JP2007063093A - 光ファイバの製造方法および製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 長手方向における光学特性のばらつきを小さくすることができ、全長に渡って目標とする光学特性を有する光ファイバを高い精度で製造する。
【解決手段】 設定された製造パラメータに基づき光ファイバ母材を線引きする光ファイバの製造方法であって、前記線引き中の光ファイバの光学特性を測定する工程αと、前記工程αにより得られた測定結果に基づき、前記製造パラメータの設定を制御する工程βとを少なくとも備える光ファイバの製造方法とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光ファイバの製造方法および光ファイバの製造装置に関し、特に、線引き中の光ファイバの光学特性が所望の値となるように製造パラメータの設定を変更しつつ線引きする光ファイバの製造方法および製造装置に関するものである。

光ファイバ伝送路（以下、伝送路と呼ぶ）に信号光を伝搬させて光通信を行う光伝送システムでは、伝送路を伝搬する際の信号光の波形劣化を抑制するために、信号光波長（例えば、１．５５μｍ）において伝送路の累積波長分散の絶対値が小さいことが望まれている。

ところが、一般に伝送路として用いられている標準的なシングルモード光ファイバ（以下、ＳＭＦと呼ぶ）は、波長１３００ｎｍ付近に零分散波長を有しており、波長１５５０ｎｍにおいての波長分散は、１７ｐｓ/ｎｍ/ｋｍ程度と大きい。このため、ＳＭＦのみを用いた信号光波長１５５０ｎｍの伝送路では、信号光の波形劣化により高ビットレートの光通信を行うことが難しい。

そこで、波長１５５０ｎｍにおいて波長分散が負である分散補償光ファイバ（以下、ＤＣＦと呼ぶ）を用いてＳＭＦの波長分散を補償することで、平均波長分散の絶対値を低減することが行われている。
ＳＭＦおよびＤＣＦの全体の平均波長分散の絶対値を低減するには、ＳＭＦとＤＣＦとの長さやＳＭＦの波長分散特性に応じて、ＤＣＦの波長分散および分散スロープが適切に設計され、かつ設計どおりに製造される必要がある。

図９は、従来の光ファイバの製造方法に用いられる光ファイバの製造装置の一例の構成を説明するための図である。図９において、符号１０１は光ファイバ母材、符号１０２は紡糸炉、符号１０３は外径測定器、符号１０４、１０７は冷却装置、符号１０５、１０８は樹脂液塗布装置、符号１０６、１０９は硬化装置、符号１１０は光ファイバ素線、符号１１１はターンプーリー、符号１１２は引き取り装置、符号１１５は母材送り装置、符号１１７はファイバ裸線、符号１１８は１次被覆光ファイバ、符号１２１は被覆手段を示している。

図９に示す光ファイバの製造装置を用いて光ファイバを製造するには、まず、所望のファイバ裸線を得ることが可能な光ファイバ母材１０１を、母材送り装置１１５により紡糸炉１０２内に供給し、紡糸炉１０２により光ファイバ母材１０１の下端を溶融紡糸し、引き取り装置１１２により所定の線引き速度で、光ファイバ裸線１１７を形成する。次に、光ファイバ裸線１１７を被覆手段１２１により被覆材で被覆して光ファイバ素線１１０を形成し、ターンプーリー１１１によって別方向に向きが変えられ、引き取り機１１２を通過させて、光ファイバ素線受け容器１１３に納められる。

ＤＣＦは、コア領域とコア領域の外周に順に設けられた複数のクラッド領域とを有し、その各領域における比屈折率差およびそれらの外径が最適化されることで、所望の波長分散特性等の光学特性を実現している。しかし、例えば、図９に示す従来の光ファイバの製造装置を用いて上述した方法で光ファイバを製造した場合、光ファイバ母材１０１の加工精度や光ファイバ母材１０１の屈折率分布の測定精度が十分でないため、目標とする光学特性を有するＤＣＦを高い精度で製造することは困難であった。

このような問題を解決するために、線引き開始の際に得られた一定長の光ファイバの波長分散および分散スロープを測定して、この測定結果に基づいて修正された目標線引き張力を求め、この目標線引き張力で線引きして得られた一定長の光ファイバの波長分散を測定して、この測定結果に基づいて修正された目標コア径を求め、光ファイバ母材の残部を目標線引き張力で線引きして光ファイバのコア径が目標コア径となるように線引きする方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００１-２２０１６７号公報

しかしながら、光ファイバ母材の製造において、コア領域および各クラッド領域の比屈折率差や外径を光ファイバ母材の長手方向で完全に均一に製造することは非常に困難である。また、光ファイバ母材を線引きして得られた光ファイバは、コアおよびクラッドガラスの熱膨張係数の違いが起因となって生じる熱応力や、線引き時に光ファイバに働く張力が起因となって生じる機械的応力が光ファイバ中に残留することにより、光ファイバ母材の屈折率分布と光ファイバの屈折率分布が異なってしまう。このため、光ファイバ母材の線引き開始の際に得られた光ファイバの光学特性と同等の光学特性を有する光ファイバは、線引き開始時しか得られない。

したがって、特許文献１に記載の技術では、長手方向における光学特性のばらつきが大きいという問題があり、全長に渡って目標とする光学特性を有する光ファイバを高い精度で製造することは困難であった。上記の問題は、ＤＣＦ、ＳＭＦ、ゼロ分散波長を限りなく励起光波長に近づける必要がある四光波混合用高非線形性ファイバ、波長分散特性がフラットでなおかつ伝搬方向に沿って分散が減少する分散フラット／減少ファイバを製造する際にも生じる。

また、この問題は、特に、コア径の変化に応じて波長分散特性が敏感に変化するＤＣＦを製造する際に顕著であり、条長を調整する工程における誤差が大きいものとなってしまう。このため、条長を調整する工程において、必要な条長に余長を加えた長さでＤＣＦを切り割りして波長分散を測定し、得られた波長分散の測定結果からカットする余長の長さを決めて、余長をカットするという余長処理を行なわなければならず、余長処理に伴う手間や時間がかかっていた。

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、光ファイバの長手方向における光学特性のばらつきを抑制し、全長に渡って目標とする光学特性を有する光ファイバを高い精度で製造することができる光ファイバの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。

