KR20060031555A - 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 후면 글라스기판에 식각에 의한 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽을 동일하게 형성하고, 제 2격벽상부에 어드레스전극을 형성하며, 제 1격벽상부에 제 3격벽을 형성함으로써, 셀방전공간에 형광체층이 도포되는 면적을 최대로 하여 휘도 및 효율을 향상시킨다. 또한, 어드레스전극과 방전사이의 거리가 가까워지므로 구동특성도 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 격벽은 제 1격벽과 제 2격벽 및 제 3격벽을 포함하고, 식각에 의한 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽이 후면 글라스기판에 형성되며, 제 2격벽상부에 어드레스전극이 형성되고, 제 1격벽상부에 제 3격벽이 형성되는 것을 특징으로 한다.
후면 글라스기판, 제 1격벽, 제 2격벽, 제 3격벽, 어드레스전극, 형광체

Description

플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법 {Plasma Display Panel and Method for Manufacturing Plasma Display Panel}
도 1은 종래 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도.
도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
도 3a는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 구조를 나타낸 도.
도 3b는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
***** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *****
313 : 유전체층 320 : 후면글라스 기판
321a: 제 1격벽 321b: 제 2격벽
321c: 제 3격벽 321c′: 제 3격벽재
322 : 어드레스 전극 323 : 형광체층
330 : 포토레지스트 332 : 포토마스크
H1 : 제 1격벽의 높이 H2 : 제 2격벽의 높이
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 구조에 관한 것으로써 더욱 자세하게는 전면기판에 유전체층을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하 "PDP"라 함)은 He+Xe 또는 Ne+Xe 불활성 혼합가스의 방전시 발생하는 147nm의 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP는 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 크게 향상된 화질을 제공한다.
특히, 3전극 교류 면방전형 PDP는 방전시 표면에 벽전하가 축적되며 방전에 의해 발생되는 스퍼터링으로부터 전극들을 보호하기 때문에 저전압 구동과 장수명의 장점을 가진다.
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 도시된 바와 같이 PDP(100)는 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 기판(10)과 후면을 이루는 후면 기판(20)이 일정거리를 두고 평행하게 결합된다.
전면 기판(10)은 하방에 하나의 화소에서 상호 방전에 의해 셀의 발광을 유지하기 위한 유지전극(11), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명전극(11a)과 금속재 질로 제작된 버스전극(11b)으로 구비된 유지전극(11)이 쌍을 이루며 형성된다.
유지전극(11)은 방전전류를 제한하며 전극쌍 간을 절연시켜주는 유전층(12)에 의해 덮혀 지고, 유전층(12) 상면에는 방전조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(13)이 형성된다.
후면 기판(20)은 복수개의 방전공간 즉, 셀을 형성시키기 위한 격벽(21)이 평행을 유지하여 배열되고 유지전극(11)과 교차되는 부위에서 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키게 되는 다수의 어드레스 전극(22)이 형성된다.
또한, 후면 기판(20)의 상측면은 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광층(23)이 도포된다.
또한, 전면 글라스 기판(10)과 후면 글라스 기판(20)은 봉착 공정에 의해 실링재인 프릿 글라스(Frit Glass)가 가소성되어 합착된 후, 패널 내부에 있는 불순물을 제거하기 위한 배기 공정이 수행된다.
배기 공정을 마친 패널은 플라즈마 방전시 방전효율을 높이기 위하여 헬륨(He), 네온(Ne), 크세논(Xe) 등과 같은 불활성 가스가 플라즈마 디스플레이 패널 내부로 주입된다.
이러한 구조를 갖는 종래의 방전은 후면 글라스 기판(20)의 어드레스 전극(22)과 전면 글라스 기판(10)의 유지전극(11)간에 어드레스 방전 후, 선택된 셀에 대한 연속적인 디스플레이 방전이 이어진다. 그리고 방전 시, 발생한 진공자외선이 형광체를 여기시켜 가시 광선을 방출함으로써 원하는 화상을 얻게 된다.
이와 같은 구조를 갖는 종래 플라즈마 디스플레이 패널은 크게 유리기판 제 조 공정, 전면 패널 제조 공정, 후면 패널 제조 고정, 조립공정을 거쳐 형성된다.
