JP2007059309A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】隔壁からの不純物ガスが放電空間に放出されるのを防ぎ、放電特性の安定したプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルは、間に放電空間を形成するように対向して設けられた前面基板１および背面基板６と、この背面基板６上に設けられた隔壁９と、この隔壁９上に設けられ隔壁９からの不純物ガスが放電空間に放出されるのを防止するための不純物ガス放出防止層１３と、隔壁９の側面を覆うように設けられた蛍光体層１０とを有している。
【選択図】図１

Description

本発明は、表示デバイスなどに用いられるプラズマディスプレイパネルに関するものである。

近年、高品質表示や薄型・大画面などの更なる高性能化が表示デバイスに要求されるようになってきている。代表的な表示デバイスとしては、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などが挙げられる。中でも、ＰＤＰは自発光型で美しい画像表示ができ、大画面化が容易などの理由により、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されている。

一般に、ＰＤＰは前面基板と背面基板の２枚のガラス基板を貼りあわせた構造になっている。前面基板には表示電極と誘電体層、保護層などが形成され、背面基板にはアドレス電極、隔壁、蛍光体層などが形成されている。これらのガラス基板を対向配置させて間に放電空間を形成し、放電空間にネオン（Ｎｅ）、キセノン（Ｘｅ）などの希ガスを主体とする放電ガスを封入した構造になっている。

以下では従来のＰＤＰについて図面を参照しながら説明する。

図５はＡＣ（交流）型カラーＰＤＰの一例を示す断面図であり、それぞれ図５（ａ）、図５（ｂ）は互いに直交する方向の断面を示している。前面基板１上には透明電極２とバス電極３からなる表示電極が設けられ、さらに表示電極を覆うように誘電体層４が形成され、その誘電体層４上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）よりなる保護層５が形成されている。表示電極は２本で１対をなしている。また、背面基板６上にはストライプ状のアドレス電極７、それを覆う誘電体層８、ストライプ状の隔壁９、さらに隣接する隔壁９間の誘電体層８上に赤色、緑色、青色にそれぞれ発光する蛍光体層１０が形成されている。そして、前面基板１上に形成された表示電極と背面基板６上に形成されたアドレス電極７とが直交するように対向して配置され、表示を行う最小単位である放電セルは、対をなす２本の表示電極と１本のアドレス電極７との立体交差部に形成される。この放電セル内の２本の表示電極間に交流電圧を印加し放電によって生じる真空紫外線により、蛍光体層１０を励起発光させて前面基板１を透過する光でカラー画像表示を行うものである。

ＰＤＰの製造方法のうち、バス電極３やアドレス電極７などの形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法、スクリーン印刷法、コーティング法、フィルムラミネート法などによってガラス基板上に電極材料の膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法と、スクリーン印刷法あるいはオフセット印刷法によりパターン形成する方法とがある。

また、隔壁９の形成方法としては、コーティング法やスクリーン印刷法などによりガラス基板上に厚膜を形成し、この厚膜上にサンドブラストに耐性があるフォトレジストを隔壁パターンに対応して形成し、前記フォトレジストをマスクとして前記厚膜の不要部分を削り取るサンドブラスト法、あるいはガラス基板上に感光性ペーストをコーティング法により成膜した後にフォトリソグラフィーにより前記感光性ペーストをパターニングする方法、あるいは隔壁パターンを有するマスクを用いてスクリーン印刷を複数回繰り返すスクリーン印刷法などがある。隔壁パターンには、ストレートリブ構造、ワッフルリブ構造、段違い井桁構造、デルタリブ構造などがある。

蛍光体層１０の形成方法としてはディスペンサーによる塗布法や、スクリーン印刷法により隔壁９の間に蛍光体ペーストを選択的に充填する方法などがあり、通常蛍光体ペーストを塗布した後に乾燥工程、焼成工程を行うことで形成される。