本発明の請求項１に係る光ファイバの製造方法は、設定された製造パラメータに基づき光ファイバ母材を線引きする光ファイバの製造方法であって、前記線引き中の光ファイバの光学特性を測定する工程αと、前記工程αにより得られた測定結果に基づき、前記製造パラメータの設定を制御する工程βとを少なくとも備えることを特徴とする。
本発明の請求項２に係る光ファイバの製造方法は、請求項１において、前記光学特性は、波長分散であることを特徴とする。

本発明の請求項３に係る光ファイバの製造方法は、請求項１または請求項２において、前記工程αは、前記光ファイバに曲げ損失を付与する工程を通過した後の光ファイバを用い、曲げ損失を付与している位置Ｓと線引きした光ファイバの先端位置Ｔとの間に延在する被測定光ファイバの光学特性を測定することを特徴とする。

本発明の請求項４に係る光ファイバの製造方法は、請求項３において、前記曲げ損失を付与している位置Ｓの光ファイバは、光ファイバ母材を溶融紡糸してなる光ファイバ裸線を被覆材で被覆した光ファイバ素線であることを特徴とする。

本発明の請求項５に係る光ファイバの製造方法は、請求項１〜請求項４のいずれかにおいて、前記工程βは、前記工程αにより得られた測定値と、光ファイバの光学特性の目標値とを比較した比較結果に基づき、前記製造パラメータを制御することを特徴とする。

本発明の請求項６に係る光ファイバの製造方法は、請求項１〜請求項５のいずれかにおいて、前記製造パラメータは、光ファイバ裸線の目標とする外径および／または前記光ファイバの目標とする線引き張力であることを特徴とする。
本発明の請求項７に係る光ファイバの製造方法は、請求項１〜請求項６のいずれかにおいて、前記製造パラメータを制御するために、前記光ファイバ母材を溶融紡糸する前記光ファイバ製造装置の紡糸炉内に前記光ファイバ母材を供給する供給速度、紡糸温度、線引き速度から選択される１以上の製造条件を調整することを特徴とする。

本発明の請求項８に係る光ファイバの製造装置は、設定された製造パラメータに基づき光ファイバ母材を線引きする光ファイバ製造装置であって、前記線引き中の光ファイバの光学特性を測定する手段Ａと、前記手段Ａにより得られた測定結果に基づき、前記製造パラメータの設定を制御する手段Ｂとを少なくとも備えることを特徴とする。
本発明の請求項９に係る光ファイバの製造装置は、請求項８において、前記光学特性が、波長分散であることを特徴とする。

本発明の請求項１０に係る光ファイバの製造装置は、請求項８または請求項９において、さらに、前記光ファイバを通過させることにより前記光ファイバに曲げ損失を付与する手段Ｃを備え、前記手段Ａは、線引きされた光ファイバの先端に配置され、前記手段Ｃの位置Ｓにある光ファイバと線引きした前記光ファイバの先端位置Ｔとの間に延在する被測定光ファイバの光学特性を測定することを特徴とする。

本発明の請求項１１に係る光ファイバの製造装置は、請求項１０において、前記光ファイバ母材を溶融紡糸して形成された光ファイバ裸線を被覆材で被う手段Ｄを備え、前記手段Ｃは、前記手段Ｄより後段に配置されていることを特徴とする。
本発明の請求項１２に係る光ファイバの製造装置は、請求項１０または請求項１１において、前記手段Ｃは、前記光ファイバの線引き速度を制御する手段Ｅより後段に配置されていることを特徴とする。

本発明の請求項１３に係る光ファイバの製造装置は、請求項８〜請求項１２のいずれかにおいて、前記手段Ｂは、前記手段Ａにより得られた測定値と、光ファイバの光学特性の目標値とを比較した比較結果に基づき、前記製造パラメータを制御するものであることを特徴とする。

本発明の請求項１４に係る光ファイバの製造装置は、請求項８〜請求項１３のいずれかにおいて、前記製造パラメータは、光ファイバ裸線の目標とする外径および／または前記光ファイバの目標とする線引き張力であることを特徴とする。
本発明の請求項１５に係る光ファイバの製造装置は、請求項８〜請求項１４のいずれかにおいて、前記光ファイバ母材を溶融紡糸する前記光ファイバ製造装置の紡糸炉内に前記光ファイバ母材を供給する供給速度、紡糸温度、線引き速度から選択される１以上の製造条件を調整することによって、前記製造パラメータを制御する手段Ｆを備えることを特徴とする。

本発明の請求項１６に係る光ファイバの製造装置は、請求項８〜請求項１５のいずれかにおいて、固定された巻取り軸に、線引きされた光ファイバを巻き取る手段Ｇを備えることを特徴とする。
本発明の請求項１７に係る光ファイバの製造装置は、請求項８〜請求項１５のいずれかにおいて、前記手段Ａの光送受信部は、回転することにより光ファイバを巻き取るボビンと一体化されていることを特徴とする。

本発明によれば、長手方向における光学特性のばらつきを小さくすることができ、全長に渡って目標とする光学特性を有する光ファイバを高い精度で製造することができる光ファイバの製造方法を提供できる。
また、本発明によれば、本発明の光ファイバの製造方法を実現できる光ファイバの製造装置を提供できる。

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
「第１実施形態」
図１は、本発明の第１実施形態の光ファイバの製造方法に用いられる本発明の光ファイバの製造装置の一例の構成を説明するための図である。図１において、符号１は光ファイバ母材、符号２は紡糸炉、符号３は外径測定器、符号４、７は冷却装置、符号５、８は樹脂液塗布装置、符号６、９は硬化装置、符号１０は光ファイバ素線、符号１１はターンプーリー、符号１２は引き取り装置（手段Ｅ）、符号１４は光学特性測定装置（手段Ａ）、符号１５は母材送り装置、符号１６は製造条件制御部（手段Ｂ、手段Ｆ）、符号１７はファイバ裸線、符号１８は１次被覆光ファイバ、符号２０は曲げ付与装置（手段Ｃ）、符号２１は被覆手段（手段Ｄ）、符号３８は光ファイバ巻取り手段を示している。

図１に示す光ファイバの製造装置を構成するターンプーリー１１は、光ファイバ素線１０の向きを別方向に変えるものであり、張力計としての機能を備えたものである。
また、引き取り装置１２は、通過している光ファイバ素線１０の長さを線引きされた光ファイバの紡糸距離として測定する長さ測定手段としての機能を備えたものである。

図１に示す曲げ付与装置２０は、通過している光ファイバに曲げ損失を付与するものである。曲げ付与装置２０は、図１に示すように、引き取り装置１２と光学特性測定装置１４との間に配置されることにより、光ファイバ裸線１７を被覆材で被覆する被覆手段２１および引き取り装置１２よりも後段に配置されている。

