JP2007059471A - 光増幅器およびmopaレーザ装置 - Google Patents

光増幅器およびmopaレーザ装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 効率よく光出力化が可能な光増幅器およびMOPAレーザ装置を提供する。
【解決手段】 MOPAレーザ装置2は、レーザ光源31、光増幅器32、ビームエクスパンダ33、光学マスク34および光増幅器1Aを備える。レーザ光源31から出力された光は、光増幅器32,ビームエクスパンダ33および光学マスク34を経て、光増幅器1Aに入力される。光増幅器1Aに入力された光は、第1パスで光増幅モジュールA,Aの正順で増幅され、第2パスで光増幅モジュールA,Aの正順で増幅され、第2パスとは逆の経路となる第3パスで光増幅モジュールA,Aの逆順で増幅され、第1パスとは逆の経路となる第4パスで光増幅モジュールA,Aの逆順で増幅されて、出力される。第1パスと第2パスとでは、2個の光増幅モジュールA,Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光が伝搬する。
【選択図】 図2

Description

本発明は、所定波長の光を誘導放射して光増幅し得る光増幅器、および、光源と該光増幅器とを含むMOPA(Master Oscillator Power Amplifier)レーザ装置に関するものである。
固体レーザ媒質を含む光増幅器が知られている。この光増幅器では、固体レーザ媒質に励起光を照射して、この固体レーザ媒質に含まれている活性元素(例えば希土類元素や遷移元素)を励起し、この固体レーザ媒質における誘導放出現象を利用して所定波長の光を光増幅する。また、光源と光増幅器とからMOPAレーザ装置が構成され得る。例えば、固体レーザ媒質はNdやYbをドープしたロッド(円柱)状のガラスや結晶であり、励起光源はレーザダイオードアレイやフラッシュランプであり、光増幅し得る光の波長は1053nm等である。
このような固体レーザ媒質を含む光増幅器は、気体レーザ媒質または液体レーザ媒質を含むものと比較すると、小型であって取り扱いが容易である。しかし、レーザダイオードやフラッシュランプから出力される励起光でロッド型固体レーザ媒質を励起した場合、固体レーザ媒質に吸収された励起光の多くは、固体レーザ媒質内で熱負荷となり、固体レーザ媒質に温度分布をもたらす。この温度分布は、熱レンズ効果、熱複屈折効果およびビーム偏向などを発生させ、レーザ光のモードパターンの変化や出力低下の原因となる。
特許文献1に記載されたようなスラブ型固体レーザ媒質を含む光増幅器は、ロッド型またはディスク型の固体レーザ媒質を含むものと比較すると、水冷却により熱負荷を効率よく除去できるので、大きな出力エネルギを取り出すことができる。また、スラブ型固体レーザ媒質を含む光増幅器は、一方の端面に入射した光をスラブ型固体レーザ媒質の2つの主平面で繰り返し反射させてジグザグ伝搬させながら光増幅して他方の端面から出力することで、そのジグザグ伝搬光路での熱効果が平均化されるので、均一の出力パターンが得られる。
特開2005−158886号公報
光増幅器やMOPAレーザ装置は、産業または科学の分野における更なる応用を目指して、更なる高利得化や高出力化が要求されている。スラブ型固体レーザ媒質を含む光増幅器は、複数のスラブ型固体レーザ媒質を多段に設けることで高利得化が可能であるが、単純に多段化したのみでは増幅効率がよくない。
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、効率よく光出力化が可能な光増幅器およびMOPAレーザ装置を提供することを目的とする。
本発明に係る光増幅器は、(1) 一方の端面に入射した所定波長の光を2つの主平面で繰り返し反射させながら光増幅して他方の端面から出力するスラブ型固体レーザ媒質と、このスラブ型固体レーザ媒質を励起する励起部と、を各々含むN個の光増幅モジュールA〜Aと、(2) 光増幅されるべき所定波長の光を、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第1光増幅手段と、(3) この第1光増幅手段により光増幅された光を、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において第1光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第2光増幅手段と、(4) この第2光増幅手段により光増幅された光を、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第3光増幅手段と、(5) この第3光増幅手段により光増幅された光を、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において第3光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第4光増幅手段と、を備えることを特徴とする。ただし、Nは2以上の整数である。
