KR100658319B1 - 유전층을 포함하는 플라즈마 표시 패널 및 플라즈마 표시패널의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 표시 패널에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 유전층을 포함하는 플라즈마 표시 패널 및 플라즈마 표시 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
하부 기판을 포함하는 플라즈마 표시 패널에 있어서, 본 발명의 플라즈마 표시 패널은 특정 방전셀의 데이터 전극과 부 기판 사이에 보조 유전체층이 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 하부 기판을 포함하는 플라즈마 표시 패널의 제조 방법에 있어서, 본 발명의 플라즈마 표시 패널의 제조 방법은 a) 특정 방전셀의 영역에 보조 유전체층이 형성되는 단계, b) 보조 유전체층 상에 데이터 전극이 형성되는 단계, c) 데이터 전극이 덮이도록 유전체층이 형성되는 단계 및 d) 유전체층 상에 격벽이 형성되는 단계를 포함한다.
이와 같은 본 발명은 보조 유전체층을 통하여 데이터 전극과 스캔 전극 또는 서스테인 전극 사이의 거리가 작아짐으로써 다른 방전셀과의 방전특성 편차를 줄일 수 있다.

Description

유전층을 포함하는 플라즈마 표시 패널 및 플라즈마 표시 패널의 제조 방법{Plasma Display Panel Including Dielectric Layer and Method for Manufacturing Plasma Display Panel}
도 1은 일반적인 교류형 PDP를 구성하는 하나의 방전셀을 확대 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널의 구조도이다.
도 3은 본 발명의 플라즈마 표시 패널의 하부 기판 제작 방법을 도시한 순서도이다.
본 발명은 플라즈마 표시 패널에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 유전층을 포함하는 플라즈마 표시 패널 및 플라즈마 표시 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 평판 디스플레이 장치로서 대형 패널의 제작이 용이한 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel)이 주목받고 있다. 플라즈마 표시 패널은 통상 디지털 비디오 데이터에 따라 화소들 각각의 가스 방전 기간을 조절함으로써 화상을 표시한다. 이러한 플라즈마 표시 패널로는 도 1과 같이 3전극을 구비하고 교류 전압에 의해 구동되는 교류형 플라즈마 표시 패널이 대표적이다.
도 1은 일반적인 교류형 플라즈마 표시 패널을 구성하는 하나의 방전셀을 확대 도시한 것이다.
도 1에 도시된 방전셀(30)은 상부 기판(10) 상에 순차적으로 형성된 스캔 전극(12A) 및 서스테인 전극(12B), 상부 유전체층(14) 및 보호막(16)을 갖는 상판과, 하부 기판(18) 상에 순차적으로 형성된 데이터 전극(20), 하부 유전체층(22), 격벽(24) 및 형광체층(26)을 갖는 하판을 구비한다.
스캔 전극(12A) 및 서스테인 전극(12B) 각각은 투명 전극과, 그 투명 전극의 높은 저항을 보상하기 위한 금속 전극으로 구성된다. 스캔 전극(12A)은 어드레스 방전을 위한 스캔 신호와 서스테인 방전을 위한 서스테인 신호를, 서스테인 전극(12B)은 서스테인 신호를 주로 공급한다. 데이터 전극(20)은 스캔 전극(12A) 및 서스테인 전극(12B)과 교차하여 형성된다. 이 데이터 전극(20)은 어드레스 방전을 위한 데이터 신호를 공급한다.
상부 유전체층(14)과 하부 유전체층(22)에는 방전으로 생성된 전하들이 축적된다. 보호막(16)은 방전시 스퍼터링으로 인한 상부 유전체층(14)의 손상을 방지하고 2차 전자의 방출 효율을 증가시킨다. 이러한 유전체층(14, 22)과 보호막(16)은 외부에서 인가되는 방전전압을 낮출 수 있게 한다.