ところで、放電ガスを封入した後に、放電空間内で水、炭酸ガス、炭化水素ガスなどの不純物ガスが生じることがあった。そこで、例えば特許文献１には、有機物で形成された隔壁において、隔壁の表面を無機誘電体材料で被覆することにより、有機物の劣化を防ぎ、放電空間内へ不純物ガスの混入を防ぐことが記載されている。隔壁の被覆方法としては、隔壁を被覆する材料が低融点ガラスの場合、低融点ガラス粉末を有機溶媒に分散させたペーストを所望する部分に塗布し、有機溶媒を除去した後、焼成する方法が用いられ、また隔壁を被覆する材料がＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の場合、隔壁の被覆方法としてスパッタ法が用いられる。
特開２０００−２０８０６２号公報

しかしながら、上記の方法では、ペーストの塗布ムラや十分な膜厚が得られないこと、アライメントのズレなどの問題が考えられる。また、特に、段違い井桁構造の隔壁（平面視で格子状であって縦隔壁と横隔壁とからなり、横隔壁よりも縦隔壁の方が高い隔壁）の場合、隔壁表面の被覆は困難であることから、有効に隔壁からの不純物ガス放出を抑制することができない可能性がある。また、隔壁全体を被覆するとなると、隔壁側面や放電セルの底部も被覆することになり、蛍光体層の塗布面積が減少することや、放電空間が狭くなることになり、輝度低下など放電特性に影響する可能性も考えられる。さらに、隔壁形成後に隔壁表面を無機誘電体材料で被覆することから通常の背面板製造の工程よりも工程数が増えることになり、コスト増加や生産時間も長くなることから生産効率の面での課題も発生する。

本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、隔壁からの不純物ガスが放電空間に放出されるのを防ぎ、放電特性の安定したプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。

上述した目的を達成するために、本発明は、間に放電空間を形成するように対向して設けられた前面基板および背面基板と、この背面基板上に設けられた隔壁と、この隔壁上に設けられ前記隔壁からの不純物ガスが前記放電空間に放出されるのを防止するための不純物ガス放出防止層と、前記隔壁の側面を覆うように設けられた蛍光体層とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。

また、本発明は、間に放電空間を形成するように対向して設けられた前面基板および背面基板と、この背面基板上に設けられ、第１隔壁およびこの第１隔壁間に設けられた第２隔壁からなる格子状の隔壁と、前記第１隔壁上に設けられ前記第１隔壁からの不純物ガスが前記放電空間に放出されるのを防止するための不純物ガス放出防止層と、前記第１隔壁の側面と前記第２隔壁の上面および側面とを覆うように設けられた蛍光体層とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。

本発明によると、隔壁からの不純物ガス放出による保護層の汚染や不活性ガスの純度低下を有効に防ぐことができ、放電特性の安定したプラズマディスプレイパネルを実現することができる。

図１は、本発明の実施の形態１によるＡＣ型カラーＰＤＰの主要構成を示す部分的な断面図である。図１に示すように、ＰＤＰは前面板１１と背面板１２とが対向配置されて構成されている。前面板１１の基板となるガラス製の前面基板１上には、透明電極２とバス電極３とからなる表示電極（維持電極および走査電極）がストライプ状に設けられ、さらに表示電極を覆うように誘電体層４が設けられ、誘電体層４上にＭｇＯよりなる保護層５が形成されている。

背面板１２の基板となるガラス製の背面基板６上には、表示電極と直交する方向にアドレス電極７をストライプ状に形成し、そのアドレス電極７を覆うように誘電体層８を形成している。そして、誘電体層８上にはストライプ状の隔壁９が、隣接するアドレス電極７間に位置するように形成されており、その隔壁９上には不純物ガス放出を抑制可能な材料からなる不純物ガス放出防止層１３が形成されている。また、隔壁９の側面を覆うように誘電体層８上に赤色、緑色、青色に発光する蛍光体層１０が形成されており、蛍光体層１０は、隔壁９と不純物ガス放出防止層１３との境界面よりも上の位置まで形成されている。すなわち、蛍光体層１０は不純物ガス放出防止層１３の一部を被覆するように形成されている。また、蛍光体層１０は、隔壁９と不純物ガス放出防止層１３との境界面の位置まで形成されていてもよい。また、不純物ガス放出防止層１３の材料は、例えば酸化物材料であるＭｇＯを用いることができる。