或いは、本発明に係る光増幅器は、(1) 一方の端面に入射した所定波長の光を2つの主平面で繰り返し反射させながら光増幅して他方の端面から出力するスラブ型固体レーザ媒質と、このスラブ型固体レーザ媒質を励起する励起部と、を各々含むN個の光増幅モジュールA〜Aと、(2) 光増幅されるべき所定波長の光を、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第1光増幅手段と、(3) この第1光増幅手段により光増幅された光を、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において第1光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第2光増幅手段と、(4) この第2光増幅手段により光増幅された光を、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第3光増幅手段と、(5) この第3光増幅手段により光増幅された光を、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において第3光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第4光増幅手段と、を備えることを特徴とする。ただし、Nは2以上の整数である。
好適には、本発明に係る光増幅器は、N個の光増幅モジュールA〜Aのうちの光増幅モジュールAと光増幅モジュールAn+1との間(ただし、nは1以上(N−1)以下の各整数)、第1光増幅手段における最終段の光増幅モジュールと第2光増幅手段における初段の光増幅モジュールとの間、第2光増幅手段における最終段の光増幅モジュールと第3光増幅手段における初段の光増幅モジュールとの間、および、第3光増幅手段における最終段の光増幅モジュールと第4光増幅手段における初段の光増幅モジュールとの間、それぞれに設けられ、前段の光増幅モジュールから出力された光のビーム断面形状を後段の光増幅モジュールへ像転送するスペーシャルフィルタを更に備える。
また、本発明に係るMOPAレーザ装置は、光を出力する光源と、この光源から出力された光を入力し光増幅して出力する上記の本発明に係る光増幅器と、を備えることを特徴とする。
本発明では、第1光増幅手段と第2光増幅手段とでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光を伝搬させる。また、第3光増幅手段と第4光増幅手段とでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光を伝搬させる。したがって、複数個の光増幅モジュールそれぞれでスラブ型固体レーザ媒質の広い体積からエネルギを取り出すことができるので、効率的に出力エネルギを取り出すことができる。また、スペーシャルフィルタ等の構成要素の個数を低減できるので、コストの削減、信頼性の向上、システムの小型化につなげることができる。
本発明によれば、効率よく光出力化が可能となる。
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
先ず、本発明に係る光増幅器の第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る光増幅器1の構成図である。この図に示される光増幅器1は、N個の光増幅モジュールA〜A、(N+1)個のスペーシャルフィルタSF〜SFN+1、ポラライザP、ファラデーローテータFRおよびミラーMを備える。なお、Nは2以上の整数であり、後に現れるnは1以上N以下の任意の整数である。また、この図では、光の進行方向を変えるためのミラーの表示が省略されている。
N個の光増幅モジュールA〜Aは共通の構成を有する。各光増幅モジュールAは、スラブ型固体レーザ媒質10,励起光源11および励起光源12を含む。スラブ型固体レーザ媒質10は、一方の端面に入射した所定波長の光を2つの主平面で繰り返し反射させながら光増幅して他方の端面から出力するものであり、例えば、活性イオン(例えばNd、Yb等)が添加されたガラス、結晶、セラミックなどの固体レーザ材料である。励起光源11および励起光源12は、このスラブ型固体レーザ媒質10を励起する励起部として用いられ、例えば、フラッシュランプ、レーザダイオードアレイまたはレーザダイオードアレイスタックを含む。励起光源11は、出力した励起光をスラブ型固体レーザ媒質10の一方の主平面に照射し、励起光源12は、出力した励起光をスラブ型固体レーザ媒質10の他方の主平面に照射する。なお、励起光が照射されたスラブ型固体レーザ媒質10が発熱することから、このスラブ型固体レーザ媒質10を冷却するために水冷機構が設けられている。
(N+1)個のスペーシャルフィルタSF〜SFN+1も共通の構成を有する。各スペーシャルフィルタSFは、ピンホール20,レンズ21およびレンズ22を含む。レンズ21およびレンズ22は、ケプラ型逆望遠系の共焦点光学系を構成しており、光のビーム断面形状を次々に像転送するものである。ピンホール20は、レンズ21とレンズ22との間の焦点位置にあり、熱歪み等に因り生じる空間的な高調波成分を除去するために設けられている。また、ピンホール20は、集光位置に設けられることから、耐熱衝撃抵抗が大きく硬度が高い材料からなることが望ましく、セラミックスからなるのが好適であり、そのうちでも、アルミナ、窒化珪素、窒化炭素もしくは窒化ボロン、または、これらの混合物等からなるのが好適である。
N個の光増幅モジュールA〜A、および、(N+1)個のスペーシャルフィルタSF〜SFN+1は、交互に配置されている。ポラライザPは、光増幅されるべきp偏光の光を入力して透過させスペーシャルフィルタSFに入射させるとともに、スペーシャルフィルタSFから到達したs偏光の光を反射させて光増幅器1の出力光とする。ミラーMは、スペーシャルフィルタSFN+1から到達した光を反射させて、その反射させた光をスペーシャルフィルタSFN+1に入射させる。ファラデーローテータFRは、スペーシャルフィルタSFN+1とミラーMとの間の光路上に設けられ、光の2回の通過で偏光方位を90度回転させ、また、熱複屈折の補償を図る。
