JP2007061695A - 薄膜の修正方法及び修正装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】カラーフィルタのような薄膜に存在する不良箇所を除去し、インクジェット方式で材料液滴を塗布して再構成する際に、実際に修正する場所でインクジェットヘッドの着弾位置補正を実施することで、前もって計測した補正場所と実際に修正する場所での補正値の相違を最小限に抑え、高精度に不良箇所を修正する。
【解決手段】薄膜(カラーフィルタ層2)に存在する欠陥を除去し、修正インクを塗布する薄膜の修正方法は、欠陥を有する薄膜の上にコート膜(撥液材料202)を形成する工程、コート膜と共に薄膜を除去する工程、除去部位に修正液を塗布する工程を有する。コート膜と共に薄膜を除去する工程の前に、修正箇所を塗布目標位置としてコート膜上に着弾位置確認用液滴301を吐出させ、塗布目標位置とのずれ量を計測し、計測値に基づき塗布位置を補正する。着弾位置確認用液滴301は、薄膜及びコート膜と共にレーザ照射305して除去する。
【選択図】図12
【解決手段】薄膜(カラーフィルタ層2)に存在する欠陥を除去し、修正インクを塗布する薄膜の修正方法は、欠陥を有する薄膜の上にコート膜(撥液材料202)を形成する工程、コート膜と共に薄膜を除去する工程、除去部位に修正液を塗布する工程を有する。コート膜と共に薄膜を除去する工程の前に、修正箇所を塗布目標位置としてコート膜上に着弾位置確認用液滴301を吐出させ、塗布目標位置とのずれ量を計測し、計測値に基づき塗布位置を補正する。着弾位置確認用液滴301は、薄膜及びコート膜と共にレーザ照射305して除去する。
【選択図】図12
Description
本発明は、薄膜の修正方法及び修正装置に関し、さらに詳しくは、液晶パネル等を構成する薄膜に部分的に存在する微小な欠陥を取り除き、修正液を塗布して再構成する薄膜の修正方法及び修正装置に関する。
昨今、液晶パネルの品質に対する要求が高くなっており、従来であれば許容されていたパネル内に存在する数画素の欠陥についても、より減少させることが求められている。その一方で、液晶ディスプレイの高精細化、パネルの大型化が進展しており、パネルあたりの画素数は大幅に増加している。そのため、パネル基板あたりの欠陥率は一段と低く抑えることが必要となっている。
なかでも、液晶パネルの構成要素であるカラーフィルタは、例えば、剥がれ、異物混入等による欠陥が発生するが、このような欠陥が生じた場合、非常に明確に視認される。そのため、これらの欠陥を検出し、可能な限り修正を行うことで良品とすることが求められている。
このような必要性に応えるため、従来においても、特許文献1、2に開示されているように、カラーフィルタの欠陥を検出し、欠陥部位に直接、ないし欠陥部位をレーザ光にて整形し、その箇所に新たにカラーフィルタを形成する液を入れることで、カラーフィルタを再形成する方法が知られている。
この場合、例えば次に示すような方法あるいは手段で再形成することになる。
まず、欠陥部位をレーザ光にて整形して穴を形成する。次に、形成された穴に対して、液の滴下と、その液の溶媒の除去を繰り返して、所望の固形分量を穴内に形成する。液の滴下と溶媒の除去を繰り返すのは、液の固形分濃度が一般に比較的低く、1回の液の滴下では所望の固形分量を形成できないためである。また、溶媒の除去方法としては溶媒を蒸発させることが簡便である。
まず、欠陥部位をレーザ光にて整形して穴を形成する。次に、形成された穴に対して、液の滴下と、その液の溶媒の除去を繰り返して、所望の固形分量を穴内に形成する。液の滴下と溶媒の除去を繰り返すのは、液の固形分濃度が一般に比較的低く、1回の液の滴下では所望の固形分量を形成できないためである。また、溶媒の除去方法としては溶媒を蒸発させることが簡便である。
また、カラーフィルタの修正に関し、特許文献3〜5には複数色の着色剤を吐出可能なインクジェットヘッドを用いてカラーフィルタの欠陥を修正することが開示されている。そして特許文献4にはインクジェットヘッドにより基板上に計測液を吐出して、吐出目標位置と実際の吐出位置とのずれ量を計測して吐出位置を補正することが開示され、特許文献5には吐出部位にインクを滴下して、ずれ及び不吐の有無を確認することが開示されている。また、修正箇所に前処理用インクをコーティングし、トリミングを行った後、修正用インクを塗布することも知られている。
特開平10−282322号公報
特開平11−271752号公報
特開平7−318724号公報
特開平9−101410号公報
特開2005−753号公報
カラーフィルタパネル等の薄膜に生じた欠陥部を修正して再構成するため、修正用の液滴を所定の箇所に塗布している。しかし、例えば修正材料を塗布する手段としてインクジェット方式の塗布手段を用いた場合、事前に着弾補正を行うメンテナンス部あるいは修正する製造基板端において、インクジェットヘッドを用いて前もって着弾確認用インクを計測液として着弾させ、正規位置とのズレがあれば、着弾位置が正規位置となるように補正している。これは、例えば、所定の観察用カメラの規定した場所(例えば、画像中心位置)を液滴着弾位置とし、実際に1滴着弾させ、実際に着弾した位置と観察カメラの規定場所(画像中心位置)との差を補正値とし、インクジェットヘッドの着弾位置を新たに補正している。