このような構成を有する前面板１１と背面板１２は、アドレス電極７と表示電極が互いに直交するように対向配置され、前面基板１と背面基板６の外周縁部がガラスフリットにより封着されている。このように対向して設けられた前面基板１と背面基板６との間に形成される放電空間にはＮｅ、Ｘｅなどの希ガスからなる放電ガスが所定の圧力（５００〜６００Ｔｏｒｒ、すなわち６６．７〜８０ｋＰａ）で封入されている。そして、表示電極とアドレス電極７との立体交差部には表示を行う最小単位である放電セルが形成される。

このＰＤＰではアドレス電極７、表示電極（走査電極および維持電極）に電圧を印加して表示を行う放電セルで放電を発生させ、この放電による紫外線を蛍光体層１０に照射して可視光に変換することで画像表示が行われる。

ところで、ＰＤＰの放電特性は、保護層５の形成条件、膜質などに大きく影響される。保護層５の膜質に影響を与えるものとして、保護層５表面の汚染源としての隔壁９が考えられる。図５に示す従来のＰＤＰのように隔壁９の一部が放電空間に露出している場合、その露出部分は、ＰＤＰの動作中における荷電粒子の衝突や高エネルギーの光照射（紫外線の照射）により、不純物ガスの放出源となる可能性がある。隔壁９の側面には蛍光体層１０が形成されているため、放電空間に露出する隔壁９の部分は、隔壁９の上部分、すなわち保護層５に近接した部分であり面積的には少ないが、より荷電粒子の影響を受けやすく、放電特性を左右する保護層５に距離的に近い位置で露出しているので、微量の不純物ガス放出が問題になると考えられる。

ところが、この実施の形態１によるＰＤＰの構成では、隔壁９の上に不純物ガス放出防止層１３が設けられており、隔壁９は放電空間に露出していない。不純物ガス放出防止層１３は、隔壁９から放出される不純物ガスが放電空間に放出されることを防止するので、放電空間の希ガス純度が低下するのを抑制できる。また、保護層５であるＭｇＯ表面が不純物ガスによって汚染されるのを防ぐことができるので、従来のＰＤＰに比べて放電特性を安定させることができる。

図２は、本発明の実施の形態２によるＰＤＰの主要構成を示す部分的な断面図である。また、図３は図２における背面板１４を示す部分的な斜視図であり、蛍光体層１０は省略している。図２に示すように、このＰＤＰは前面板１１と背面板１４とから構成されており、前面板１１は実施の形態１のＰＤＰと同じ構成である。また、実施の形態１と同じ構成部分は同じ符号を用いて示している。

図２および図３に示すように、本実施の形態２のＰＤＰでは、背面基板６上にストライプ状のアドレス電極７を形成し、そのアドレス電極７を覆うように誘電体層８を形成している。そして、誘電体層８上に格子状の隔壁１５を形成し、その隔壁１５上にストライプ状の不純物ガス放出防止層１３を形成している。格子状の隔壁１５のうち、アドレス電極７に平行な部分を縦隔壁（第１隔壁）１５ａとし、隣り合う縦隔壁１５ａ間に設けられ且つアドレス電極７に垂直な部分を横隔壁（第２隔壁）１５ｂとすると、不純物ガス放出防止層１３は縦隔壁１５ａ上に形成されている。このように縦隔壁１５ａおよび横隔壁１５ｂからなる隔壁１５と不純物ガス放出防止層１３とにより段違い井桁構造となっている。また、不純物ガス放出防止層１３の材料は、例えば酸化物材料であるＭｇＯを用いることができる。

また、蛍光体層１０は縦隔壁１５ａ間の誘電体層８上に設けられている。蛍光体層１０は、縦隔壁１５ａの側面と横隔壁１５ｂの上面および側面とを覆うように設けられており、蛍光体層１０は縦隔壁１５ａと不純物ガス放出防止層１３との境界面よりも上の位置まで形成されている。すなわち、蛍光体層１０は不純物ガス放出防止層１３の一部を被覆するように形成されている。なお、蛍光体層１０は、隔壁１５と不純物ガス放出防止層１３との境界面の位置まで形成されていてもよい。