図２は、図１に示す曲げ付与装置２０および光ファイバ巻取り手段３８の構成を説明するための図である。
曲げ付与装置２０は、図２に示すように、前段側から順に、ターンプーリー３１、ダンサー３２が備えられたものである。ダンサー３２は、ダンサーとしての機能と光ファイバに曲げ損失を付与する機能を備えたものである。より詳細には、ダンサー３２は、２つのプーリー３２ａ、３２ｂを備え、２つのプーリー３２ａ、３２ｂ間の距離を調節することにより、光ファイバにかかる張力を調整するものである。また、プーリー３２ａは、光ファイバに曲げ損失を付与するものであり、プーリー３２ｂは、ターンプーリー３１を通過した光ファイバを受け取ると共に、プーリー３２ａを通過した光ファイバを光ファイバ巻取り手段３８に送り出すものである。光ファイバは、プーリー３２ａを通過する前後で進行方向を１８０度変えられてプーリー３２ａの直径によって決定される曲率に沿って曲げられることで、曲げ損失が付与される。

また、本実施形態の曲げ付与装置２０では、プーリー３２ａの直径を適宜決定することにより、光ファイバに適切な曲げ付与角度で曲げ損失が付与されるようになっている。曲げ付与装置２０によって付与される必要な曲げ付与角度は、光ファイバの種類によって異なる。例えば、光ファイバがＳＭＦ、ノンゼロ分散シフトファイバ（Non-Zero Dispersion-Shifted Fiber：ＮＺ−ＤＳＦ）、分散スロープ補償分散補償ファイバ（Slope Compensation-Dispersion Compensation Fiber：ＳＣ−ＤＣＦ）である場合には、プーリー３２ａの直径を１０ｍｍ以下とすることで、光ファイバに十分な曲げ損失を付与できる。また、光ファイバが高非線形性ファイバである場合には、プーリー３２ａの直径を５ｍｍ以下とすることで、光ファイバに十分な曲げ損失を付与できる。
なお、プーリー３２ｂの直径は、プーリー３２ａと同じとすることができるが、同じでなくてもよい。

また、光ファイバ巻取り手段３８は、図２に示すように、前段側から順に、プーリー３３、位置固定コロ３４、３５、ガイドコロ５６、光ファイバ素線受け容器１３が備えられたものである。位置固定コロ３４、３５は、図２に示すように、互いの向きが直交するように配置されたものであり、ガイドコロ５６の所定の位置に光ファイバを供給するものである。ガイドコロ５６は、位置固定コロ３４、３５を通過した光ファイバを光ファイバ素線受け容器１３に供給するものである。

図１において、光学特性測定装置１４は、線引きした光ファイバの先端２２に配置されている。光学特性測定装置１４は、図２に示す曲げ付与装置２０のダンサー３２を通過していることにより曲げ損失が付与されている曲げ付与装置位置の光ファイバ２３と、光ファイバの先端２２との間に延在する被測定光ファイバ２４の光学特性として波長分散を測定するものである。また、光学特性測定装置１４は、光ファイバの先端２２から測定用の光を入射して、被測定光ファイバ２４の曲げ付与装置位置での後方散乱光を検出することによって光学特性を測定するものである。後方散乱光の強度は、光ファイバの長さおよびモードフィールド径（ＭＦＤ）に依存するので、後方散乱光の強度と、曲げ付与装置位置の光ファイバ２３の位置とを測定することにより、モードフィールド径（ＭＦＤ）を測定することが可能である。また、モードフィールド径と波長分散との間には相関関係があるので、後方散乱光の強度と、曲げ付与装置位置の光ファイバ２３の位置とを測定することにより、波長分散を測定することが可能である。

測定用の光としては、例えば、２波長の光を合波した光パルスとすることができる。２波長の光を合波した光パルスを光ファイバの先端２２から入射した場合、２波長で出現した４波混合光(ＦＷＭ)の曲げ付与装置位置の光ファイバ２３による後方散乱光の検出時間と光強度とを測定することにより被測定光ファイバ２４の波長分散を測定できる（以下、「４波混合光法」という）。

また、測定用の光としては、波長の異なる複数の光とすることができる。波長の異なる複数の光を光ファイバの先端２２から入射した場合、曲げ付与装置位置の光ファイバ２３による後方散乱光の検出時間を波長ごとに測定することにより被測定光ファイバ２４の波長分散を測定できる（以下、「多波長法」という）。多波長法は、例えば、光ファイバの零分散波長と通信信号波長の波長距離が４波混合光を励起する場合などに好ましく用いられる。

光学特性測定装置１４としては、例えば、数波長の光源を有し、１３００ｎｍ〜１６００ｎｍ帯の波長範囲で光ファイバの分散を測定することができ、繰り返し再現性が±０．０５ｐｓ/（ｎｍ/ｋｍ）であるものを使用することができる。具体的には、光パルス試験器MW9076D1「アンリツ株式会社製」などを好適に使用できる。

図１に示す光ファイバの製造装置は、製造条件制御部１６に制御させて製造条件を調整することによって、設定された製造パラメータで光ファイバ母材を線引きするものである。製造条件制御部１６は、光学特性測定装置１４における測定結果に基づいて、製造パラメータの設定を更新する更新手段としても機能する。
製造条件制御部１６としては、ＰＣ（パーソナルコンピュータ）を用いることができる。製造条件制御部１６としての機能は、製造条件制御部１６としての機能を実現するためのプログラムを、ＰＣに備わるメモリにロードしてＣＰＵ（中央処理装置）が実行することによりその機能が実現されるものとする。

図１に示すように、製造条件制御部１６には、紡糸炉２、外径測定器３、ターンプーリー１１、引き取り装置１２、光学特性測定装置１４、母材送り装置１５が電気的に接続されている。また、製造条件制御部１６には、外径測定器３によって測定される光ファイバ裸線１７の外径と、ターンプーリー１１によって測定される光ファイバの線引き張力と、引き取り装置１２によって測定される光ファイバの紡糸距離と、光学特性測定装置１４によって測定される波長分散の測定結果が、単位時間や単位紡糸距離などに基づいて決定されるあらかじめ設定された測定間隔で入力されるようになっている。