しかしながら、このように前もって補正した状態と実際に修正する状態とで、ガラス基板の大型化に伴うステージの精度の悪化、またクリーンルーム内の環境によりエアフローの流れの方向、風量が修正場所により異なること等の理由で、実際の修正場所でない場所で前もって算出した補正値では十分正確に補正できず、修正用インク材料の溢れ漏れが発生し修正できない場合が発生する。また、基板の修正液を滴下する位置と、実際に修正する位置が大きく離れているため、ステージ移動の誤差が入りやすく、補正を行っても十分な精度が得られない。
したがって、本発明は、カラーフィルタパネルのような薄膜の不良箇所にインクジェット方式でカラーフィルタを形成する材料液滴を塗布する際に、実際に修正する場所でインクジェットヘッドの着弾位置補正を実施することを可能とし、前もって計測した補正場所と実際に修正する場所での補正値の相違を最小限に抑えることができ、高精度に不良箇所の修正を実施することができる薄膜の修正方法及び修正装置を提供することを目的とする。
第1の技術手段は、薄膜の上にコート膜を形成する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程と、除去部位に修正液を塗布することにより薄膜の再形成を行う工程とを有し、前記除去部位の領域に修正箇所を含んでいる薄膜の修正方法において、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程の前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する工程と、前記塗布目標位置と前記着弾位置確認用の修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に前記着弾位置確認用の修正液を除去する工程とを有することを特徴とする。
第2の技術手段は、第1の技術手段の薄膜の修正方法において、前記修正液を塗布する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする。
第3の技術手段は、第1の技術手段の薄膜の修正方法において、前記コート膜を形成する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする。
第4の技術手段は、第1乃至3のいずれかの技術手段の薄膜の修正方法において、前記コート膜の可視光透過率は、90%以上であることを特徴とする。
第5の技術手段は、第1乃至4のいずれかの技術手段の薄膜の修正方法において、前記ずれ量は、落射照明光学系を用いて計測することを特徴とする。
第6の技術手段は、薄膜の上にコート膜を形成する手段と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する手段と、除去部位に修正液を塗布する手段とを有し、前記除去部位の領域に薄膜の修正箇所を含んでいる薄膜の修正装置において、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する手段と、前記塗布目標位置と前記修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する手段と、前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に着弾位置確認用として塗布した前記修正液を除去する手段とを有することを特徴とする。
本発明によれば、薄膜の修正箇所にコート膜をコーティングし、コート膜の上に着弾位置確認用として修正液からなる計測液を滴下し、目標位置とのずれ量を計測した後に、修正箇所のトリミングにて計測液、コート膜、薄膜を共に除去するので、カラーフィルタのような薄膜の不良箇所にカラーフィルタを形成する材料液滴を塗布する際に、実際に修正する場所で着弾位置の補正を実施することが可能となり、前もって計測した補正場所と実際に修正する場所での補正値の相違を最小限に抑えることができるため欠陥部を有する薄膜の修正を高精度に実施することができる。
また、本発明によれば、薄膜及びコート膜と共に着弾位置確認用として塗布した修正液を除去するので、着弾位置確認用の修正液の跡を残さず、修正箇所で精度を測ることが可能となる。
また、本発明によれば、実際に修正する場所と前もって計測した着弾位置の補正場所とが同じ場所であるので、薄膜が形成された基板に計測用の領域を設ける必要がない。