この実施の形態２によるＰＤＰの構成では、縦隔壁１５ａの上に不純物ガス放出防止層１３が設けられ、横隔壁１５ｂは蛍光体層１０で覆われているので、隔壁１５は放電空間に露出していない。不純物ガス放出防止層１３は、縦隔壁１５ａから放出される不純物ガスが放電空間に放出されることを防止するので、放電空間の希ガス純度が低下するのを抑制できる。また、保護層５であるＭｇＯ表面の汚染を防ぐことができるので、従来のＰＤＰに比べて放電特性を安定させることができる。

次に、本発明の実施の形態によるＰＤＰの製造方法について、図２および図３で示したＰＤＰを例にして背面板１４を製造する方法を説明する。

背面基板６上にアドレス電極７を形成し、そのアドレス電極７を覆うように誘電体層８を形成する。その後、コーティング法を用いて感光性材料を含む隔壁材料ペーストを誘電体層８上の全面に均一に塗布し、塗布膜を形成する。この塗布膜は隔壁１５となるものである。この塗布膜の膜厚は１００〜３００μｍが好ましい。その後、露光装置によって、フォトマスクを介して横隔壁１５ｂとなる部分の露光を行い、横隔壁１５ｂとなる部分を硬化させる。

次に露光を行った一層目の塗布膜上に、不純物ガス放出防止層１３となる二層目の塗布膜を、コーティング法を用いて基板全面に均一に塗布する。ここでは不純物ガス放出防止層１３としての材料は酸化物材料であるＭｇＯを使用した。酸化物材料であるＭｇＯペーストと感光性材料とを混合することで感光性ペーストを作製し、コーティング法を用いて基板全面に均一に塗布した。このとき、上記の感光性ペーストを塗布後の二層目の膜厚は２０〜５０μｍが好ましい。

不純物ガス放出防止層１３としての二層目となる感光性ペーストを塗布して塗布膜を形成した後、露光装置を用いて、フォトマスクを介して不純物ガス放出防止層１３およびその下の縦隔壁１５ａとなる部分の露光を行い、必要部分を硬化させる。次に露光を行った一層目および二層目の塗布膜を、現像装置を用いて現像することにより、縦隔壁１５ａ、横隔壁１５ｂおよび縦隔壁１５ａの上に位置する不純物ガス放出防止層１３のパターンを形成する。その後、焼成炉によりパターン化された塗布膜の焼成を行うことにより隔壁１５および不純物ガス放出防止層１３が形成される。ここで、例えば、焼成後の隔壁１５（縦隔壁１５ａおよび横隔壁１５ｂ）の高さは１００μｍであり、不純物ガス放出防止層１３の高さは２０μｍである。

有機溶剤を含むＭｇＯペーストと感光性材料とを混合した感光性ペーストを用いて形成された不純物ガス放出防止層１３は、上記のように焼成を行うことで、有機溶剤などの不純物ガス放出要因となる材料を燃焼させ除去することができ、純度の高いＭｇＯによる不純物ガス放出防止層１３を形成できる。

上記の製造方法において隔壁１５および不純物ガス放出防止層１３はコーティング法とフォトリソグラフィー法を用いて形成したが、この方法に限定されるものではなく、その他の方法としてスクリーン印刷法やサンドブラスト法を用いて形成してもよい。

上記のように隔壁１５および不純物ガス放出防止層１３を形成した後、例えば蛍光体ペーストを、隔壁１５が放電空間に露出することがないように塗布し、焼成を行うことにより、蛍光体層１０を形成する。焼成後の蛍光体層１０の厚みは例えば２０μｍであり、蛍光体層１０は、隔壁１５と不純物ガス放出防止層１３との境界面の位置、またはその境界面よりも上の位置まで形成されるようにする。また、横隔壁１５ｂの上面に形成される蛍光体層１０の厚みは例えば５〜１０μｍであり、この部分の蛍光体層１０表面と保護層５表面との間には隙間が形成されることで、以降の工程である排気、放電ガス封入を行いやすい。