また、製造条件制御部１６によって、母材送り装置１５を制御することにより紡糸炉２内に光ファイバ母材１を供給する供給速度が調整され、紡糸炉２を制御することにより紡糸温度が調整され、引き取り装置１２を制御することにより線引き速度が調整されることによって、設定された製造パラメータで光ファイバ母材が線引きされるようになっている。

製造パラメータは、光ファイバ母材を線引きする前にあらかじめ設定され、上述したように、光学特性測定装置１４における測定結果と、目標とする光ファイバの光学特性とを比較した比較結果に基づいて製造条件制御部１６によって更新される。製造パラメータとしては、外径測定器３によって測定される光ファイバ母材１を溶融紡糸して形成された光ファイバ裸線１７の目標とする外径およびターンプーリー１１によって測定される光ファイバの目標とする線引き張力とすることができる。なお、製造パラメータの更新間隔は、単位時間や単位紡糸距離などに基づいて決定されるあらかじめ設定された間隔とすることができる。

また、製造条件としては、光ファイバ母材１を溶融紡糸する紡糸炉２内に光ファイバ母材１を供給する供給速度、紡糸温度、線引き速度から選択される１以上の製造条件とすることができる。

図１に示す光ファイバの製造装置を用いて光ファイバを製造するには、まず、所望のファイバ裸線を得ることが可能な光ファイバ母材１を用意する。次いで、用意した光ファイバ母材１の屈折率分布をプリフォームアナライザにより測定することにより、光ファイバ母材１が使用可能なものであることを確認する。

一方、製造パラメータ、製造パラメータに対応する製造条件、製造パラメータの更新間隔、光ファイバ裸線１７の外径の測定間隔、線引き張力の測定間隔、波長分散の測定間隔があらかじめ設定され、製造条件制御部１６に記憶されている。

その後、図１に示すように、光ファイバ母材１を母材送り装置１５に収容して、製造パラメータに対応する供給速度で母材送り装置１５により紡糸炉２内に光ファイバ母材１を供給し、アルゴンやヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で、製造パラメータに対応する紡糸温度で紡糸炉２により光ファイバ母材１の下端を溶融紡糸し、引き取り装置１２により製造パラメータに対応する線引き速度で、光ファイバ裸線１７を形成する（紡糸工程）。得られたファイバ裸線１７の外径は、あらかじめ設定された測定間隔で外径測定器３によって測定され、得られた測定結果は製造条件制御部１６に入力される。

次に、被覆手段２１により光ファイバ裸線１７を被覆材で被覆して光ファイバ素線１０を形成する（被覆工程）。
被覆工程では、まず、図１に示すように、外径が測定された光ファイバ裸線１７を被覆層の形成に好適な温度まで冷却装置４で冷却し、樹脂液塗布装置５により光ファイバ裸線１７の外周面に一次被覆層となる被覆材を塗布する。続いて、硬化装置６により被覆材が硬化されることにより、光ファイバ裸線１７が一次被覆層で被覆された１次被覆光ファイバ１８とされる。
次に、図１に示すように、１次被覆光ファイバ１８を被覆層の形成に好適な温度まで冷却装置７で冷却し、樹脂液塗布装置８により１次被覆光ファイバ１８の外周面に二次被覆層となる被覆材を塗布する。続いて、硬化装置９により被覆材が硬化されることにより、１次被覆光ファイバ１８が二次被覆層で被覆された光ファイバ素線１０とされる。
被覆工程において使用される被覆材としては、紫外線硬化樹脂などを挙げることができ、一次被覆層と二次被覆層とは同じものであっても異なるものであってもよい。

次に、光ファイバ素線１０は、図１に示すように、ターンプーリー１１によって別方向に向きを変えられる。このとき、ターンプーリー１１によって、あらかじめ設定された測定間隔で線引き張力が測定される。ここで得られた線引き張力の測定結果は製造条件制御部１６に入力される。

その後、ターンプーリー１１によって向きを変えられた光ファイバ素線１０は、図１に示すように、製造パラメータに対応する線引き速度で線引きする引き取り機１２を通過する。このとき、引き取り装置１２によって、通過した光ファイバ素線１０の長さが線引きされた光ファイバの紡糸距離として測定され、得られた紡糸距離の測定結果は製造条件制御部１６に入力される。次いで、図２に示すように、ターンプーリー３１、ダンサー３２、プーリー３３、位置固定コロ３４、３５、ガイドコロ５６を通過し、光ファイバ素線受け容器１３に納められ、線引きされた光ファイバの先端２２が、光学特性測定装置１４に接続される。そして、光学特性測定装置１４により、曲げ付与装置位置の光ファイバ２３と、光ファイバの先端２２との間に延在する被測定光ファイバ２４の波長分散が、あらかじめ設定された測定間隔で測定される（工程α）。ここで得られた波長分散の測定結果は製造条件制御部１６に入力される。

波長分散の測定結果が製造条件制御部１６に入力されると、被測定光ファイバ２４の波長分散の測定結果と、目標とする光ファイバの光学特性とを比較した比較結果に基づいて、比較結果が所定の範囲内となるように製造条件制御部１６によって、あらかじめ設定された更新間隔で製造パラメータの設定が更新される（工程β）。なお、製造パラメータの更新は、線引きを継続しながら行なわれる。

製造パラメータが更新されると、製造条件制御部１６によって上述した１以上の製造条件が調整され、更新された製造パラメータとなるように光ファイバ母材１が線引きされる。なお、製造条件制御部１６を、外径測定器３およびターンプーリー１１によって測定された測定結果に基づいて、製造条件制御部１６に記憶されている製造パラメータに対応する製造条件を更新するものとすることで、より正確に、設定された製造パラメータとなる光ファイバ母材が線引きされるように製造条件を制御できる。

本実施形態の光ファイバの製造方法によれば、線引き中の被測定光ファイバ２４の波長分散を測定する光学特性測定工程と、光学特性測定工程における測定結果に基づいて、製造パラメータの設定を更新する更新工程とを備えるので、線引き中の光ファイバの波長分散が所望の値となるように製造パラメータの設定を変更しつつ製造することができる。よって、本実施形態によれば、長手方向における波長分散のばらつきを小さくすることができ、全長に渡って目標とする波長分散を有する光ファイバを高い精度で製造することができる。

また、本実施形態によれば、長手方向で完全に均一でない光ファイバ母材１を用いた場合や、光ファイバ母材１の屈折率分布と線引き後の光ファイバの屈折率分布とが異なる場合でも、全長に渡って目標とする波長分散を有する光ファイバを高い精度で製造することができる。