本発明は、カラーフィルタのような薄膜の不良箇所に例えばインクジェット方式でカラーフィルタを形成する材料液滴を塗布する際に、実際に修正する場所で着弾位置補正を実施することを可能とし、高精度に修正を実施することができる薄膜の修正方法及び修正装置を提供することを目的とする。そのため、本発明は、薄膜の上にコート膜を形成する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程と、除去部位に修正液を塗布することにより薄膜の再形成を行う工程とを有し、前記除去部位の領域に修正箇所を含んでいる薄膜の修正方法において、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程の前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する工程と、前記塗布目標位置と前記着弾位置確認用の修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記塗布位置を補正する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に前記着弾位置確認用の修正液を除去する工程とを有する。
以下、本発明の薄膜の修正方法及び修正装置について実施例に基づいて説明する。
図3は、本発明の薄膜の修正方法を適用可能なカラーフィルタパネルの構造の部分を示す図で、図3(A)はカラーフィルタパネルの上面図、図3(B)は図3(A)のカラーフィルタパネルを用いた液晶パネルのI−I断面に相当する断面図である。
カラーフィルタパネルは、ガラス基板1の上に薄膜としてカラーフィルタ層2及びブラックマトリクス層3が積層され、カラーフィルタ層2、ブラックマトリクス層3の上には透明電極膜がさらに形成されるが、図3では省略している。さらに、液晶層4、TFT層5が積層されて液晶パネル10が形成される。なお、カラーフィルタ層2に欠陥が存在する場合の修正作業は透明電極膜が形成される前に行われるのが好ましいが、透明電極膜形成後に行っても良い。
図3は、本発明の薄膜の修正方法を適用可能なカラーフィルタパネルの構造の部分を示す図で、図3(A)はカラーフィルタパネルの上面図、図3(B)は図3(A)のカラーフィルタパネルを用いた液晶パネルのI−I断面に相当する断面図である。
カラーフィルタパネルは、ガラス基板1の上に薄膜としてカラーフィルタ層2及びブラックマトリクス層3が積層され、カラーフィルタ層2、ブラックマトリクス層3の上には透明電極膜がさらに形成されるが、図3では省略している。さらに、液晶層4、TFT層5が積層されて液晶パネル10が形成される。なお、カラーフィルタ層2に欠陥が存在する場合の修正作業は透明電極膜が形成される前に行われるのが好ましいが、透明電極膜形成後に行っても良い。
図1は、実施例1による薄膜の修正方法を実施する薄膜の修正装置の実施形態を示す図である。図1において、3軸X、Y、Zを図示のように定める。
実施例1による薄膜の修正方法及び修正装置は、その修正対象がカラーフィルタパネルであって、X軸方向に移動するX軸移動ステージ32とY軸方向に移動するY軸移動ステージ33を備え、本発明の薄膜の修正方法によって修正されるカラーフィルタパネル6は、Y軸方向ステージ33上の吸着ステージに載置されている。X軸方向に移動するX軸移動ステージ32には、欠陥位置を観察する顕微鏡24、レーザ光照射装置25、インクジェットヘッド26を搭載し、それぞれ独立ないしは同時にX軸方向に移動することができる。
実施例1による薄膜の修正方法及び修正装置は、その修正対象がカラーフィルタパネルであって、X軸方向に移動するX軸移動ステージ32とY軸方向に移動するY軸移動ステージ33を備え、本発明の薄膜の修正方法によって修正されるカラーフィルタパネル6は、Y軸方向ステージ33上の吸着ステージに載置されている。X軸方向に移動するX軸移動ステージ32には、欠陥位置を観察する顕微鏡24、レーザ光照射装置25、インクジェットヘッド26を搭載し、それぞれ独立ないしは同時にX軸方向に移動することができる。
図2は、薄膜の修正装置において、顕微鏡、レーザ光照射装置、インクジェットヘッドの位置関係を示す平面図である。
図2において、101は顕微鏡の観察視野領域、102は観察用基準位置を示すマーカで、本実施例1では顕微鏡視野の中心とする。なお、102は本実施例1では顕微鏡視野中心としたが、視野内の適当な位置でもかまわない。26はインクジェットヘッドであり、103〜106はそれぞれノズルを示し、104は赤インク材料を塗布するRインク用ノズル、105は緑インク材料を塗布するGインク用ノズル、106は青インク材料を塗布するBインク用ノズルを示している。103は後述する撥液材料を塗布する撥液用ノズルを示している。
図2において、101は顕微鏡の観察視野領域、102は観察用基準位置を示すマーカで、本実施例1では顕微鏡視野の中心とする。なお、102は本実施例1では顕微鏡視野中心としたが、視野内の適当な位置でもかまわない。26はインクジェットヘッドであり、103〜106はそれぞれノズルを示し、104は赤インク材料を塗布するRインク用ノズル、105は緑インク材料を塗布するGインク用ノズル、106は青インク材料を塗布するBインク用ノズルを示している。103は後述する撥液材料を塗布する撥液用ノズルを示している。
顕微鏡視野中心102をステージ移動座標の原点とすると、図1で示したX−Y座標でそれぞれのノズル位置座標(X、Y)は
撥液用ノズル103………(Xh、Yc)
Rインク用ノズル104…(Xh、Yr)