以上のようにして、酸化物材料であるＭｇＯを使用して不純物ガス放出防止層１３を形成した背面板１４と、別途製造した前面板１１とを対向させて周囲を封着し、放電空間を排気した後、不活性ガスを封入することでＰＤＰが製造される。

このようにして得られたＰＤＰでは、隔壁１５から放出される不純物ガスを抑制する効果があるために、放電空間の不活性ガス純度を低下させることがなく、また保護層５としてのＭｇＯ表面の汚染も防ぐことができるために、従来のＰＤＰに比べ放電特性を安定させることができる。

上記実施の形態１、２では、不純物ガス放出防止層１３の材料としてＭｇＯを使用したが、Ｍｇと同属元素の酸化物材料である酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）の各種アルカリ土類金属酸化物、あるいはその他の酸化物材料を用いてもよい。図４には、ＭｇＯ、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ₂）のそれぞれの酸化物材料を不純物ガス放出防止層１３として用いた場合の不純物ガス放出の抑制量を、ＭｇＯを用いた場合を１として相対値で示している。図４から言えるように、Ｔａ₂Ｏ₅、ＨｆＯ₂は他の材料に比べて有効に不純物ガス放出を抑制することができ、不純物ガス放出防止層１３を構成する材料として有用であるといえる。これは、他の材料よりも密度が高く空隙の少ない層を形成できるためと考えられる。また、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂はＴａ₂Ｏ₅、ＨｆＯ₂に比べ抑制量は小さいが比較的入手が容易であり、加工性の面でも優れているので、不純物ガス放出防止層１３として用いることに好適である。

上記実施の形態１、２では、不純物ガス放出防止層１３は酸化物材料を用いて形成したが、窒化物材料を用いて形成することもできる。以下、実施の形態３として、実施の形態２によるＰＤＰの不純物ガス放出防止層１３を、窒化物材料を用いて形成する場合について説明する。

窒化物材料を用いて不純物ガス放出防止層１３を形成する方法は、背面基板６上に隔壁１５となる一層目の塗布膜を形成し、その塗布膜を露光するまでは実施の形態２で説明した方法と同じである。一層目の塗布膜を露光した後、その塗布膜上に不純物ガス放出防止層１３となる二層目を、コーティング法を用いて基板全面に均一に塗布する。ここで不純物ガス放出防止層１３としての材料は窒化物材料である窒化珪素（ＳｉＮ）を使用した。すなわち、窒化物材料であるＳｉＮペーストと感光性材料とを混合することで感光性ペーストを作製し、コーティング法を用いて感光性ペーストを基板全面に均一に塗布した。感光性ペーストを塗布後の二層目の膜厚を３０μｍとした。

不純物ガス放出防止層１３としての二層目となる感光性ペーストを塗布して塗布膜を形成した後、露光装置を用いて、フォトマスクを介して不純物ガス放出防止層１３およびその下の縦隔壁１５ａとなる部分の露光を行い、必要部分を硬化させる。次に露光を行った一層目および二層目の塗布膜を現像することにより、縦隔壁１５ａ、横隔壁１５ｂおよび縦隔壁１５ａの上に位置する不純物ガス放出防止層１３のパターンを形成する。その後、パターン化された塗布膜の焼成を行うことにより、隔壁１５および不純物ガス放出防止層１３が形成される。ここで、例えば、焼成後の隔壁１５（縦隔壁１５ａおよび横隔壁１５ｂ）の高さは１００μｍであり、不純物ガス放出防止層１３の高さは２０μｍである。

有機溶剤を含むＳｉＮペーストと感光性材料とを混合した感光性ペーストを用いて形成された不純物ガス放出防止層１３は、上記のように焼成を行うことで、有機溶剤などの不純物ガス放出要因となる材料を燃焼させ除去することができ、純度の高いＳｉＮによる不純物ガス放出防止層１３を形成できる。