さらに、本実施形態によれば、長手方向における波長分散のばらつきを小さくすることができるので、条長を調整する工程における誤差が小さいものとなる。よって、例えば、ＤＣＦを製造した場合の条長を調整する工程において従来行なっていた余長処理を行なう必要はなく、余長処理に伴う手間や時間がかからない。

また、本実施形態の光ファイバの製造方法および製造装置は、ＳＭＦ、コア径の変化に応じて波長分散特性が敏感に変化するＤＣＦ、ゼロ分散波長を限りなく励起光波長に近づける必要がある四光波混合用高非線形性ファイバや、波長分散特性がフラットでなおかつ伝搬方向に沿って分散が減少する分散フラット／減少ファイバを製造する際にも好適に使用できる。

また、本実施形態の光ファイバの製造方法では、光学特性測定工程において、曲げ付与装置２０のダンサー３２を通過していることにより曲げ損失が付与されている曲げ付与装置位置の光ファイバ２３と、線引きした光ファイバの先端２２との間に延在する被測定光ファイバ２４の波長分散を測定するので、光学特性測定装置１４を光ファイバの先端２２に接続するのみで、被測定光ファイバ２４の波長分散を測定することができる。

また、本実施形態の光ファイバの製造装置では、曲げ付与装置２０が、被覆手段２１よりも後段に配置されているので、曲げ付与装置位置の光ファイバ２３が、光ファイバ素線１０となり、光ファイバ裸線１７を曲げ付与装置位置の光ファイバとした場合と比較して、曲げ付与装置２０を通過させることによる損傷の発生を防ぐことができる。
また、曲げ付与装置２０が、引き取り装置１２よりも後段に配置されているので、曲げ付与装置位置の光ファイバ２３が、引き取り装置１２を通過した後のものとなり、線引き張力が付与されていない線引きされた光ファイバとなる。よって、線引き張力に起因する光ファイバの光学特性の変化を加味して、製造パラメータの設定が更新されることになり、より一層、長手方向における光学特性のばらつきの小さい光ファイバを製造することができる。

また、本実施形態の光ファイバの製造方法では、更新工程において、光学特性測定工程における測定結果と、目標とする光ファイバの光学特性とを比較した比較結果に基づいて、製造パラメータを更新することにより、比較結果が所定の範囲内となるようにすることで、より一層、長手方向における光学特性のばらつきの小さい光ファイバを製造することができる。
また、本実施形態の光ファイバの製造装置によれば、光ファイバの無張力時の光学特性を光学特性測定装置１４によって測定できるので、信頼性の高い測定結果が得られる。

また、本実施形態においては、製造パラメータを、光ファイバ裸線１７の目標とする外径および目標とする線引き張力としたので、製造パラメータの設定を更新することで、線引き中の光ファイバの波長分散が所望の値となるように高精度で制御することができる。
また、本実施形態においては、製造パラメータを、紡糸炉２内に光ファイバ母材１を供給する供給速度、紡糸温度、線引き速度から選択される１以上の製造条件を調整することによって制御するので、製造条件を調整することによって高精度に製造パラメータを制御できる。

「第２実施形態」
図３は、本発明の第２実施形態の光ファイバの製造装置の他の例の構成を説明するための図である。本実施形態において、上述した第１実施形態と同一の符号を付したものは、第１実施形態と同一のものを示し、重複する説明を省略する。本実施形態の光ファイバの製造装置が図１および図２に示す光ファイバの製造装置と異なるところは、図２に示す光ファイバ巻取り手段３８に代えて、図３に示す光ファイバ巻取り手段３０（手段Ｇ）が配置されている点である。

図３に示す光ファイバ巻取り手段３０は、光ファイバを束取り法で巻き取るためのものであり、前段側から順に、プーリー３３、位置固定コロ３４、３５、ガイドコロ３６、光ファイバ受け３７が備えられたものである。
図３に示すガイドコロ３６は、位置固定コロ３４、３５を通過した光ファイバを８字状に反復運動しながら光ファイバ受け３７に供給するものである。光ファイバ受け３７には、線引きされた光ファイバが供給される方向と平行な方向に設けられた２つの巻取り軸３７ａ、３７ｂが固定されている。
また、本実施形態の光ファイバの製造装置においても、第１実施形態と同様に、光学特性測定装置１４が、線引きした光ファイバの先端２２に配置されている。

本実施形態の光ファイバの製造装置では、引き取り装置１２を通過した光ファイバは、図３に示すように、第１実施形態と同様に、ターンプーリー３１によって別方向に向きを変えられ、ダンサー３２を通過することにより適切な曲げ付与角度で曲げ損失が付与される。
そして、プーリー３３を通過した光ファイバは、位置固定コロ３４、３５を通過してガイドコロ３６に供給され、８字状に反復運動するガイドコロ３６によって光ファイバ受け３７に供給されて、２つの固定された巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻き取られる。

本実施形態の光ファイバの製造装置によれば、固定された巻取り軸３７ａ、３７ｂに光ファイバを巻き取る巻き取り手段３０を備えているので、既に巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻きつけられた光ファイバを動かすことなく、巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻きつけられた光ファイバ上にさらに光ファイバを巻き取ることができるので、光学特性測定手段１４と光ファイバの先端２２との接続が容易で安定したものとなる。
また、本実施形態の光ファイバの製造装置によれば、光ファイバの無張力時の光学特性を光学特性測定装置１４によって測定できるので、信頼性の高い測定結果が得られる。

「第３実施形態」
図４は、本発明の第３実施形態の光ファイバの製造装置の他の例の構成を説明するための図であり、光ファイバの製造装置の光ファイバ巻取り手段と光学特性測定手段のみを示した図である。図４において図３と同一の符号を付したものは、図４と同一のものを示し、重複する説明を省略する。

本実施形態の光ファイバの製造装置では、図４に示すように、光学特性測定手段は、光送受信部４１と光送受信部４１を制御する制御部４２とからなるものとされている。光送受信部４１は、測定用の光を入射する入射部や測定に用いる光を受光する受光部を備えたものであり、光ファイバ巻取り手段４０と別個に設けられ、制御部４２と無線通信により接続可能とされている。
また、本実施形態の光ファイバの製造装置では、図４に示すように、光ファイバ巻取り手段４０は、光ファイバをボビン巻き取り法で巻き取るためのものであり、回転することにより光ファイバを巻き取るボビン４３を備えている。ボビン４３には、光学特性測定手段を構成する光送受信部４１が一体化され、光送受信部４１には、線引きした光ファイバの先端２２が接続されている。

