駆動部5Cは、相互に特定の位相角だけ位相をずらすことが可能な一対の磁極面をなす。
なお、図1〜3に示したステージ3は、図示しないエア噴出孔からプラテン4の軌道面に向けて噴出されるエアのエアベアリング効果によってプラテン4の軌道面上をX軸方向およびY軸方向に滑動可能に構成されている。
ここで、XYステージ装置1には、フォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2の駆動を制御するためのコントローラ6およびDCアンプ7が制御系として付設されている。また、ステージ3の少なくともX軸方向およびY軸方向の位置並びにZ軸周りの回転角θを検出するためのX軸・θレーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9が付設されている。
X軸・θレーザ干渉計8は、ステージ3のY軸に沿う一辺上にX軸と直交して立設されたX軸ミラー10との間の距離を計測することでステージ3のX軸方向の位置を検出する。またX軸・θレーザ干渉計8は、ステージ3のZ軸周りの回転角θを検出する。一方、Y軸レーザ干渉計9は、ステージ3のX軸に沿う一辺上にY軸と直交して立設されたY軸ミラー11との間の距離を計測することでステージ3のY軸方向の位置を検出する。
コントローラ6は、例えばパーソナルコンピュータのハードウェアおよびソフトウェアを利用して構成されており、入出力インターフェースI/O、A/Dコンバータ、プログラムおよびデータを記憶したROM(Read Only Memory)、入力データ等を一時記憶するRAM(Random Access Memory)、プログラムを実行するCPU(CentralProcessing Unit)等をハードウェアとして備えている。
このコントローラ6には、X軸・θレーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9から計測データがパルス信号として入力されるパルスカウンタ6Aと、位置指令とパルスカウンタ6Aからの計数信号がそれぞれ入力されるPID制御部6Bと、位置指令とパルスカウンタ6Aからの計数信号がそれぞれ入力されて励磁電流の指令信号を出力する転流制御部6Cと、転流制御部6Cから励磁電流の指令信号が入力されるD/A変換部6Dとが設けられている。加えてコントローラ6には、プラテン4の歪み、捩れ、伸び等の形状情報に基づいてプラテン形状補償を行うプラテン形状補償部6Eが設けられている。
PID制御部6Bは、X軸・θレーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9の計測データに基づくステージ3のX軸方向およびY軸方向の位置並びに回転角度θが、位置指令による所望の目標位置に円滑に収束するように、比例(Proportinal)制御、積分(Integral)制御、微分(Differential)制御の組み合わせによって一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2の駆動をフィードバック制御する。
転流制御部6Cは、ステージ3を現在位置から所望位置まで駆動するように、図2に示したフォーサ5X1(5X2,5Y1,5Y2)のA相コイル5EおよびB相コイル5Gに流す励磁電流を順次切り替えてフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2をプラテン4のX軸方向およびY軸方向に駆動するための指令信号をD/A変換部6Dに出力する。
D/A変換部6Dは、転流制御部6Cのデジタル信号をアナログ信号としてDCアンプ7に出力し、このDCアンプ7を介してフォーサ5X1(5X2,5Y1,5Y2)のA相コイル5EおよびB相コイル5Gに流す励磁電流を順次切り替えることで、一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2をプラテン4のX軸方向およびY軸方向に駆動する。
プラテン形状補償部6Eは、位置指令、X軸・θレーザ干渉計8およびY軸レーザ干渉計9の計測データに基づいてプラテンの変形量を補償する。算出した補正量を転流制御部6Cに送出する。
ここで、本実施形態におけるリニアパルスモータの制御方法、すなわちプラテン4の軌道面に沿ってX軸方向およびY軸方向に一群のフォーサ5X1,5X2,5Y1,5Y2を駆動することでステージ3をXY平面上の所望位置に駆動するリニアパルスモータの制御方法は、例えば図4に伝達関数のブロック線図で示すような制御系によって実行される。なお、図4中において、図中の記号は以下の意味で用いられる。