Gインク用ノズル105…(Xh、Yg)
Bインク用ノズル106…(Xh、Yb)
となる。本実施例1では103〜106のそれぞれのノズル位置座標はX軸上Xhで同値としたが、それぞれ別の値でもかまわない。
撥液用ノズル103………(Xh、Yc)
Rインク用ノズル104…(Xh、Yr)
Gインク用ノズル105…(Xh、Yg)
Bインク用ノズル106…(Xh、Yb)
となる。本実施例1では103〜106のそれぞれのノズル位置座標はX軸上Xhで同値としたが、それぞれ別の値でもかまわない。
次に、実施例1の薄膜の修正方法で行う着弾補正の方法及び修正プロセスについて説明する。
図4は、実施例1の薄膜の修正方法で用いられる修正装置のシステムブロック図であり、図5は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスフロー図である。なお、図5の(A)欄にステージ座標、(B)欄に後述するプロセス状態を示す図番(図6〜14)を記載している。
図4は、実施例1の薄膜の修正方法で用いられる修正装置のシステムブロック図であり、図5は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスフロー図である。なお、図5の(A)欄にステージ座標、(B)欄に後述するプロセス状態を示す図番(図6〜14)を記載している。
図5に示すプロセスフロー図において、プロセス開始時の「開始」(ステップ1)ではステージ座標は任意の位置で、このときのプロセス状態は、図5(B)欄に示すように、図6に示すようなものである。
図6は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第1の図で、修正欠陥を含むカラーフィルタ基板を示し、図6(A)は平面図、図6(B)は図6(A)のII−II断面図である。
図6(A)に示すカラーフィルタ基板は、列方向にR,G,Bの3列の絵素を、行方向に500−0〜500−2の3行の絵素を示している。ここで、行列(500−1,G)に欠陥201があり、欠陥201を含む断面II−IIを図6(B)に示している。なお、1はガラス基板、2はカラーフィルタ層、3はブラックマトリクス層である。
図6は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第1の図で、修正欠陥を含むカラーフィルタ基板を示し、図6(A)は平面図、図6(B)は図6(A)のII−II断面図である。
図6(A)に示すカラーフィルタ基板は、列方向にR,G,Bの3列の絵素を、行方向に500−0〜500−2の3行の絵素を示している。ここで、行列(500−1,G)に欠陥201があり、欠陥201を含む断面II−IIを図6(B)に示している。なお、1はガラス基板、2はカラーフィルタ層、3はブラックマトリクス層である。
図5に示すプロセスフロー図における「欠陥修正位置移動工程」(ステップ2)では、カラーフィルタ基板の製造工程における上流工程の欠陥検査装置等の検査データを基に、例えば欠陥位置を[X,Y]とした場合、顕微鏡視野内101にステージを移動する。
なお、[X,Y]はガラス基板等の絶対座標を示し、後述する(x、y)はある座標を原点とする相対座標を示すこととし、「欠陥修正位置移動工程」(ステップ2)のステージ座標を、図5(A)欄に示すように相対位置座標(0,0)とする。
なお、[X,Y]はガラス基板等の絶対座標を示し、後述する(x、y)はある座標を原点とする相対座標を示すこととし、「欠陥修正位置移動工程」(ステップ2)のステージ座標を、図5(A)欄に示すように相対位置座標(0,0)とする。
次に、「撥液材料塗布位置確認工程」(ステップ3)では、次々工程(ステップ5)で撥液材料塗布する際の位置決めを行なう。このときのプロセス図の詳細を図7に基づいて説明する。
図7は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第2の図で、修正欠陥を顕微鏡視野で観察した様子を示し、図7(A)は平面図、図7(B)は図7(A)のII−II断面図である。
図7(A)では欠陥部201を顕微鏡24の顕微鏡視野101で観察し、顕微鏡視野中心102と欠陥部201とを一致させ、このときのステージ座標を(0,0)とする。
図7は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第2の図で、修正欠陥を顕微鏡視野で観察した様子を示し、図7(A)は平面図、図7(B)は図7(A)のII−II断面図である。
図7(A)では欠陥部201を顕微鏡24の顕微鏡視野101で観察し、顕微鏡視野中心102と欠陥部201とを一致させ、このときのステージ座標を(0,0)とする。
次に、「ステージ移動工程」(ステップ4)では、欠陥部201に撥液材料を塗布すべく、図2に示す撥液用ノズル103の位置になるよう欠陥部201を移動させる。このときのステージ移動は、顕微鏡視野中心102と撥液用ノズルの103位置の関係で、顕微鏡視野中心102から撥液用ノズル103へ移動させる際には、顕微鏡視野中心102を座標原点(0、0)として、ベクトル((0、0)−(Xh、Yc))、すなわちベクトル(−Xh、−Yc)に移動することとなる。本実施例1では図1で説明したようにY軸はY軸移動ステージ33側が移動し、X軸方向は顕微鏡24、レーザ光照射装置25、インクジェットヘッド26が移動する。