この第1実施形態に係る光増幅器1は、光増幅されるべき光を光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第1光増幅手段と、この第1光増幅手段により光増幅された光を光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第2光増幅手段と、この第2光増幅手段により光増幅された光を光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第3光増幅手段と、この第3光増幅手段により光増幅された光を光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第4光増幅手段と、を備える。第1光増幅手段と第2光増幅手段とでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光を伝搬させる。また、第3光増幅手段と第4光増幅手段とでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光を伝搬させる。第1〜第4の光増幅手段それぞれは、このような経路で光を伝搬させるためのミラー等の光学系により構成される。
この光増幅器1は以下のように動作する。ポラライザPに対してp偏光の被増幅光は、ポラライザPを透過した後、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAに含まれるスラブ型固体レーザ媒質10の一方の端面に入力され、2つの主平面で繰り返し反射されながら光増幅されて、他方の端面から出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。このような光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第1光増幅手段による第1パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの正順で光が増幅される。
続いて、第1パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、再びスペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。このような光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第2光増幅手段による第2パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの正順で光が増幅される。
ただし、第1パスと第2パスとでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光が伝搬する。このように、第1パスと第2パスとでスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路とすることにより、スラブ型固体レーザ媒質内のできるだけ大きな領域から蓄積エネルギを効率的に取り出すことができる。
更に続いて、第2パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、スペーシャルフィルタSFN+1によりミラーMに像転送される。ミラーMにより正反射された光は、再びスペーシャルフィルタSFN+1により光増幅モジュールAに像転送される。この間に、光は、ファラデーローテータFRを2回通過して、偏光方位が90度回転され、また、熱複屈折の補償が図られる。
ファラデーローテータFRから光増幅モジュールAに入射した光は、第2パスとは逆の経路となる第3パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第3光増幅手段による第3パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光が増幅される。
続いて、第3パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、再び光増幅モジュールAに入射し、第1パスとは逆の経路となる第4パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第4光増幅手段による第4パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光が増幅される。
この第4パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、ポラライザPに対してs偏光となっていて、ポラライザPにより反射されて光増幅器1の出力光となる。この光増幅器1の出力は、スペーシャルフィルタSFにより所定の位置に像転送された出力となる。
このように第1実施形態に係る光増幅器1では、複数個の光増幅モジュールそれぞれでスラブ型固体レーザ媒質の広い体積からエネルギを取り出すことができるので、効率的に出力エネルギを取り出すことができる。また、スペーシャルフィルタ等の構成要素の個数を低減できるので、コストの削減、信頼性の向上、システムの小型化につなげることができる。
次に、本発明に係るMOPAレーザ装置の第1実施形態について説明する。図2は、第1実施形態に係るMOPAレーザ装置2の構成図である。この図に示されるMOPAレーザ装置2は、レーザ光源31、光増幅器32、ビームエクスパンダ33、光学マスク34および光増幅器1Aを備える。
レーザ光源31は、レーザ光を出力するものである。このレーザ光源31から出力される光の波長は、光増幅器32および光増幅器1Aそれぞれにおいて光増幅され得る波長である。光増幅器32は、レーザ光源31から出力された光を入力し光増幅して出力する。ビームエクスパンダ33は、光増幅器32から出力されミラーMにより反射されて到達した光を入力し、この光のビーム径を大きくして出力する。光学マスク34は、開口を有しており、ビームエクスパンダ33から出力されミラーMにより反射されて到達した光を入力し、開口のみに光を透過させて、この光の空間分布形状を矩形状に整形して出力する。