本実施形態の光ファイバの製造装置では、引き取り装置１２を通過した光ファイバは、図４に示すように、第１実施形態と同様にターンプーリー３１によって別方向に向きを変えられ、ダンサー３２を通過することにより適切な曲げ付与角度で曲げ損失が付与され、ボビン４３に巻き取られる。

本実施形態の光ファイバの製造装置によれば、光学特性測定手段を構成する光送受信部４１がボビン４３と一体化されているので、回転することによりボビン４３に光ファイバを巻き取る際に、光送受信部４１がボビン４３と一緒に回転するものとなり、光学特性測定手段の光送受信部４１と光ファイバの先端２２との接続が容易で安定したものとなる。

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、製造パラメータは、光ファイバ裸線１７の目標とする外径と目標とする線引き張力の両方としてもよいし、いずれか一方としてもよい。

また、図３に示す光ファイバ巻取り手段３０においては、光ファイバ受け３７の固定された巻取り軸３７ａ、３７ｂに、８字状に反復運動するガイドコロ３６によって光ファイバが巻き取られるものとしたが、固定された巻取り軸に光ファイバを巻き取ることができればいかなるものであっても巻取り軸３７ａ、３７ｂおよびガイドコロ３６に代えることができる。例えば、固定された１つの巻取り軸に、巻取り軸を中心として回動運動するガイドコロによって光ファイバが巻き取られるものとすることができる。

また、図４に示す光ファイバ巻取り手段４０においては、光送受信部４１と制御部４２とを無線通信により接続可能なものとしたが、光送受信部４１と制御部４２とを有線により接続したものとしてもよい。

以下、実施例を示して、本発明を詳しく説明する。
「実験例１」
図３に示す本発明の第２実施形態の光ファイバの製造装置を用いて、以下に示すように分散補償光ファイバを製造した。
すなわち、波長分散が−１００ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ、モードフィールド径が３．９μｍ、有効コア断面積が１２μｍ^２である光ファイバ母材１を用意し、用意した光ファイバ母材１の屈折率分布をプリフォームアナライザにより測定することにより、光ファイバ母材１が使用可能なものであることを確認した。

一方、製造パラメータ、製造パラメータに対応する製造条件、製造パラメータの更新間隔、光ファイバ裸線１７の外径の測定間隔、線引き張力の測定間隔、波長分散の測定間隔を以下に示すようにあらかじめ設定し、製造条件制御部１６に記憶させた。
（製造パラメータ）
光ファイバ裸線の目標とする外径：１２５μｍ
目標とする線引き張力：２８０ｇ
（製造パラメータの更新間隔）紡糸距離１０ｍ毎
（光ファイバ裸線の外径の測定間隔）紡糸距離０．００７５ｍ毎
（線引き張力の測定間隔）紡糸距離０．７５ｍ毎
（波長分散の測定間隔）紡糸距離１０ｍ毎に１５５０ｎｍの波長分散を測定

その後、光ファイバ母材１を母材送り装置１５に収容して、所定の供給速度で母材送り装置１５により紡糸炉２内に光ファイバ母材１を供給し、Ａｒ、Ｈｅ雰囲気中で、紡糸温度２０００℃で紡糸炉２により光ファイバ母材１の下端を溶融紡糸し、引き取り装置１２により所定の線引き速度で、外径１２５μｍの光ファイバ裸線１７を形成した（紡糸工程）。
次に、被覆手段２１により光ファイバ裸線１７をアクリレートからなる被覆材で被覆して厚み２００μｍの一次被覆層および厚み２５０μｍの二次被覆層を有する光ファイバ素線１０を形成した（被覆工程）。

次に、光ファイバ素線１０を、ターンプーリー１１、引き取り機１２を通過させて、曲げ付与装置２０および光ファイバ巻取り手段３０に順に供給し、線引きされた光ファイバの先端２２を光学特性測定装置１４に接続した。その後、曲げ付与装置２０に供給された光ファイバ素線１０を、ターンプーリー３１、ダンサー３２、プーリー３３、位置固定コロ３４、３５を通過させて、光ファイバ巻取り手段３０の８字状に反復運動するガイドコロ３６によって光ファイバ受け３７に供給し、２つの固定された巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻き取った。

そして、光学特性測定装置１４により、被測定光ファイバ２４の波長分散を紡糸距離１０ｍ毎の測定間隔で測定し（光学特性測定工程）、被測定光ファイバ２４の波長分散の測定結果と、目標とする光ファイバの光学特性とを比較した比較結果に基づいて、比較結果の差が目標値の３％以内となるように製造条件制御部１６によって、紡糸距離１０ｍ間隔で製造パラメータの設定を更新し（更新工程）、所定距離の分散補償光ファイバを得た。

「実験例２」
実験例１と同様の光ファイバの製造装置を用い、実験例１と同様にして使用可能なものであることを確認した実験例１と同様の光ファイバ母材１を用いて、以下に示すように分散補償光ファイバを製造した。

まず、実験例１と同様の製造パラメータおよび製造パラメータに対応する製造条件をあらかじめ設定し、製造条件制御部１６に記憶させた。
その後、実験例１と同様にして光ファイバ裸線１７を形成し、実験例１と同様にして光ファイバ素線１０を形成した。そして、実験例１と同様にして、光ファイバ素線１０を、曲げ付与装置２０を通過させて光ファイバ巻取り手段３０に供給し、線引きされた光ファイバの先端２２を光学特性測定装置１４に接続し、実験例１と同様にして巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻き取った。
そして、光学特性測定装置１４により、被測定光ファイバ２４の波長分散を１０ｍ線引きする毎の測定間隔で測定し（光学特性測定工程）、所定距離の分散補償光ファイバを得た。

実験例１および実験例２で得られた分散補償光ファイバを線引き中に測定した波長１５５０ｎｍでの波長分散と、光ファイバの長手方向位置（曲げ付与装置位置の光ファイバの位置）との関係を調べた。その結果を図５のグラフに示す。
図５より、本発明の実施例である実験例１は、本発明の比較例である実験例２と比較して、長手方向における波長分散のばらつきが小さいことが確認できた。