次に、「撥液材料塗布工程」(ステップ5)では、ステージを(−Xh、−Yc)移動後、図2に示す撥液用ノズル103より撥液材料を塗布する。このときのプロセス図の詳細を図8に基づいて説明する。
図8は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第3の図で、修正欠陥に撥液材料を塗布した状態を示す図で、図8(A)は平面図、図8(B)は図8(A)のII−II断面図である。
塗布した撥液材料202は図8(A)(B)に示すように画素上に広がる。撥液材料とカラーフィルタの濡れ性により異なるが、薄く広く広がる撥液材料が良い。
図8は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第3の図で、修正欠陥に撥液材料を塗布した状態を示す図で、図8(A)は平面図、図8(B)は図8(A)のII−II断面図である。
塗布した撥液材料202は図8(A)(B)に示すように画素上に広がる。撥液材料とカラーフィルタの濡れ性により異なるが、薄く広く広がる撥液材料が良い。
次に、「ステージ移動工程」(ステップ6)では、後続の工程(ステップ9)で修正材料の着弾位置を確認するため、顕微鏡視野中心102位置、即ち装置位置座標(0,0)に欠陥部201を移動する。
図9は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第4の図で、塗布した撥液材料を顕微鏡視野で観察した状態を示し、図9(A)は平面図、図9(B)は図9(A)のII−II断面図である。
「修正材料塗布位置確認工程」(ステップ7)では、欠陥部201を装置位置座標(0,0)に移動した結果、顕微鏡視野中心102が欠陥部201中心となり、図9に示したように顕微鏡視野101で塗布状態を確認する。なお、「ステージ移動工程」(ステップ6)、「修正材料塗布位置確認工程」(ステップ7)は、あくまで確認のためであるから、実施しなくても良い。
「修正材料塗布位置確認工程」(ステップ7)では、欠陥部201を装置位置座標(0,0)に移動した結果、顕微鏡視野中心102が欠陥部201中心となり、図9に示したように顕微鏡視野101で塗布状態を確認する。なお、「ステージ移動工程」(ステップ6)、「修正材料塗布位置確認工程」(ステップ7)は、あくまで確認のためであるから、実施しなくても良い。
次に、「ステージ移動工程」(ステップ8)では、インクジェット着弾位置確認用の塗布を行うため、欠陥部201が図2に示すGインク用ノズル105位置になるように移動させる。このときステージ移動は、顕微鏡視野中心102とGインク用ノズル105の関係で、顕微鏡視野中心102からGインク用ノズル105へ移動させる際には、顕微鏡視野中心102を座標原点(0、0)として、ベクトル((0、0)−(Xh、Yg))、すなわちベクトル(−Xh、−Yg)に移動すればよい。また逆に、Gインク用ノズル105(Xh、Yg)から顕微鏡視野中心102に移動するにはベクトル(Xh、Yg)に移動すればよい。なお、座標の正負は、X,Y軸を図表座標軸とし各象限に準ずる。
実施例1の修正方法では、欠陥部201が図6に示すようにG列にあるため、Gノズルで緑材料を用い修正する。
実施例1の修正方法では、欠陥部201が図6に示すようにG列にあるため、Gノズルで緑材料を用い修正する。
次に、「インクジェット着弾確認用塗布工程」(ステップ9)では、インクジェット着弾位置確認用の塗布を行うGインク用ノズル105の位置に欠陥部201を移動後、Gインク用ノズル105にてGインク材料液滴を塗布する。
図10は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第5の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布した状態を示し、図10(A)は平面図、図10(B)は図10(A)のIII−III断面図である。
図10(A)(B)に示す(第1の)着弾確認用液滴301が、Gインク用ノズル105にてGインク材料を塗布した液滴である。撥液材料202の上に着弾した着弾確認用液滴301は撥液材料202の撥水作用により広がらず留まる。
図10は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第5の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布した状態を示し、図10(A)は平面図、図10(B)は図10(A)のIII−III断面図である。
図10(A)(B)に示す(第1の)着弾確認用液滴301が、Gインク用ノズル105にてGインク材料を塗布した液滴である。撥液材料202の上に着弾した着弾確認用液滴301は撥液材料202の撥水作用により広がらず留まる。