光増幅器1Aは、図1に示された光増幅器1と略同様の構成を有している。ただし、ここでは、N値を2とし、また、スペーシャルフィルタSFとスペーシャルフィルタSFとを共通のものとしている。光増幅器1Aに含まれるスペーシャルフィルタSFは、光学マスク34の位置における光のビーム断面形状を像転送する。そして、光増幅器1Aは、光学マスク34の開口を通過した光を入力し、その光を光増幅して出力する。
MOPAレーザ装置2のより具体的な構成の一例は以下のとおりである。レーザ光源31は、Nd:YLFを連続発振のレーザダイオードで励起する単一縦横シードレーザ光源と、Nd:YLFをレーザダイオードで励起するQスイッチ光増幅器と、を含む構成のものであり、波長1053nmの出力パルス光の立ち上がり時間を最小とするアルゴリズムでフィードバック制御して、単一モードの安定化を図る。光増幅器32は、ロッド形状のNd:YLFをレーザダイオードで励起する構成のものである。
このMOPAレーザ装置2は以下のように動作する。レーザ光源31から出力された光は、光増幅器32により光増幅され、ミラーMにより反射されてビームエクスパンダ33によりビーム径が拡大され、ミラーMにより反射されて光学マスク34に入力される。この光学マスク34によりビーム断面形状が矩形状とされた光は光増幅器1Aに入力される。
光増幅器1Aに入力された光は、ポラライザPに対してp偏光であり、ポラライザPを透過した後、ミラーMにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAに含まれるスラブ型固体レーザ媒質の一方の端面に入力され、2つの主平面で繰り返し反射されながら光増幅されて、他方の端面から出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、ミラーM,Mにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAに含まれるスラブ型固体レーザ媒質の一方の端面に入力され、2つの主平面で繰り返し反射されながら光増幅されて、他方の端面から出力される。このように光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第1光増幅手段による第1パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの正順で光が増幅される。
続いて、第1パスの最後に光増幅モジュールAから出力された光は、ミラーM,Mにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、ミラーM,Mにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。このように光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第2光増幅手段による第2パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの正順で光が増幅される。
ただし、第1パスと第2パスとでは、2個の光増幅モジュールA,Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光が伝搬する。このように、第1パスと第2パスとでスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路とすることにより、スラブ型固体レーザ媒質内のできるだけ大きな領域から蓄積エネルギを効率的に取り出すことができる。
更に続いて、第2パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、ミラーM10により反射され、スペーシャルフィルタSFによりミラーMに像転送される。ミラーMにより正反射された光は、再びスペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。この間に、光は、ファラデーローテータFRを2回通過して、偏光方位が90度回転され、また、熱複屈折の補償が図られる。
ファラデーローテータFRから光増幅モジュールAに入射した光は、第2パスとは逆の経路となる第3パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第3光増幅手段による第3パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの逆順で光が増幅される。
続いて、第3パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、再び光増幅モジュールAに入射し、第1パスとは逆の経路となる第4パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第4光増幅手段による第4パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの逆順で光が増幅される。
この第4パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、ポラライザPに対してs偏光となっていて、ポラライザPにより反射されて光増幅器1Aの出力光となる。この光増幅器1Aの出力は、スペーシャルフィルタSFにより所定の位置に像転送された出力となる。
この第1実施形態に係るMOPAレーザ装置2は、上述した光増幅器1と同様の効果を奏することができ、加えて、スペーシャルフィルタSFN+1とスペーシャルフィルタSFとを共通のものとすることにより、スペーシャルフィルタの個数を減らすことができる。