특히, 상술한 플라즈마 디스플레이 패널 제조 공정 중 후면 패널의 제조공정을 살펴보면 다음과 같다.
도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 격벽구조는 다음과 같은 공정에 의해 형성된다.
먼저, (a) 단계에서는 후면 글라스 기판 상부(220)에 일정한 폭과 높이를 갖는 어드레스 전극(222)을 형성하며, (b) 단계에서는 어드레스 전극(222) 상부에 유전체층(213b)을 형성한다.
이후, (c) 단계에서는 유전체층(213b) 상부에 격벽재(221′)층을 형성하며, (d) 단계에서는 격벽재(221) 상부에 포토레지스트(230)를 도포한다.
이후, (e) 단계에서는 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(232)를 포토레지스트(230) 상부에 올려놓고, 광을 조사하여 포토레지스트(230)를 경화시킨다. 이러한 공정을 노광공정이라한다.
이후, (f) 현상공정을 통하여 경화되지 않은 포토레지스트(230)를 세척한 후, (g) 단계에서 식각을 한다.
이후, (h) 단계에서는 포토레지스트(230)를 제거하고 건조를 한 후, 소성함으로써 인접한 셀간의 크로스톡(Crosstalk)현상을 방지하기 위한 격벽(221)이 형성된다.
이후, (i) 단계에서는 격벽(221) 사이에 형광체층(223)을 도포하여, 소성을 하면 후면 글라스 기판(20)이 형성된다.
그러나, 상술한 바와 같이 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 도 2와 같은 종래의 후면 패널의 제조방법은 형광체 도포면적이 작아 휘도 및 효율이 떨어지고 구동특성도 저하되는 문제점이 발생한다. 또한, 어드레스전극과 방전사이의 거리가 멀어지므로 구동특성도 저하된다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 후면 글라스기판에 식각에 의한 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽을 동일하게 형성하고, 제 2격벽상부에 어드레스전극을 형성하며, 제 1격벽상부에 제 3격벽을 형성함으로써, 셀방전공간에 형광체층이 도포되는 면적을 최대로 하여 휘도 및 효율을 향상시킨다. 또한, 어드레스전극과 방전사이의 거리가 가까워지므로 구동특성도 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 격벽은 제 1격벽과 제 2격벽 및 제 3격벽을 포함하고, 식각에 의한 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽이 후면 글라스기판에 형성되며, 제 2격벽상부에 어드레스전극이 형성되고, 제 1격벽상부에 제 3격벽이 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 제 2격벽의 높이는 제 1격벽의 높이보다 작거나 같은 것을 특징으로 한다.
또한, 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 셀방전공간에 돌출된 제 2격벽이 형성되도록 후면 글라스기판을 식각하는 단계,
제 2격벽상부에 어드레스 전극을 형성하는 단계,
셀방전공간에 상기 어드레스전극이 덮히도록 유전체층을 형성하는 단계,
제 1격벽상부에 제 3격벽을 형성하는 단계 및
셀방전공간에 형광체층이 도포되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 식각공정은 샌드블라스팅 공법을 이용하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제 2격벽의 높이는 제 1격벽의 높이보다 작거나 같은것을 특징으로 한다.
또한, 제 3격벽은 스크린 프린트 공법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 3a는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 구조를 나타낸 도이다. 도 3a에 도시된 바와 같이, 식각에 의한 제 1격벽(321a) 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽(321b)이 후면 글라스기판(320)에 형성된다.
이때, 제 2격벽(321b)상부에 어드레스전극(322)이 형성되고 제 1격벽(321a)상부에 제 3격벽(321c)이 형성된다.
이때, 제 2격벽(321b)의 높이(H2)는 제 1격벽(321a)의 높이(H1)보다 작거나 같게 형성된다. 그러나, 제 2격벽(321b)의 높이(H2)는 제 1격벽(321a)의 높이(H1)와 같게 형성되는 것이 바람직하다.
상술한 바와 같이, 후면 글라스기판에 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽이 동일하게 형성되고, 제 2격벽상부에 어드레스전극이 형성되며, 제 1격벽상부에 제3격벽을 형성됨으로써, 셀방전공간에 형광체층이 도포되는 면적을 최대로 하여 휘도 및 효율을 향상시킨다. 또한, 어드레스전극과 방전사이의 거리가 가까워지므로 구동특성도 개선된다.
