JP2007054734A - Powder recovery device and film forming system with powder recovery device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a powder recovery device capable of performing recovery and reuse of a material particle easily and efficiently. <P>SOLUTION: The film forming system is provide in which a powder recovery device 30 is connected to a system body 10, and a recovery wall portion 32 is provided in a separation tank 31, and a material particle M that is contained in an aerosol Z hits on the recovery wall portion 32 and adheres thereon, and is thereby separated from a gas, at the time when since a collision surface of the material particle M with the aerosol Z is made to be an inclined surface 33 in the recovery wall portion 32, collision energy of the material particle M on the inclined surface 33 becomes small and the material particle M adheres on the recovery wall portion 32 with weak adhesion, whereby the material particle M can be easily stripped from the recovery wall portion 32 and provided for reuse. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、粉体回収装置、および粉体回収装置付き成膜装置に関する。   The present invention relates to a powder recovery apparatus and a film forming apparatus with a powder recovery apparatus.

例えばインクジェットプリンタのプリンタヘッド等に用いられる圧電アクチュエータ等の製造方法として、エアロゾルデポジション法(AD法)と呼ばれるものがある。これは、圧電材料の微粒子を気体中に分散させたもの(エアロゾル)を基板表面に向けて噴射させ、この微粒子を基板上に衝突・堆積させることにより圧電膜を形成するものである。   For example, there is a method called an aerosol deposition method (AD method) as a method for manufacturing a piezoelectric actuator or the like used for a printer head or the like of an ink jet printer. In this method, a piezoelectric film is formed by spraying fine particles of a piezoelectric material dispersed in a gas (aerosol) toward a substrate surface and colliding and depositing the fine particles on the substrate.

ところで、このAD法による成膜では、噴射された微粒子のうち基板に付着して膜の生成に寄与するのは多くても1割程度であり、材料の利用率が極めて低い。このため、例えば特許文献1に開示されているように、成膜装置に粉体回収装置を接続して使用後のエアロゾルから微粒子を回収し、再利用しようとする試みが行われている。
特開2003−119573公報
By the way, in the film formation by this AD method, at most about 10% of the injected fine particles adhere to the substrate and contribute to the formation of the film, and the utilization rate of the material is extremely low. For this reason, for example, as disclosed in Patent Document 1, an attempt has been made to collect a fine particle from an aerosol after use by connecting a powder collecting device to a film forming device and to reuse it.
JP 2003-119573 A

しかし、エアロゾルデポジション法が減圧下で成膜を行うものであることと、材料粒子の特性等から、従来の粉体回収方法をそのまま用いたのでは種々の不都合が生じる。例えば、電気集塵機を用いる方法では、材料であるセラミックスの粒子が極性を帯びにくいものであるために、効率の良い捕集が難しい。また、フィルタや衝突板を利用して材料粒子を捕集する方法では、成膜時に基板への衝突によって活性の高い新生面が露出された材料粒子が、フィルタや衝突板に強固に付着してしまう。このため、メンテナンスに多大な時間と労力を要するという問題がある。   However, various problems arise if the conventional powder recovery method is used as it is because the aerosol deposition method forms a film under reduced pressure and the characteristics of the material particles. For example, in a method using an electrostatic precipitator, ceramic particles as a material are difficult to be polarized, so that efficient collection is difficult. Further, in the method of collecting material particles using a filter or a collision plate, the material particles exposed with a new active surface due to collision with the substrate during film formation adhere firmly to the filter or the collision plate. . For this reason, there is a problem that a lot of time and labor are required for maintenance.

本発明は、上記した事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、エアロゾルデポジション法による膜形成において、簡易かつ効率的に材料粒子の回収、再利用を図ることのできる粉体回収装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a powder recovery apparatus that can easily and efficiently recover and reuse material particles in film formation by the aerosol deposition method. Is to provide.