次に、「ステージ移動工程」(ステップ10)では、次工程(ステップ11)の補正値計測を行うため、相対位置座標(0,0)に移動する。
「画像取り込み補正値計測[Xa、Ya]工程」(ステップ11)では、以下の計測を行う。その詳細を図11で説明する。
図11は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第6の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の状態を示す。
顕微鏡視野101にて着弾確認用液滴301を画像として取り込む。本来着弾するのは顕微鏡視野中心102を狙っているため、この顕微鏡視野中心102と実際に着弾した第1の着弾確認用液滴301との距離を計測する。X,Y軸のそれぞれを計測し、補正値[Xa、Ya]を算出する。
「画像取り込み補正値計測[Xa、Ya]工程」(ステップ11)では、以下の計測を行う。その詳細を図11で説明する。
図11は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第6の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の状態を示す。
顕微鏡視野101にて着弾確認用液滴301を画像として取り込む。本来着弾するのは顕微鏡視野中心102を狙っているため、この顕微鏡視野中心102と実際に着弾した第1の着弾確認用液滴301との距離を計測する。X,Y軸のそれぞれを計測し、補正値[Xa、Ya]を算出する。
次に、「レーザ加工工程」(ステップ12)では、補正値[Xa、Ya]を求めた後、修正すべき画素をレーザ照射し加工する。加工状態を図12に基づいて説明する。
図12は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第7の図で、欠陥部をレーザで加工する際の状態を示し、図12(A)は平面図、図12(B)は図12(A)のIII−III断面図である。
図12(B)に示すようにレーザ照射305を行い、修正箇所に穴をあけ、着弾確認用液滴301、撥液材料202、カラーフィルタ層2と共に除去する。なお、レーザ照射の面積は加工条件で定まるため、加工の大きさにより複数回に亘り実施する場合もある。
図12は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第7の図で、欠陥部をレーザで加工する際の状態を示し、図12(A)は平面図、図12(B)は図12(A)のIII−III断面図である。
図12(B)に示すようにレーザ照射305を行い、修正箇所に穴をあけ、着弾確認用液滴301、撥液材料202、カラーフィルタ層2と共に除去する。なお、レーザ照射の面積は加工条件で定まるため、加工の大きさにより複数回に亘り実施する場合もある。
図13は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第8の図で、欠陥部をレーザで加工した状態を示し、図13(A)は平面図、図13(B)は図13(A)のII−II断面図である。
図13(B)に示すレーザ加工部306は、先の加工により欠陥部201、緑の画素(G、500−1)、及びそれらの上に塗布された撥液材料202を取り除くようレーザ加工する。
図13(B)に示すレーザ加工部306は、先の加工により欠陥部201、緑の画素(G、500−1)、及びそれらの上に塗布された撥液材料202を取り除くようレーザ加工する。
次に、「ステージ移動工程」(ステップ13)では、次工程(ステップ14)においてインクジェット塗布修正するため、Gインク用ノズル105の位置になるよう緑の画素(G、500−1)中心を移動させる。このときステージ移動は、本実施例1の顕微鏡視野中心102とGインク用ノズル105の関係では、ベクトル(−Xh、−Yg)に移動、及び先の図4における「画像取り込み補正値計例[Xa、Ya]工程」(ステップ11)で求めた補正値 [Xa、Ya]を加味し、ベクトル(−(Xh+Xa)、−(Yg+Ya))移動する。
次に、「インクジェット修正材料塗布工程」(ステップ14)では、図2に示すGインク用ノズル105にてGインク材料液滴を塗布する。
図14は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第9の図で、修正を完了した状態を示し、図14(A)は平面図、図14(B)は図14(A)のII−II断面図である。
図14(B)に示すように先のレーザ加工部に修正材料を塗布し、修正インク塗布箇所210を形成する。上記補正値[Xa、Ya]を加味することで、緑の画素(G、500−1)の中心に塗布することができ、同画素の全体に修正材料が行きわたり、良好な修正ができる。
次に、図5に示すフロー図における「終了」(ステップ15)で以上のフローを完了する。
図14は、実施例1の薄膜の修正方法のプロセスを示す第9の図で、修正を完了した状態を示し、図14(A)は平面図、図14(B)は図14(A)のII−II断面図である。