「実験例３」
図２および図３に示す本発明の第２実施形態の光ファイバの製造装置を用いて、以下に示すように高非線形性光ファイバを製造した。
すなわち、波長１５５０ｎｍにおける波長分散が平均値０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ、モードフィールド径が３．６μｍ、有効コア断面積が１０μｍ^２である光ファイバ母材１を用意し、用意した光ファイバ母材１の屈折率分布をプリフォームアナライザにより測定することにより、光ファイバ母材１が使用可能なものであることを確認した。

一方、製造パラメータ、製造パラメータに対応する製造条件、製造パラメータの更新間隔、光ファイバ裸線１７の外径の測定間隔、線引き張力の測定間隔、波長分散の測定間隔を以下に示すようにあらかじめ設定し、製造条件制御部１６に記憶させた。
（製造パラメータ）
光ファイバ裸線の目標とする外径：１２５μｍ
目標とする線引き張力：３００ｇ
（製造パラメータの更新間隔）紡糸距離１０ｍ毎
（光ファイバ裸線の外径の測定間隔）紡糸距離０．００１ｍ毎
（線引き張力の測定間隔）紡糸距離０．１ｍ毎
（波長分散の測定間隔）１５５０ｎｍの波長分散を１０ｍ線引きする毎に測定

その後、光ファイバ母材１を母材送り装置１５に収容して、所定の供給速度で母材送り装置１５により紡糸炉２内に光ファイバ母材１を供給し、Ａｒ、Ｈｅ雰囲気中で、紡糸温度２０００℃で紡糸炉２により光ファイバ母材１の下端を溶融紡糸し、引き取り装置１２により所定の線引き速度で、光ファイバ裸線１７を形成した（紡糸工程）。
次に、被覆手段２１により光ファイバ裸線１７をアクリレートからなる被覆材で被覆して厚み２００μｍの一次被覆層および厚み２５０μｍの二次被覆層を有する光ファイバ素線１０を形成した（被覆工程）。

次に、光ファイバ素線１０を、ターンプーリー１１、引き取り機１２、曲げ付与装置２０を通過させて光ファイバ巻取り手段３０に供給し、線引きされた光ファイバの先端２２を光学特性測定装置１４に接続した。その後、光ファイバ巻取り手段３０に供給された光ファイバ素線１０を、実験例１および実験例２と同様にして巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻き取った。
そして、光学特性測定装置１４により、被測定光ファイバ２４の波長分散を１０ｍ線引きする毎の測定間隔で測定し（光学特性測定工程）、被測定光ファイバ２４の波長分散の測定結果と、目標とする光ファイバの光学特性とを比較した比較結果に基づいて、比較結果の差が波長分散の値で０．１ｐｓ／ｎｍ／ｋｍの範囲内となるように製造条件制御部１６によって、紡糸距離１０ｍ間隔で製造パラメータの設定を更新し（更新工程）、所定距離の高非線形性光ファイバを得た。

「実験例４」
実験例３と同様の光ファイバの製造装置を用い、実験例３と同様にして使用可能なものであることを確認した実験例３と同様の光ファイバ母材１を用いて、以下に示すように高非線形性光ファイバを製造した。

まず、実験例３と同様の製造パラメータおよび製造パラメータに対応する製造条件をあらかじめ設定し、製造条件制御部１６に記憶させた。
その後、実験例３と同様にして光ファイバ裸線１７を形成し、実験例３と同様にして光ファイバ素線１０を形成した。そして、実験例３と同様に、光ファイバ素線１０を、ターンプーリー１１、引き取り機１２、曲げ付与装置２０を通過させて光ファイバ巻取り手段３０に供給し、線引きされた光ファイバの先端２２を光学特性測定装置１４に接続し、実験例３と同様にして巻取り軸３７ａ、３７ｂに巻き取った。
そして、光学特性測定装置１４により、被測定光ファイバ２４の波長１５５０ｎｍでの波長分散を１０ｍ線引きする毎の測定間隔で測定し（光学特性測定工程）、所定距離の高非線形性光ファイバを得た。

実験例３および実験例４で得られた高非線形性光ファイバを線引き中に測定した波長１５５０ｎｍでの波長分散と、光ファイバの長手方向位置（曲げ付与装置位置の光ファイバの位置）との関係を調べた。その結果を図６のグラフに示す。
図６より、本発明の実施例である実験例３では、波長分散が−０．１ｐｓ/ｎｍ/ｋｍ〜＋０．１ｐｓ/ｎｍ/ｋｍの範囲となっていることがわかる。これに対し、本発明の比較例である実験例４では、波長分散が−０．３ｐｓ/ｎｍ/ｋｍ〜＋０．３ｐｓ/ｎｍ/ｋｍの範囲となっている。したがって、実験例３は実験例４と比較して、長手方向における波長分散のばらつきが小さいことが確認できた。

「実験例５」
実験例３および実験例４で得られた高非線形性光ファイバの性能を確認するために、以下に示す実験を行なった。
すなわち、実験例３および実験例４で得られた高非線形性光ファイバを５００ｍずつ切り分けて得られた試験体各々に、波長１５００ｎｍ〜１６００ｎｍの信号光および波長１５５０ｎｍの励起光を供給して信号光を波長変換させ、得られた変換光の強度を測定した。そして、変換光の強度の最大値の半分となる信号光波長の長波長側と短波長側の差（以下、「ＦＷＭ帯域幅」と称する）を算出した。

そして、実験例３および実験例４で得られた高非線形性光ファイバの長手方向位置（曲げ付与装置位置の光ファイバの位置）と、ＦＷＭ帯域との関係を調べた。その結果を図７のグラフに示す。
図７より、本発明の実施例である実験例３は、本発明の比較例である実験例４と比較して、ＦＷＭ帯域幅が大きいことがわかる。また、実験例３は、ＦＷＭ帯域幅が２０ｎｍ以上という大きな値であり、実験例３で得られた高非線形性光ファイバを用いることで、高性能な波長変換器を実現可能であることが確認できた。

また、実験例３および実験例４で得られた高非線形性光ファイバの波長１５５０ｎｍでの波長分散と、ＦＷＭ帯域幅との関係を調べた。その結果を図８のグラフに示す。
図８より、本発明の実施例である実験例３では、波長分散が−０．１ｐｓ/ｎｍ/ｋｍ〜＋０．１ｐｓ/ｎｍ/ｋｍの範囲であるため、ＦＷＭ帯域幅が２０ｎｍ以上と大きいことがわかる。これに対し、本発明の比較例である実験例４では、波長分散の範囲が−０．３ｐｓ/ｎｍ/ｋｍ〜＋０．３ｐｓ/ｎｍ/ｋｍと実験例３よりも広いため、ＦＷＭ帯域幅が実験例３よりも低くなっていることがわかる。