上記の課題を解決するための請求項1の発明に係る粉体回収装置は、材料粒子を気体中に分散させたエアロゾルを基板に噴き付けて前記粒子を付着させることにより膜を形成する膜形成装置に接続されるとともに、前記エアロゾルから前記材料粒子を回収する粉体回収装置であって、前記膜形成装置に接続されて前記基板に噴き付けた後の前記エアロゾルが流される分離槽と、前記分離槽内に前記エアロゾルの流れに相対して設けられるとともに前記エアロゾルの流路方向に対して斜めに傾く傾斜面を備えた回収壁部と、前記分離槽に連通する排気路と、この排気路に設けられるとともに前記材料粒子と分離された前記気体を前記分離槽外へ排気する排気手段と、を備えるものである。   A powder recovery apparatus according to the invention of claim 1 for solving the above-mentioned problem is a film formation in which an aerosol in which material particles are dispersed in a gas is sprayed on a substrate to form the film by adhering the particles. A powder recovery device that is connected to a device and recovers the material particles from the aerosol, wherein the separation tank is connected to the film forming device and flows the aerosol after spraying on the substrate; and A recovery wall portion provided in the separation tank relative to the aerosol flow and having an inclined surface inclined with respect to the flow path direction of the aerosol, an exhaust path communicating with the separation tank, and the exhaust path And an exhaust means for exhausting the gas separated from the material particles to the outside of the separation tank.

ここで、「材料粒子と分離された」とは、気体から材料粒子が完全に取り除かれた状態のみを意味するのではなく、材料粒子の一部のみが取り除かれて粒子濃度が低くなった状態も含む意である。   Here, “separated from the material particles” does not mean that the material particles are completely removed from the gas, but only a part of the material particles is removed and the particle concentration is low. Is meant to include.

請求項2の発明は、請求項1に記載の粉体回収装置であって、前記エアロゾルの流路方向に対して垂直な面からの前記傾斜面の傾き角度が30°以上とされたものである。   A second aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to the first aspect, wherein an inclination angle of the inclined surface with respect to a plane perpendicular to a flow direction of the aerosol is 30 ° or more. is there.

請求項3の発明は、請求項1に記載の粉体回収装置であって、前記傾斜面のビッカース硬度がHV400以上とされたものである。   A third aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to the first aspect, wherein the inclined surface has a Vickers hardness of HV400 or more.

請求項4の発明は、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の粉体回収装置であって、前記傾斜面が前記分離槽において前記エアロゾルの流路の下流側へ向かって下り勾配となる下向き傾斜面とされたものである。   Invention of Claim 4 is a powder collection | recovery apparatus in any one of Claims 1-3, Comprising: The said inclined surface is a downward gradient toward the downstream of the flow path of the said aerosol in the said separation tank. This is a downward inclined surface.

請求項5の発明は、記請求項1〜請求項4のいずれかに記載の粉体回収装置であって、前記傾斜面が前記エアロゾルの流路を塞ぐように設けられているとともに、前記排気路が前記傾斜面よりも上流側において前記分離槽に連通しているものである。   A fifth aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the inclined surface is provided so as to block the flow path of the aerosol, and the exhaust gas is provided. A path communicates with the separation tank on the upstream side of the inclined surface.

請求項6の発明は、請求項5に記載の粉体回収装置であって、前記分離槽は、前記成膜装置に接続する接続位置における開口面積が前記排気路と連通する連通位置における断面積よりも大きくされたものである。   A sixth aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to the fifth aspect, wherein the separation tank has a cross-sectional area at a communication position where an opening area at a connection position connected to the film forming apparatus communicates with the exhaust passage. It is made larger than.

請求項7の発明は、請求項1〜請求項6のいずれかに記載の粉体回収装置であって、前記分離槽の底部に前記材料粒子を排出するための粉末排出路が設けられているとともに、前記回収壁部が前記分離槽の内壁面に沿って前記分離槽内を摺動可能とされたものである。   A seventh aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to any one of the first to sixth aspects, wherein a powder discharge path for discharging the material particles is provided at the bottom of the separation tank. At the same time, the recovery wall portion is slidable in the separation tank along the inner wall surface of the separation tank.

請求項8の発明は、請求項7に記載の粉体回収装置であって、前記排気路が、前記分離槽内における前記回収壁部の可動領域よりも上流側において前記分離槽に連通しているものである。   The invention of claim 8 is the powder recovery apparatus according to claim 7, wherein the exhaust passage communicates with the separation tank upstream of the movable region of the recovery wall portion in the separation tank. It is what.

請求項9の発明は、請求項8に記載の粉体回収装置であって、前記排気路が、前記分離槽の天井部に接続されていることを特徴とする。   A ninth aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to the eighth aspect, wherein the exhaust passage is connected to a ceiling portion of the separation tank.