図4に示すように、本実施形態のXYステージ装置1の制御系は、位置(角度)指令を推力(モーメント)指令値に変換するPID制御要素13、推力(モーメント)指令値を励磁位相シフトに変換する力・位相シフト変換要素14、励磁位相シフトをモータ各相に流す電流に変換する位相・電流変換要素15、モータに流す電流から推力を発生させる電流・推力変換要素16(平面リニアパルスモータ特性)、およびモータ推力によって変動するステージ可動体位置(角度)を表わす示すステージ可動体動力学要素17が、閉ループを構成している。加えて本実施形態においてはXYステージ装置1の制御系は、位置(角度)指令からプラテン補正量を算出するプラテンスケーリング要素18と、プラテン補正量と検出したステージ可動体位置(角度)とから補償量に対応した位相を算出する位置・位相変換要素19を備えている。なお、XYステージ装置1の制御系は、プラテン4の変形を測定する際に必要に応じて帰還をかけず、PID制御要素13、力・位相シフト変換要素14、位相・電流変換要素15、電流・推力変換要素16およびステージ可動体動力学要素17を直結した開ループとすることができるようになっている。
以下、本実施形態のリニアパルスモータの制御方法について説明する前に、プラテンの変形がステージの制御性を悪化させる作用について説明する。図4中に、ベクトルfBで表わした励磁位相と電流との関係を以下の数式(1)のように定めると、発生推力(関数fc)は近似的に以下の数式(2)で表わされる。
但し、数式(2)において、
FN:各モータの発生推力
KN:定数
τP:プラテン・モータの歯間隔
xN,yN:プラテンに対する各モータの相対的な位置
LN:各軸を構成する2モータ間距離
である。
FN:各モータの発生推力
KN:定数
τP:プラテン・モータの歯間隔
xN,yN:プラテンに対する各モータの相対的な位置
LN:各軸を構成する2モータ間距離
である。
ここで、励磁−空間位相差(φXN−2πxN/τP)が0であると仮定すると、励磁位相シフトΔφNと発生推力Fとの関係は、図5に示すようになる。一方、励磁−空間位相差が0でないときは、励磁位相シフトΔφNと発生推力Fとの関係は、図6に示すようになる。
図5および図6に示すように、発生推力と位相シフトとの関係は、モータのプラテンに対する相対位置に依存している。従来の制御方式では、ステージの位置に基づいてモータの位置を推定しているため、プラテンの変形に起因するプラテンの歯の位置の誤差によって図6に示すような状態となり、所望の推力を発生させることができず、制御性が悪化する。また、数式(2)は周期関数であるため、入出力(ΔφとF)が一対一の関係にある範囲(図5および図6における−π/2<Δφ<π/2)の外で駆動すると制御不能になる。さらに、従来の制御方法では、プラテンの歯の位置の誤差によって図6のような状態になり、入出力(ΔφとF)が一対一の関係にある範囲内で使用しても制御不能になる可能性がある。
図7にプラテンの伸びに起因する誤差の例を示す。数式(2)で一定値と仮定している歯間隔τPが伸びのあるプラテン20ではプラテン20の伸縮により仮定値と異なるか、あるいは局所的に不均一である場合に図7に示すような誤差21が生じる。また、図8および9にプラテンの歪みに起因する誤差の例を示す。図8に示すような歪みのないプラテン4では誤差が生じないのに対し、図9に示すような歪みのあるプラテン22では歪みに起因した誤差23が生じる。
本実施形態においては、上記のような誤差を同時に補正するための方法として、プラテン座標系−計測座標系間の座標変換を行う。これはプラテンの伸びや歪みをあらかじめ測定して座標変換に必要なパラメータを算出しておき、補正量を指令位置に加算することで励磁位相を補正するというものである(以下、スケーリングと呼ぶ)。図10は、本実施形態におけるスケーリングの方法を示す図である。まず、図4に示す閉ループ系において帰還をかけない開ループ系としたオープンループ駆動でストローク端部の4点に移動する。図10中、指令位置24で示される4点(C00,C01,C10,C11)が位置指令に基づく指令位置であり、オープンループ移動位置25で示される4点(A00,A01,A10,A11)が実際に移動した位置である。この指令位置24とオープンループ移動位置25との差を各点でのプラテン4の変形量として記録する。この値を下記の数式(3)に代入し、補正量を算出する式fDを導出する。
本実施形態においては、上記の手法によりプラテン4の変形量を補償するため、長いストロークで動作するリニアパルスモータ2の転流において、プラテン4に歪み、捩れ、伸び等の変形が生じていても転流への悪影響を小さくすることができる。これによりリニアパルスモータ2に所望の推力を発生させることができ、結果としてステージ4の位置決め精度の向上や、応答特性の改善がなされる。