図１は、本発明の第１実施形態の光ファイバの製造方法に用いられる本発明の光ファイバの製造装置の一例の構成を説明するための図である。 図２は、図１に示す光ファイバ巻取り手段の構成を説明するための図である。 図３は、本発明の第２実施形態の光ファイバの製造装置の他の例の構成を説明するための図であり、光ファイバの製造装置の光ファイバ巻取り手段の構成を説明するための図である。 図４は、本発明の第３実施形態の光ファイバの製造装置の他の例の構成を説明するための図であり、光ファイバの製造装置の光ファイバ巻取り手段の構成を説明するための図である。 分散補償光ファイバを線引き中に測定した波長分散と、光ファイバの長手方向位置との関係を示したグラフである。 高非線形性光ファイバを線引き中に測定した波長分散と、光ファイバの長手方向位置との関係を示したグラフである。 高非線形性光ファイバの長手方向位置と、ＦＷＭ帯域との関係を示したグラフである。 高非線形性光ファイバの波長分散と、ＦＷＭ帯域幅との関係を示したグラフである。 図９は、従来の光ファイバの製造方法に用いられる光ファイバの製造装置の一例の構成を説明するための図である。

符号の説明

１…光ファイバ母材、２…紡糸炉、３…外径測定器、４、７・‥冷却装置、５、８…樹脂液塗布装置、６、９・‥硬化装置、１０…光ファイバ素線、１１…ターンプーリー、１２・‥引き取り装置、１３…光ファイバ素線受け容器、１４…光学特性測定装置（光学特性測定手段）、１５…母材送り装置、１６…製造条件制御部（制御手段）、１７…ファイバ裸線、１８…１次被覆光ファイバ、２０…曲げ付与装置、２１…被覆手段、２２…先端、２４…被測定光ファイバ、３０、３８、４０…光ファイバ巻取り手段、３１…ターンプーリー、３２…ダンサー、３３…プーリー、３４、３５…位置固定コロ、３６、５６…ガイドコロ、３７…光ファイバ受け、３７ａ、３７ｂ…巻取り軸、４１…光送受信部、４２…制御部、４３…ボビン。

Claims (17)

1. 設定された製造パラメータに基づき光ファイバ母材を線引きする光ファイバの製造方法であって、
   前記線引き中の光ファイバの光学特性を測定する工程αと、
   前記工程αにより得られた測定結果に基づき、前記製造パラメータの設定を制御する工程βとを少なくとも備えることを特徴とする光ファイバの製造方法。
2. 前記光学特性は、波長分散であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
3. 前記工程αは、前記光ファイバに曲げ損失を付与する工程を通過した後の光ファイバを用い、曲げ損失を付与している位置Ｓと線引きした光ファイバの先端位置Ｔとの間に延在する被測定光ファイバの光学特性を測定することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバの製造方法。
4. 前記曲げ損失を付与している位置Ｓの光ファイバは、光ファイバ母材を溶融紡糸してなる光ファイバ裸線を被覆材で被覆した光ファイバ素線であることを特徴とする請求項３に記載の光ファイバの製造方法。
5. 前記工程βは、前記工程αにより得られた測定値と、光ファイバの光学特性の目標値とを比較した比較結果に基づき、前記製造パラメータを制御することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の光ファイバの製造方法。
6. 前記製造パラメータは、光ファイバ裸線の目標とする外径および／または前記光ファイバの目標とする線引き張力であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の光ファイバの製造方法。
7. 前記製造パラメータを制御するために、前記光ファイバ母材を溶融紡糸する前記光ファイバ製造装置の紡糸炉内に前記光ファイバ母材を供給する供給速度、紡糸温度、線引き速度から選択される１以上の製造条件を調整することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の光ファイバの製造方法。
8. 設定された製造パラメータに基づき光ファイバ母材を線引きする光ファイバ製造装置であって、
   前記線引き中の光ファイバの光学特性を測定する手段Ａと、
   前記手段Ａにより得られた測定結果に基づき、前記製造パラメータの設定を制御する手段Ｂとを少なくとも備えることを特徴とする光ファイバの製造装置。
9. 前記光学特性は、波長分散であることを特徴とする請求項８に記載の光ファイバの製造装置。
10. さらに、前記光ファイバを通過させることにより前記光ファイバに曲げ損失を付与する手段Ｃを備え、
    前記手段Ａは、線引きされた光ファイバの先端に配置され、前記手段Ｃの位置Ｓにある光ファイバと線引きした前記光ファイバの先端位置Ｔとの間に延在する被測定光ファイバの光学特性を測定することを特徴とする請求項８または請求項９に記載の光ファイバの製造装置。
11. 前記光ファイバ母材を溶融紡糸して形成された光ファイバ裸線を被覆材で被う手段Ｄを備え、
    前記手段Ｃは、前記手段Ｄより後段に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の光ファイバの製造装置。
12. 前記手段Ｃは、前記光ファイバの線引き速度を制御する手段Ｅより後段に配置されていることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の光ファイバの製造装置。
13. 前記手段Ｂは、前記手段Ａにより得られた測定値と、光ファイバの光学特性の目標値とを比較した比較結果に基づき、前記製造パラメータを制御するものであることを特徴とする請求項８〜請求項１２のいずれかに記載の光ファイバの製造装置。
14. 前記製造パラメータは、光ファイバ裸線の目標とする外径および／または前記光ファイバの目標とする線引き張力であることを特徴とする請求項８〜請求項１３のいずれかに記載の光ファイバの製造装置。
15. 前記光ファイバ母材を溶融紡糸する前記光ファイバ製造装置の紡糸炉内に前記光ファイバ母材を供給する供給速度、紡糸温度、線引き速度から選択される１以上の製造条件を調整することによって、前記製造パラメータを制御する手段Ｆを備えることを特徴とする請求項８〜請求項１４のいずれかに記載の光ファイバの製造装置。
16. 固定された巻取り軸に、線引きされた光ファイバを巻き取る手段Ｇを備えることを特徴とする請求項８〜請求項１５のいずれかに記載の光ファイバの製造装置。
17. 前記手段Ａの光送受信部は、回転することにより光ファイバを巻き取るボビンと一体化されていることを特徴とする請求項８〜請求項１５のいずれかに記載の光ファイバの製造装置。
    
    

Images