図14(B)に示すように先のレーザ加工部に修正材料を塗布し、修正インク塗布箇所210を形成する。上記補正値[Xa、Ya]を加味することで、緑の画素(G、500−1)の中心に塗布することができ、同画素の全体に修正材料が行きわたり、良好な修正ができる。
次に、図5に示すフロー図における「終了」(ステップ15)で以上のフローを完了する。
次に、実施例1の薄膜の修正方法を実施するための修正装置について説明する。
実施例1の薄膜の修正装置は、図4に示すように、CPU20によって制御及び管理される。6は修正するカラーフィルタパネルであり、Y軸移動ステージ33上の吸着ステージ34に載せられている。24は欠陥位置を観察する顕微鏡、25はレーザ光照射装置、26はインクジェットヘッドである。これらは既に図2で説明したものと同じである。
実施例1の薄膜の修正装置は、図4に示すように、CPU20によって制御及び管理される。6は修正するカラーフィルタパネルであり、Y軸移動ステージ33上の吸着ステージ34に載せられている。24は欠陥位置を観察する顕微鏡、25はレーザ光照射装置、26はインクジェットヘッドである。これらは既に図2で説明したものと同じである。
図4において、ヘッド駆動回路21は、インクジェットヘッド26を駆動する回路であり、装置全体を制御するCPU20で制御される。レーザ駆動回路22はレーザ光照射装置25を駆動する回路で、同じく装置全体を制御するCPU20で制御される。画像取り込み/補正計測23は顕微鏡24に接続され顕微鏡視野の画像を取り込み、図5に示すプロセスフロー図における「画像取り込み補正値計測[Xa、Ya]工程」(ステップ11)を行うブロックであり、装置全体を制御するCPU20で制御される。ステージ移動データメモリ27は、予めインクジェットヘッドの各ノズル103〜106と顕微鏡視野中心102との距離(Xh,Yc),(Xh,Yr),(Xh,Yg),(Xh,Yb)の値を保存しているメモリである。これは設計値でも初期に計測した値でも良い。
次に、ステージ移動補正データ28は、実施例1の修正方法で求めた補正データである。加算器29により予め保存していたインクジェットヘッドの各ノズル103〜106と顕微鏡視野中心102との距離(Xh,Yc),(Xh,Yr),(Xh,Yg),(Xh,Yb)と本発明の方法で求めた補正値を加算する。これらのステージ移動指令に基づきX軸駆動回路30でX軸移動ステージ32を、Y軸駆動回路31でY軸方向ステージ33を移動させる。
補正値計測には「インクジェット着弾確認用塗布工程」(ステップ9)において、インクジェット修正材料を一滴塗布し、以降の計測を行ったが複数滴塗布し計測することでも良い。
図15は、着弾位置計測のために着弾確認用液滴吐付したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の第2の方法を示す図である。
図5に示す修正方法のプロセスフロー図と対比すると、先の図12と同じ工程である。図12では(第1の)着弾確認用液滴301一滴で補正値を計測したが、図15では第2の着弾確認用液滴302、第3の着弾確認用液滴303、第4の着弾確認用液滴304の計3滴塗布し、それぞれ位置を計測し、第2の着弾確認用液滴302の座標は(X2,Y2),第3の着弾確認用液滴303の座標は(X3,Y3),第4の着弾確認用液滴304の座標は(X4,Y4)を得た。この場合、補正値は3点の平均でもよいし、3点の要因により各点の補正値に重みを付加し算出しても良い。
図15は、着弾位置計測のために着弾確認用液滴吐付したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の第2の方法を示す図である。
図5に示す修正方法のプロセスフロー図と対比すると、先の図12と同じ工程である。図12では(第1の)着弾確認用液滴301一滴で補正値を計測したが、図15では第2の着弾確認用液滴302、第3の着弾確認用液滴303、第4の着弾確認用液滴304の計3滴塗布し、それぞれ位置を計測し、第2の着弾確認用液滴302の座標は(X2,Y2),第3の着弾確認用液滴303の座標は(X3,Y3),第4の着弾確認用液滴304の座標は(X4,Y4)を得た。この場合、補正値は3点の平均でもよいし、3点の要因により各点の補正値に重みを付加し算出しても良い。
以上の補正値を求める修正方法として、インクジェットによる方法で説明したが、観察用軸(実施例1では顕微鏡を用い、顕微鏡視野101及び顕微鏡視野中心102で説明した)と修正する際の軸(実施例1では、R用インクノズル104、G用インクノズル105及びB用インクノズル106)に所定のオフセットがある他の修正方法でも使用できる。
撥液材料202は透過性の高い材料とすることで、実施例1の修正方法のように修正対象がカラーフィルタの場合、カラーフィルタの特性を損なわない。