本実施形態のようにステージ4の位置の計測にレーザ干渉計8,9を使用した場合、ミラー10、11の取り付けがリニアパルスモータ2に対して傾いている場合にもプラテンに歪みがある場合と同様の誤差を生じる。しかし、本実施形態における制御方式を採用することにより、結果として、プラテン4の歪みとミラー10、11の傾きの両方を含んだ誤差を補正することができる。
以下、本発明の第2実施形態について説明する。図11は、本発明の第2実施形態におけるスケーリングの方法を示す図である。本実施形態では図11に示すように、M行N列のM×N点の測定点26において上記第1実施形態と同様にステージ3をオープンループ駆動で移動させてプラテン4の変形量を測定する(以下、マッピングという)。その後、本実施形態では、各測定点間の変形量を曲線補間することにより、プラテン4全域の変形量を算出する関数を導出する。この関数はプラテン4の変形を全域で近似しているため、この変形量を補償するように関数fDを決定する。なお、測定点26における測定は、上記第1実施形態における方法以外の方法で行っても良い。
本実施形態においては、プラテン4の変形量についてマッピングを行う手法を採用することにより、プラテン4の歪みが線形的でない場合においても、プラテン4の全域において正確なプラテン4の形状情報による補償を行うことができる。
以下、本発明の第3実施形態について説明する。図12は、本発明の第3実施形態におけるスケーリングの方法を示す図である。本実施形態においては、上述したX軸およびY軸方向におけるプラテン4の歪みに加えて、プラテン4の上面に垂直なZ軸周りの回転角度θについても補償を行う点が、上記第1実施形態と異なっている。本実施形態においては図12に示すように、M行N列のM×N点の測定点26にステージ3をオープンループ駆動によって図中矢印で示すように移動させ、その位置で停止した際の誤差による角度θを、レーザ干渉計8,9等で計測する。そして、角度θのずれを補償する関数fDを上記第1実施形態あるいは第2実施形態で示した方法により導出する。
本実施形態においては、プラテン4のX軸およびY軸方向の変形量を補償できることに加えて、プラテン上面に垂直な軸周りにおけるプラテン4の変形をも補償することができる。
尚、本発明のXYステージ装置は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
1…XYステージ装置、2…リニアパルスモータ、3…ステージ、4…プラテン、5…フォーサ、6…コントローラ、7…DCアンプ、8…X軸・θレーザ干渉計、9…Y軸レーザ干渉計、10…Xミラー、11…Yミラー、12…定盤、13…PID制御要素、14…力・位相シフト変換要素、15…位相・電流変換要素、16…電流・推力変換要素、17…ステージ可動体動力学要素、18…プラテンスケーリング要素、19…位置・位相変換要素、20…伸びのあるプラテン、21…誤差、22…歪みのあるプラテン、23…誤差、24…指令位置、25…オープンループ移動位置、26…測定点。
Claims (4)
- 定盤と、
前記定盤上面を摺動するステージと、
前記ステージを駆動するリニアパルスモータと、
を備え、
前記リニアパルスモータは、
前記定盤上面に格子状に配置された磁性区域と非磁性区域とからなるプラテンと、
前記ステージ下面に配置されて前記プラテンと対向し、相互に特定の位相角だけ位相をずらすことが可能な一対の磁極面を含むフォーサと、
を有し、
前記リニアパルスモータの制御系は、
前記プラテンの形状情報を利用したプラテン形状補償要素を含む、
XYステージ装置。 - 前記プラテン形状補償要素は、
前記プラテン上面の4箇所におけるプラテンの変形量に基づいて算出された前記プラテンの形状情報を利用する、
請求項1に記載のXYステージ装置。 - 前記プラテン形状補償要素は、
前記プラテン上面の複数箇所におけるプラテンの変形量と、前記複数箇所におけるプラテンの変形量を曲線補間して得られた前記複数箇所間におけるプラテンの変形量とから算出された前記プラテンの形状情報を利用する、
請求項1または2に記載のXYステージ装置。 - 前記プラテン形状補償要素は、
前記プラテン上面に垂直な軸周りの角度θで表現されるプラテンの変形量に基づいて算出された前記プラテンの形状情報を利用する、
請求項1〜3のいずれか1項に記載のXYステージ装置。
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