次に、本発明に係る光増幅器の第2実施形態について説明する。図3は、第2実施形態に係る光増幅器3の構成図である。この図に示される光増幅器3は、N個の光増幅モジュールA〜A、(N+1)個のスペーシャルフィルタSF〜SFN+1、ポラライザP、ファラデーローテータFRおよびミラーMを備える。なお、Nは2以上の整数であり、後に現れるnは1以上N以下の任意の整数である。また、この図では、光の進行方向を変えるためのミラーの表示が省略されている。
この光増幅器3に含まれる個々の構成要素は、図1に示された光増幅器1に含まれるものと同様のものである。N個の光増幅モジュールA〜A、および、(N+1)個のスペーシャルフィルタSF〜SFN+1は、交互に配置されている。ポラライザPは、光増幅されるべきp偏光の光を入力して透過させスペーシャルフィルタSFに入射させるとともに、スペーシャルフィルタSFから到達したs偏光の光を反射させて光増幅器3の出力光とする。ミラーMは、スペーシャルフィルタSFから到達した光を反射させて、その反射させた光をスペーシャルフィルタSFに入射させる。ファラデーローテータFRは、スペーシャルフィルタSFとミラーMとの間の光路上に設けられ、光の2回の通過で偏光方位を90度回転させ、また、熱複屈折の補償を図る。
この第2実施形態に係る光増幅器3は、光増幅されるべき所定波長の光を光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第1光増幅手段と、この第1光増幅手段により光増幅された光を光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第2光増幅手段と、この第2光増幅手段により光増幅された光を光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第3光増幅手段と、この第3光増幅手段により光増幅された光を光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第4光増幅手段と、を備える。第1光増幅手段と第2光増幅手段とでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光を伝搬させる。また、第3光増幅手段と第4光増幅手段とでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光を伝搬させる。第1〜第4の光増幅手段それぞれは、このような経路で光を伝搬させるためのミラー等の光学系により構成される。
この光増幅器3は以下のように動作する。ポラライザPに対してp偏光の被増幅光は、ポラライザPを透過した後、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAに含まれるスラブ型固体レーザ媒質10の一方の端面に入力され、2つの主平面で繰り返し反射されながら光増幅されて、他方の端面から出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。このような光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第1光増幅手段による第1パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの正順で光が増幅される。
続いて、第1パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光はスペーシャルフィルタSFN+1によりミラーMとミラーMとの中間に像転送され、像転送されたレーザ光はミラーMおよびミラーMにより反射されて、再びスペーシャルフィルタSFN+1により光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAN−1に像転送される。このような光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第2光増幅手段による第2パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光が増幅される。
ただし、第1パスと第2パスとでは、N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光が伝搬する。このように、第1パスと第2パスとでスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路とすることにより、スラブ型固体レーザ媒質内のできるだけ大きな領域から蓄積エネルギを効率的に取り出すことができる。
更に続いて、第2パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、スペーシャルフィルタSFによりミラーMに像転送される。ミラーMにより正反射された光は、再びスペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。この間に、光は、ファラデーローテータFRを2回通過して、偏光方位が90度回転され、また、熱複屈折の補償が図られる。
ファラデーローテータFRから光増幅モジュールAに入射した光は、第2パスとは逆の経路となる第3パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第3光増幅手段による第3パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの正順で光が増幅される。