上記のように隔壁１５および不純物ガス放出防止層１３を形成した後、例えば蛍光体ペーストを、隔壁１５が放電空間に露出することがないように塗布し、焼成を行うことにより、蛍光体層１０を形成する。焼成後の蛍光体層１０の厚みは例えば２０μｍであり、蛍光体層１０は、隔壁１５と不純物ガス放出防止層１３との境界面の位置、またはその境界面よりも上の位置まで形成されるようにする。

以上のようにして、窒化物材料であるＳｉＮを使用して不純物ガス放出防止層１３を形成した背面板１４と、別途製造した前面板１１とを対向させて周囲を封着し、不活性ガスを封入することでＰＤＰが製造される。

このようにして得られたＰＤＰでは、隔壁１５から放出される不純物ガスが放電空間に放出されるのを抑制する効果があるために、放電空間の不活性ガス純度を低下させることがなく、また保護層５としてのＭｇＯ表面の汚染も防ぐことができるために、従来のＰＤＰに比べ放電特性を安定させることができる。

ここでは不純物ガス放出防止層１３の材料として窒化物材料であるＳｉＮを用いたが、これに限定されるものではなく、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ホウ素（ＢＮ）などの窒化物材料を用いて形成してもよい。ただし、放電特性に影響することのないように絶縁性に優れた材料を選択する必要がある。窒化物材料によるコーティングは硬度を持っているほか、耐食性などにも優れているために前面板１１と背面板１４との封着時やその後の外部からの圧力による隔壁破損を抑制する効果も得られ、画素欠陥の低減の効果が得られる。

また、本実施の形態のように、縦隔壁１５ａ上に段違い井桁構造の一部として不純物ガス放出防止層１３を形成する方法では、隔壁形成後にスパッタ法を用いて隔壁を被覆するような方法をとらないために新たな工程を追加する必要はなく、生産性を低下させることはない。さらに本発明の実施形態の方法によれば、不純物ガス放出防止層１３を縦隔壁１５ａ上に確実に形成できるために選択性に優れている。

以上のように、不純物ガス放出防止層により、隔壁からの不純物ガス放出による保護層の汚染や不活性ガスの純度低下を有効に防ぐことができ、放電特性の安定したプラズマディスプレイパネルを実現するのに有用である。

本発明の実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルを示す部分的な断面図 本発明の実施の形態２におけるプラズマディスプレイパネルを示す部分的な断面図 同プラズマディスプレイパネルの背面板の一部を示す斜視図 不純物ガス放出防止層の材料の違いによる不純物ガス放出抑制量を示す特性図 （ａ）、（ｂ）は従来のプラズマディスプレイパネルを示す部分的な断面図

符号の説明

１ 前面基板
２ 透明電極
３ バス電極
４ 誘電体層
５ 保護層
６ 背面基板
７ アドレス電極
８ 誘電体層
９、１５ 隔壁
１０ 蛍光体層
１１ 前面板
１２、１４ 背面板
１３ 不純物ガス放出防止層

Claims (4)

1. 間に放電空間を形成するように対向して設けられた前面基板および背面基板と、この背面基板上に設けられた隔壁と、この隔壁上に設けられ前記隔壁からの不純物ガスが前記放電空間に放出されるのを防止するための不純物ガス放出防止層と、前記隔壁の側面を覆うように設けられた蛍光体層とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 間に放電空間を形成するように対向して設けられた前面基板および背面基板と、この背面基板上に設けられ、第１隔壁およびこの第１隔壁間に設けられた第２隔壁からなる格子状の隔壁と、前記第１隔壁上に設けられ前記第１隔壁からの不純物ガスが前記放電空間に放出されるのを防止するための不純物ガス放出防止層と、前記第１隔壁の側面と前記第２隔壁の上面および側面とを覆うように設けられた蛍光体層とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
3. 不純物ガス放出防止層はＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＨｆＯ₂、ＺｒＯ₂の中から選ばれる酸化物材料を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 不純物ガス放出防止層はＳｉＮ、ＡｌＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＴｉＮ、ＢＮの中から選ばれる窒化物材料を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル。

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