請求項10の発明は、請求項1〜請求項9のいずれかに記載の粉体回収装置であって、前記排気路が前記エアロゾルの流路方向に対して傾きをもって接続されているものである。   A tenth aspect of the present invention is the powder recovery apparatus according to any one of the first to ninth aspects, wherein the exhaust path is connected with an inclination with respect to the flow path direction of the aerosol. .

請求項11の発明は、請求項1〜請求項10のいずれかに記載の粉体回収装置であって、前記分離槽が前記排気路を介して複数設けられているものである。   An eleventh aspect of the invention is the powder recovery apparatus according to any one of the first to tenth aspects, wherein a plurality of the separation tanks are provided via the exhaust passage.

請求項12の発明は、内部に基板が設置されるとともに、材料粒子を気体中に分散させたエアロゾルを前記基板に向けて噴射する噴射ノズルを備えた成膜室と、前記成膜室に連通して前記基板に噴き付けた後の前記エアロゾルが流される分離槽と、前記分離槽内に前記エアロゾルの流路に相対して設けられるとともに前記エアロゾルの流路方向に対して斜めに傾く傾斜面を備えた回収壁部と、前記分離槽に連通する排気路と、この排気路に設けられるとともに前記材料粒子と分離された前記気体を前記分離槽外へ排気する排気手段と、を備えた粉体回収装置付き成膜装置である。   According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a film forming chamber provided with an injection nozzle for injecting an aerosol, in which material particles are dispersed in a gas, toward the substrate, and a substrate is disposed therein, and communicates with the film forming chamber. A separation tank in which the aerosol after being sprayed on the substrate flows, and an inclined surface which is provided in the separation tank so as to be opposed to the flow path of the aerosol and which is inclined with respect to the flow path direction of the aerosol A powder comprising: a recovery wall provided with: an exhaust passage communicating with the separation tank; and an exhaust means provided in the exhaust passage and exhausting the gas separated from the material particles to the outside of the separation tank. A film forming apparatus with a body recovery apparatus.

請求項1および請求項12の発明によれば、粉体回収装置において、分離槽内には回収壁部が備えられている。そして、エアロゾルに含まれる材料粒子がこの回収壁部に衝突して付着することにより、材料粒子が気体から分離される。しかし、成膜時と同様に材料粒子が衝突面に強く密着したのでは、この材料粒子を回収壁部から剥ぎ取って再利用に供するのに多大な手間がかかってしまう。そこで、本発明では、衝突面を傾斜面とすることとした。このようにすれば、材料粒子は傾斜面に対して斜め方向から衝突することとなり、傾斜面への入射角が小さくなるため、その衝突エネルギーが、垂直方向から衝突する場合と比べて小さくなる。このため、付着した材料粒子の回収壁部への密着力は弱くなるから、容易に材料粒子を回収壁部から剥離して再利用に供することができる。これにより、材料粒子を簡易に回収・再利用することができる。   According to the first and twelfth aspects of the present invention, in the powder recovery apparatus, the separation wall is provided in the separation tank. Then, the material particles contained in the aerosol collide with and adhere to the recovery wall portion, whereby the material particles are separated from the gas. However, if the material particles are in close contact with the collision surface as in the case of film formation, it takes a lot of trouble to peel off the material particles from the collection wall and reuse them. Therefore, in the present invention, the collision surface is an inclined surface. By doing so, the material particles collide with the inclined surface from an oblique direction, and the incident angle to the inclined surface becomes small, so that the collision energy becomes smaller than that when colliding from the vertical direction. For this reason, since the adhesion force of the adhering material particles to the recovery wall portion becomes weak, the material particles can be easily peeled off from the recovery wall portion and reused. Thereby, the material particles can be easily collected and reused.

請求項2の発明によれば、傾斜面の傾き角度が30°以上とされている。このように、傾斜面への材料粒子の入射角度をある一定の角度以下とすることによって、材料粒子の傾斜面への衝突エネルギーを、材料粒子の破砕か傾斜面へのめり込みが生じず、分子間力(ファンデルワールス力や静電気力)のみによって傾斜面に付着する程度に小さくすることができる。これにより、容易に材料粒子を回収壁部から剥離して再利用に供することができる。   According to invention of Claim 2, the inclination angle of an inclined surface shall be 30 degrees or more. In this way, by making the incident angle of the material particles on the inclined surface below a certain angle, the collision energy of the material particles on the inclined surface does not cause crushing of the material particles or sinking into the inclined surface, and the intermolecular It can be reduced to such an extent that it adheres to the inclined surface only by force (Van der Waals force or electrostatic force). As a result, the material particles can be easily peeled off from the collection wall and reused.