격벽(24)은 상하부 기판(10, 18)과 함께 방전 공간을 마련한다. 그리고, 격벽(24)은 데이터 전극(20)과 나란하게 형성되어 가스 방전에 의해 생성된 자외선이 인접한 셀에 누설되는 것을 방지한다.
형광체층(26)은 하부 유전체층(22) 및 격벽(24)의 표면에 도포되어 적색, 녹색 또는 청색 가시광을 발생한다. 방전 공간에는 가스방전을 위한 He, Ne, Ar, Xe, Kr 등의 불활성 가스, 이들이 조합된 방전 가스, 또는 방전에 의해 자외선을 발생시킬 수 있는 엑시머(Excimer) 가스가 충진된다.
이러한 구조의 방전셀(30)은 데이터 전극(20)과 스캔 전극(12A)에 의한 대향 방전으로 선택된 후 스캔 전극(12A)과 서스테인 전극(12B)에 의한 면방전으로 방전을 유지한다. 이에 따라, 방전셀(30)에서는 서스테인 방전시 발생되는 자외선에 의해 형광체(26)가 발광함으로써 가시광이 방출된다.
이와 같은 일반적인 플라즈마 표시 패널에 포함된 각 방전셀(30) 사이에는 방전 특성에 대한 편차가 존재한다. 이와 같은 방전셀(30) 사이의 방전 특성 편차로 인해 동일한 구동 조건하에서 화질의 차이가 발생하는 문제점이 발생한다.
본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 방전 특성의 편차를 최소화할 수 있는 플라즈마 표시 패널 및 플라즈마 표시 패널의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 하부 기판을 포함하는 플라즈마 표시 패널에 있어서, 본 발명의 플라즈마 표시 패널은 특정 방전셀의 데이터 전극과 부 기판 사이에 보조 유전체층이 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 하부 기판을 포함하는 플라즈마 표시 패널의 제조 방법에 있어서, 본 발명의 플라즈마 표시 패널의 제조 방법은 a) 특정 방전셀의 영역에 보조 유전체층이 형성되는 단계, b) 보조 유전체층 상에 데이터 전극이 형성되는 단계, c) 데이터 전극이 덮이도록 유전체층이 형성되는 단계 및 d) 유전체층 상에 격벽이 형성되는 단계를 포함한다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하고자 한다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널의 구조도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널은 방전 특성이 좋지 않은 특정 방전셀의 데이터 전극(20)과 하부 기판(18) 사이에 보조 유전체층(28)이 형성된다.
이와 같이 보조 유전체층(28)이 형성된 방전셀에서의 데이터 전극(20)과 스캔 전극(12A) 또는 서스테인 전극(12B)과의 거리(a)가 보조 유전체층(28)이 형성되지 않은 방전셀에서의 데이터 전극(20)과 스캔 전극(12A) 또는 서스테인 전극(12B)과의 거리(b)보다 작다. 따라서, 보조 유전체층(28)이 형성된 방전셀에서 방전 특성이 좋아진다.
즉, 방전 특성이 좋지 않은 특정 방전셀에서 데이터 전극(20)과 하부 기판(18) 사이에 보조 유전체층(28)이 형성됨으로써 다른 방전셀과의 방전 특성 편차를 줄일 수 있다.
이 때, 보조 유전체층(28)은 포토 리소그라피 공정에 의하여 형성된다. 보조 유전체층(28)의 재질은 반사율이 우수하여 하부 기판(18)으로 빠져나가는 빛을 차단할 수 있는 것이 바람직하다. 예를 들어, 보조 유전체층(28)의 재질은 TiO2이다.
도 3은 본 발명의 플라즈마 표시 패널의 하부 기판 제작 방법을 도시한 순서도이다.
먼저, 하부 기판(18)의 전면에 보조 유전체층을 형성하기 위한 유전체 재료층(28-1)이 형성되고, 유전체 재료층(28-1) 위에 보조 유전체층의 패턴이 형성되기 위하하여 포토 리지스트(PR)가 도포된다(S190).