도 3b는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 제조공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다. 도 3a에 도시된 바와 같이, 격벽구조는 다음과 같은 공정에 의해 형성된다.
먼저, (a) 단계에서는 후면 글라스기판(320)을 제 1격벽(321a) 및 제 1격벽(321a)사이의 셀방전공간에 돌출된 제 2격벽(321b)이 형성되도록 샌드블라스팅 공법으로 식각한다.
이때, 제 2격벽(321b)의 높이(H2)는 제 1격벽(321a)의 높이(H1)보다 작거나 같게 형성된다. 그러나, 제 2격벽(321b)의 높이(H2)는 제 1격벽(321a)의 높이(H1)와 같게 형성되는 것이 바람직하다.
이후, (b) 단계에서는 제 2격벽(321b)상부에 어드레스전극(322)을 형성한다.
이때, 제 2격벽(321b)상부에 어드레스전극(322)을 형성하면 방전사이의 거리 가 가까워지므로 구동특성이 개선된다.
(c) 단계에서는 셀방전공간에 어드레스전극(322)이 덮히도록 유전체층(313)을 형성한다.
이후, (d) 단계에서는 제 1격벽(321a)상부에 제 3격벽재(321c′)층을 형성하고, (e) 단계에서는 제 3격벽재(321c′) 상부에 포토레지스트(330)를 도포한다.
이후, (f) 단계에서는 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(332)를 포토레지스트(330) 상부에 올려놓고, 광을 조사하여 포토레지스트(330)를 경화시킨다. 이러한 공정을 노광공정이라한다.
이후, (g) 단계에서는 현상공정을 통하여 경화되지 않은 포토레지스트(330)를 세척하고, (h) 단계에서는 식각을 한다.
이후, (i) 단계에서는 포토레지스트(330)를 제거하고 건조를 한 후, 소성함으로써 제 3격벽(321c)이 형성되는데, 이때 제 3격벽(321c)은 스크린 프린트 공법을 이용하여 형성된다.
이후, (j) 단계에서는 셀방전공간에 형광체층(323)이 도포되며, 소성을 하면 후면 글라스 기판(320)이 형성된다. 이때, 형광체층(323)이 도포되는 면적이 최대가 되어 휘도 및 효율은 향상된다.
상술한 바와 같이, 후면 글라스기판에 식각에 의한 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽을 동일하게 형성하고, 제 2격벽상부에 어드레스전극을 형성하며, 제 1격벽상부에 제 3격벽을 형성함으로써, 셀방전공간에 형광체층이 도포되는 면적을 최대로 하여 휘도 및 효율을 향상시킨다. 또한, 어드레스전 극과 방전사이의 거리가 가까워지므로 구동특성도 개선된다.
이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 있어서, 후면 글라스기판에 식각에 의한 제 1격벽과 제 2격벽을 형성하고, 제 3격벽을 제 1격벽상부에 형성함으로써, 셀방전공간에 형광체층이 도포되는 면적을 크게하여 휘도 및 효율을 향상시킨다. 또한, 어드레스전극과 방전사이의 거리가 가까워지므로 구동특성도 개선되는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,
    상기 격벽은 제 1격벽과 제 2격벽 및 제 3격벽을 포함하고,
    식각에 의한 상기 제 1격벽 및 상기 제 1격벽사이의 방전공간에 돌출된 제 2격벽이 유리기판에 형성되며,
    상기 제 2격벽상부에 어드레스전극이 형성되고,
    상기 제 1격벽상부에 상기 제 3격벽이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2격벽의 높이는 상기 제 1격벽의 높이보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1격벽 및 제 1격벽사이의 셀방전공간에 돌출된 제 2격벽이 형성되도록 유리기판을 식각하는 단계,
    상기 제 2격벽상부에 어드레스 전극을 형성하는 단계,
    상기 셀방전공간에 상기 어드레스전극이 덮히도록 유전체층을 형성하는 단계,
    상기 제 1격벽상부에 제 3격벽을 형성하는 단계 및
    상기 셀방전공간에 형광체층이 도포되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 식각공정은 샌드블라스팅 공법을 이용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 제 2격벽의 높이는 상기 제 1격벽의 높이보다 작거나 같은것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 제 3격벽은 스크린 프린트 공법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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