請求項3の発明によれば、傾斜面のビッカース硬度がHV400以上である。このように、傾斜面を所定以上の硬度を有するものとすれば、材料粒子が傾斜面にめり込むことができないため、堆積した材料粒子層の傾斜面との界面でのアンカー効果を小さくすることができる。したがって、容易に材料粒子を回収壁部から剥離して再利用に供することができる。   According to invention of Claim 3, the Vickers hardness of an inclined surface is HV400 or more. Thus, if the inclined surface has a hardness of a predetermined level or more, the material particles cannot sink into the inclined surface, so that the anchor effect at the interface with the inclined surface of the deposited material particle layer can be reduced. it can. Therefore, the material particles can be easily peeled off from the collection wall and reused.

請求項4の発明によれば、傾斜面が下向きとされている。このような構成によれば、傾斜面にいったん付着・堆積した材料粒子が、自重により傾斜面から剥がれて落下する。したがって、材料粒子を回収壁部から剥ぎ落とす手間を省くことができ、回収作業を省力化できる。   According to the invention of claim 4, the inclined surface is directed downward. According to such a configuration, the material particles once adhered and deposited on the inclined surface are peeled off from the inclined surface by their own weight and fall. Therefore, the trouble of peeling off the material particles from the recovery wall portion can be saved, and the recovery work can be saved.

請求項5の発明によれば、傾斜面はエアロゾルの流路を塞ぐように設けられている。このような構成によれば、エアロゾルが傾斜面を迂回して裏側へ逃げることがなくなり、分離槽内を流れるエアロゾルが全て傾斜面で受けられることとなる。加えて、エアロゾルは傾斜面にぶつかることにより、急激に向きを変えられて排気路の方へと流れていくこととなるから、分離槽の内周面と傾斜面とで作られる角部付近ではエアロゾルの滞留が起こり、比較的粒径の小さな材料粒子が吹き溜りとなって蓄積される。これにより、材料粒子の回収率を高めることができる。   According to the invention of claim 5, the inclined surface is provided so as to block the flow path of the aerosol. According to such a configuration, the aerosol bypasses the inclined surface and does not escape to the back side, and all the aerosol flowing in the separation tank is received by the inclined surface. In addition, because the aerosol hits the inclined surface, it will suddenly change direction and flow toward the exhaust path, so in the vicinity of the corner formed by the inner peripheral surface of the separation tank and the inclined surface Aerosol stagnation occurs and material particles with a relatively small particle size accumulate as a puddle. Thereby, the collection rate of material particles can be increased.

請求項6の発明によれば、分離槽において、成膜装置に接続する接続口における開口面積が、排気路と連通する連通領域における断面積よりも大きくされている。このような構成によれば、排気路との連通口付近、すなわち断面積の狭い領域を通過する際にエアロゾルの流速が速められる。このため、エアロゾルに含まれる材料粒子は、排気路側へ漏れ出すことなく一気に分離槽の奥方へ進入していく。そして、回収壁部に衝突して流れが遅くなるとともに材料粒子と分離された気体のみが、Uターンして排気路へと吸引されていく。これにより、排気路が回収壁部の上流側に設けられていても、材料粒子の排気路側への流出を低減でき、材料粒子の回収率を高めることができる。   According to the invention of claim 6, in the separation tank, the opening area at the connection port connected to the film forming apparatus is made larger than the cross-sectional area in the communication region communicating with the exhaust passage. According to such a configuration, the flow velocity of the aerosol is increased when passing through the vicinity of the communication port with the exhaust passage, that is, through a region having a narrow cross-sectional area. For this reason, the material particles contained in the aerosol enter the depth of the separation tank at once without leaking to the exhaust path side. Then, only the gas separated from the material particles is U-turned and sucked into the exhaust passage while the flow is slowed by colliding with the recovery wall portion. Thereby, even if the exhaust path is provided on the upstream side of the recovery wall portion, the outflow of the material particles to the exhaust path side can be reduced, and the recovery rate of the material particles can be increased.