포토 리지스트(PR)가 도포되면, 보조 유전체층의 패턴이 형성된 포토 마스크(PM)에 의하여 포토 리지스트(PR)가 노광되고 현상되어 보조 유전체층(28)이 형성될 위치의 포토 리지스트(PR)만이 남게 되면서 보조 유전체층(28)이 형성된다(S200).
남아 있던 포토 리지스트(PR)가 제거된 후 보조 유전체층(28) 위에 은 페이스트(Ag paste)를 이용하여 데이터 전극의 패턴이 인쇄되어 데이터 전극(20)이 형성된다(S210). 이 때, 보조 유전체층(28)이 형성되지 않은 방전셀 영역에서는 하부 기판(18) 상에 데이터 전극이 형성된다.
데이터 전극(20)이 하부 기판(124)의 표면 또는 보조 유전체층(28)상에 형성되면, 하부 유전체층(22)이 데이터 전극(20)을 덮으면서 하부 기판(18) 전체에 형성된다(S220).
이후, 하부 유전체층(22)의 전면에 격벽을 형성하기 위한 격벽재(24-1)가 2회 내지 3회 도포되고(S230), 격벽재(24-1) 상에 격벽(24)의 패턴이 형성되기 위하여 포토 리지스트(PR)가 도포된다(S240).
포토 리지스트(PR)가 도포되면, 격벽의 패턴이 형성된 포토 마스크에 의하여 포토 리지스트(PR)가 노광되고 현상되어 격벽이 형성될 위치의 포토 리지스트(PR)만이 남게 된다(S250).
다음으로 포토 리지스트(PR)가 남아있지 않은 격벽재(24-1)는 샌드 블라스트(sand blast)에 의하여 깎여 제거되고, 남아 있는 포토 리지스트(PR)의 아래에 위치하는 격벽재(24-1)는 그대로 유지된다(S260).
이후, 가성 소다 등으로 남아 있는 포토 리지스트(PR)가 제거되고 고온으로 남아있는 격벽재(24-1)가 소성되어 완전한 격벽(24)이 형성된다(S270).
이와 같은 공정은 보조 유전체층(28)의 형성 과정을 보여주는 공정으로서 다른 공정을 통하여 보조 유전체층(28)이 형성될 수도 있다.
이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
이상에서와 같이 본 발명은 보조 유전체층을 통하여 데이터 전극과 스캔 전극 또는 서스테인 전극 사이의 거리가 작아짐으로써 다른 방전셀과의 방전특성 편 차를 줄일 수 있다.

Claims (5)

  1. 하부 기판을 포함하는 플라즈마 표시 패널에 있어서,
    특정 방전셀의 데이터 전극과 상기 하부 기판 사이에 보조 유전체층이 형성되며, 상기 특정 방전셀 외의 나머지 방전셀에는 상기 보조 유전체층이 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 보조 유전체층은 TiO2에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널.
  3. 삭제
  4. 하부 기판을 포함하는 플라즈마 표시 패널의 제조 방법에 있어서,
    특정 방전셀의 영역에 보조 유전체층이 형성되는 단계;
    상기 보조 유전체층 상에 데이터 전극이 형성되는 단계;
    상기 데이터 전극이 덮이도록 유전체층이 형성되는 단계; 및
    상기 유전체층 상에 격벽이 형성되는 단계를 포함하며,
    상기 보조 유전체층이 형성되는 단계는,
    상기 하부 기판의 전면에 상기 보조 유전체층을 형성하기 위한 유전체 재료층이 형성되는 단계;
    상기 유전체 재료층 위에 포토 리지스트가 도포되는 단계; 및
    상기 보조 유전체층의 패턴이 형성된 포토 마스크에 의하여 상기 포토 리지스트가 노광되고 현상되어 상기 보조 유전체층이 형성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 유전체 재료층은 TiO2인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널의 제조 방법.
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