図5に示すプロセスフロー図における「画像取り込み補正値計測[Xa、Ya]工程」(ステップ11)及び図11で(第1の)着弾確認用液滴301を撮像し計測する際には、ガラス基板1の裏面(図11(B)では下側)から照明を行う透過照明による方法と、ガラス基板表面顕微鏡上部から行う落射照明の方法がある。液滴計測の際には液適量が微量であるため、カラーフィルタ修正の場合、カラーフィルタ液滴の色の認識がしにくい場合がある。落射照明では表面凹凸が比較的分かりやすいため、微少量の液滴を計測する際に有効である。なお、落射照明には、顕微鏡内部に光路を備える同軸落射方式、顕微鏡外部にリング照明等を用いる落射照明方法があるが、光量が得れればどちらでも良い。
1…ガラス基板、2…カラーフィルタ層、3…ブラックマトリクス層、4…液晶層、5…TFT層、6…カラーフィルタパネル、10…液晶パネル、20…CPU、21…ヘッド駆動回路、22…レーザ駆動回路、23…画像取り込み/補正計測、24…顕微鏡、25…レーザ光照射装置、26…インクジェットヘッド、27…ステージ移動データメモリ、28…ステージ移動補正データ、29…加算器、30…X軸駆動回路、31…Y軸駆動回路、32…X軸移動ステージ、33…Y軸移動ステージ、34…吸着ステージ、101…顕微鏡視野、102…顕微鏡視野中心、103…撥液用ノズル、104…Rインク用ノズル、105…Gインク用ノズル、106…Bインク用ノズル、201…欠陥部、202…撥液材料、210…修正インク塗布箇所、301…(第1の)着弾確認用液滴、302…第2の着弾確認用液滴、303…第3の着弾確認用液滴、304…第4の着弾確認用液滴4、305…レーザ照射、306…レーザ加工部、500…カラーフィルタ列。
Claims (6)
- 薄膜の上にコート膜を形成する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程と、除去部位に修正液を塗布することにより薄膜の再形成を行う工程とを有し、前記除去部位の領域に修正箇所を含んでいる薄膜の修正方法において、
前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程の前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する工程と、前記塗布目標位置と前記着弾位置確認用の修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に前記着弾位置確認用の修正液を除去する工程とを有することを特徴とする薄膜の修正方法。 - 前記修正液を塗布する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする請求項1に記載の薄膜の修正方法。
- 前記コート膜を形成する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする請求項1に記載の薄膜の修正方法。
- 前記コート膜の可視光透過率は、90%以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の薄膜の修正方法。
- 前記ずれ量は、落射照明光学系を用いて計測することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の薄膜の修正方法。
- 薄膜の上にコート膜を形成する手段と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する手段と、除去部位に修正液を塗布する手段とを有し、前記除去部位の領域に薄膜の修正箇所を含んでいる薄膜の修正装置において、
前記コート膜と共に前記薄膜を除去する前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する手段と、前記塗布目標位置と前記修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する手段と、前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に着弾位置確認用として塗布した前記修正液を除去する手段とを有することを特徴とする薄膜の修正装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005248715A JP2007061695A (ja) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | 薄膜の修正方法及び修正装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008122448A (ja) * | 2006-11-08 | 2008-05-29 | Ntn Corp | パターン修正装置 |
JP2009090175A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-04-30 | Shibaura Mechatronics Corp | 液滴塗布装置及び液滴塗布方法 |
-
2005
- 2005-08-30 JP JP2005248715A patent/JP2007061695A/ja active Pending
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