続いて、第3パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、スペーシャルフィルタSFN+1によりミラーMとミラーMとの中間に像転送され、ミラーMおよびミラーMにより反射されて、再びスペーシャルフィルタSFN+1により光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、第1パスとは逆の経路となる第4パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第4光増幅手段による第4パスの光増幅であり、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光が増幅される。
この第4パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、ポラライザPに対してs偏光となっていて、ポラライザPにより反射されて光増幅器3の出力光となる。この光増幅器3の出力は、スペーシャルフィルタSFにより所定の位置に像転送された出力となる。
このように第2実施形態に係る光増幅器3では、複数個の光増幅モジュールそれぞれでスラブ型固体レーザ媒質の広い体積からエネルギを取り出すことができるので、効率的に出力エネルギを取り出すことができる。また、スペーシャルフィルタ等の構成要素の個数を低減できるので、コストの削減、信頼性の向上、システムの小型化につなげることができる。
次に、本発明に係るMOPAレーザ装置の第2実施形態について説明する。図4は、第2実施形態に係るMOPAレーザ装置4の構成図である。この図に示されるMOPAレーザ装置4は、レーザ光源31、光増幅器32、ビームエクスパンダ33、光学マスク34および光増幅器3Aを備える。
この第2実施形態におけるレーザ光源31、光増幅器32、ビームエクスパンダ33および光学マスク34それぞれは、前述した第1実施形態におけるものと同様のものである。光増幅器3Aは、図3に示された光増幅器3と略同様の構成を有している。ただし、ここでは、N値を2とし、また、スペーシャルフィルタSFとスペーシャルフィルタSFとを共通のものとしている。光増幅器3Aに含まれるスペーシャルフィルタSFは、光学マスク34の位置における光のビーム断面形状を像転送する。そして、光増幅器3Aは、光学マスク34の開口を通過した光を入力し、その光を光増幅して出力する。
このMOPAレーザ装置4は以下のように動作する。レーザ光源31から出力された光は、光増幅器32により光増幅され、ミラーMにより反射されてビームエクスパンダ33によりビーム径が拡大され、ミラーMにより反射されて光学マスク34に入力される。この光学マスク34によりビーム断面形状が矩形状とされた光は光増幅器3Aに入力される。
光増幅器3Aに入力された光は、ポラライザPに対してp偏光であり、ポラライザPを透過した後、ミラーMにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAに含まれるスラブ型固体レーザ媒質の一方の端面に入力され、2つの主平面で繰り返し反射されながら光増幅されて、他方の端面から出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、ミラーM,Mにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAに含まれるスラブ型固体レーザ媒質の一方の端面に入力され、2つの主平面で繰り返し反射されながら光増幅されて、他方の端面から出力される。このように光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第1光増幅手段による第1パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの正順で光が増幅される。
続いて、第1パスの最後に光増幅モジュールAから出力された光は、ミラーMにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFによりミラーMに像転送される。ミラーMにより反射された光は、ミラーMにより反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。この光増幅モジュールAから出力された光は、ミラーM,M10により反射され、また、スペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。光増幅モジュールAに入射した光は、この光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。このように光増幅および像転送が繰り返し行われて、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第2光増幅手段による第2パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの逆順で光が増幅される。
ただし、第1パスと第2パスとでは、2個の光増幅モジュールA,Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路で光が伝搬する。このように、第1パスと第2パスとでスラブ型固体レーザ媒質内において異なる経路とすることにより、スラブ型固体レーザ媒質内のできるだけ大きな領域から蓄積エネルギを効率的に取り出すことができる。
更に続いて、第2パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、ミラーM11により反射され、スペーシャルフィルタSFによりミラーMに像転送される。ミラーMにより正反射された光は、再びスペーシャルフィルタSFにより光増幅モジュールAに像転送される。この間に、光は、ファラデーローテータFRを2回通過して、偏光方位が90度回転され、また、熱複屈折の補償が図られる。
ファラデーローテータFRから光増幅モジュールAに入射した光は、第2パスとは逆の経路となる第3パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第3光増幅手段による第3パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの正順で光が増幅される。
続いて、第3パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、再び光増幅モジュールAに入射し、第1パスとは逆の経路となる第4パスを経て、最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力される。以上が第4光増幅手段による第4パスの光増幅であり、光増幅モジュールA,Aの逆順で光が増幅される。
この第4パスの最後に光増幅モジュールAにより光増幅されて出力された光は、ポラライザPに対してs偏光となっていて、ポラライザPにより反射されて光増幅器3Aの出力光となる。この光増幅器3Aの出力は、スペーシャルフィルタSFにより所定の位置に像転送された出力となる。
この第2実施形態に係るMOPAレーザ装置4は、上述した光増幅器3と同様の効果を奏することができ、加えて、スペーシャルフィルタSFN+1とスペーシャルフィルタSFとを共通のものとすることにより、スペーシャルフィルタの個数を減らすことができる。
第1実施形態に係る光増幅器1の構成図である。 第1実施形態に係るMOPAレーザ装置2の構成図である。 第2実施形態に係る光増幅器3の構成図である。 第2実施形態に係るMOPAレーザ装置4の構成図である。
符号の説明
1,1A,3,3A…光増幅器、2,4…MOPAレーザ装置、10…スラブ型固体レーザ媒質、11,12…励起光源、20…ピンホール、21,22…レンズ、31…レーザ光源、32…光増幅器、33…ビームエクスパンダ、34…光学マスク、A〜A…光増幅モジュール、SF〜SFN+1…スペーシャルフィルタ、M,M〜M11…ミラー、FR…ファラデーローテータ、P…ポラライザ。

Claims (4)

  1. 一方の端面に入射した所定波長の光を2つの主平面で繰り返し反射させながら光増幅して他方の端面から出力するスラブ型固体レーザ媒質と、このスラブ型固体レーザ媒質を励起する励起部と、を各々含むN個の光増幅モジュールA〜Aと、
    光増幅されるべき所定波長の光を、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第1光増幅手段と、
    この第1光増幅手段により光増幅された光を、前記N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において前記第1光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第2光増幅手段と、
    この第2光増幅手段により光増幅された光を、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第3光増幅手段と、
    この第3光増幅手段により光増幅された光を、前記N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において前記第3光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第4光増幅手段と、
    を備えることを特徴とする光増幅器(ただし、Nは2以上の整数)。
  2. 一方の端面に入射した所定波長の光を2つの主平面で繰り返し反射させながら光増幅して他方の端面から出力するスラブ型固体レーザ媒質と、このスラブ型固体レーザ媒質を励起する励起部と、を各々含むN個の光増幅モジュールA〜Aと、
    光増幅されるべき所定波長の光を、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第1光増幅手段と、
    この第1光増幅手段により光増幅された光を、前記N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において前記第1光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第2光増幅手段と、
    この第2光増幅手段により光増幅された光を、光増幅モジュールA〜Aの正順で光増幅させる第3光増幅手段と、
    この第3光増幅手段により光増幅された光を、前記N個の光増幅モジュールA〜Aそれぞれに含まれるスラブ型固体レーザ媒質内において前記第3光増幅手段による光増幅の際と異なる経路で伝搬させ、光増幅モジュールA〜Aの逆順で光増幅させる第4光増幅手段と、
    を備えることを特徴とする光増幅器(ただし、Nは2以上の整数)。
  3. 前記N個の光増幅モジュールA〜Aのうちの光増幅モジュールAと光増幅モジュールAn+1との間(ただし、nは1以上(N−1)以下の各整数)、前記第1光増幅手段における最終段の光増幅モジュールと前記第2光増幅手段における初段の光増幅モジュールとの間、前記第2光増幅手段における最終段の光増幅モジュールと前記第3光増幅手段における初段の光増幅モジュールとの間、および、前記第3光増幅手段における最終段の光増幅モジュールと前記第4光増幅手段における初段の光増幅モジュールとの間、それぞれに設けられ、前段の光増幅モジュールから出力された光のビーム断面形状を後段の光増幅モジュールへ像転送するスペーシャルフィルタを更に備えることを特徴とする請求項1または2に記載の光増幅器。
  4. 光を出力する光源と、
    この光源から出力された光を入力し光増幅して出力する請求項1〜3の何れか1項に記載の光増幅器と、
    を備えることを特徴とするMOPAレーザ装置。
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