請求項7の発明によれば、回収壁部の摺動により、傾斜面にいったん付着した後に分離槽の底面に落下した材料粒子や、分離槽の内周面に付着した材料粒子をかき寄せて、分離槽の底部に設けられた粉末排出路に運ぶことができる。これにより、装置の運転を止めて回収壁部を取り外す、といった煩雑な手順を経ることなく、分離槽内の材料粒子を装置外へ排出することができ、便利である。   According to the invention of claim 7, by sliding the recovery wall portion, scraping the material particles that once adhered to the inclined surface and then dropped to the bottom surface of the separation tank, or the material particles adhered to the inner peripheral surface of the separation tank, It can be carried to a powder discharge passage provided at the bottom of the separation tank. Thereby, the material particles in the separation tank can be discharged out of the apparatus without going through the complicated procedure of stopping the operation of the apparatus and removing the collection wall portion, which is convenient.

請求項8の発明によれば、排気路は、分離槽内における前記回収壁部の可動領域よりも上流側に設けられている。このような構成によれば、回収壁部が最大限上流側に駆動されても、排気路を塞ぐことがないから、成膜装置から分離槽を経て排気路へ至る気流が妨げられることがない。このため、装置の運転を止めることなく、回収壁部を駆動して材料粒子を装置外へ排出することができる。   According to invention of Claim 8, the exhaust path is provided in the upstream from the movable area | region of the said collection | recovery wall part in a separation tank. According to such a configuration, even if the recovery wall portion is driven to the maximum upstream side, the exhaust path is not blocked, so that the airflow from the film forming apparatus to the exhaust path through the separation tank is not hindered. . For this reason, it is possible to drive the recovery wall portion and discharge the material particles to the outside of the apparatus without stopping the operation of the apparatus.

請求項9の発明によれば、排気路は、分離槽の天井部に接続されている。このような構成によれば、例えば排気路が分離槽の側面や下面に接続される場合と比較して、回収壁部の摺動により分離槽の底面にかき寄せられた材料粒子が排気路へ入り込むおそれが少なくなるため、材料粒子の回収率を高めることができる。   According to the invention of claim 9, the exhaust passage is connected to the ceiling portion of the separation tank. According to such a configuration, for example, compared with a case where the exhaust path is connected to the side surface or the lower surface of the separation tank, the material particles scraped to the bottom surface of the separation tank by sliding of the recovery wall portion enter the exhaust path. Since there is less fear, the recovery rate of material particles can be increased.

請求項10の発明によれば、排気路がエアロゾルの流路方向に対して傾きをもって接続されている。このような構成によれば、エアロゾルは分離槽から排気路に進入する際に急激に進行方向を変えられる。このときエアロゾル内の粒子には慣性力が働くため、排気路へと方向転換したガスの流れに追従するよりも分離槽内で滞留するガスの流れに移りやすい。これにより、材料粒子の運動エネルギーが低下し、壁面への付着や吹き溜まりを生じやすくなるから、材料粒子の回収率を高めることができる。   According to the invention of claim 10, the exhaust path is connected with an inclination with respect to the flow path direction of the aerosol. According to such a configuration, when the aerosol enters the exhaust path from the separation tank, the traveling direction can be rapidly changed. At this time, the inertial force acts on the particles in the aerosol, so that the flow of the gas staying in the separation tank is easier to follow than the flow of the gas redirected to the exhaust path. As a result, the kinetic energy of the material particles is reduced, and adhesion to the wall surface and scumming are likely to occur, so that the recovery rate of the material particles can be increased.

請求項11の発明によれば、分離槽が多段に設けられている。このような構成によれば、一の分離槽において回収しきれなかった材料粒子を、その下流に接続された分離槽において回収することができるから、装置全体としての材料粒子の回収率を高めることができる。   According to invention of Claim 11, the separation tank is provided in multistage. According to such a configuration, material particles that could not be recovered in one separation tank can be recovered in a separation tank connected downstream thereof, so that the recovery rate of the material particles as a whole apparatus is increased. Can do.

<第1実施形態>
以下、本発明を具体化した第1実施形態について、図1〜図4を参照しつつ詳細に説明する。図1には、本実施形態の粉体回収装置付き成膜装置1(以下、単に「成膜装置1」と記す)の概略図を示す。この成膜装置1は、装置本体10と、この装置本体10に接続された粉体回収装置30とを備えている。
<First Embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 1 shows a schematic view of a film forming apparatus 1 with a powder recovery apparatus of the present embodiment (hereinafter simply referred to as “film forming apparatus 1”). The film forming apparatus 1 includes an apparatus main body 10 and a powder recovery apparatus 30 connected to the apparatus main body 10.

装置本体10は、材料粒子Mをキャリアガスに分散させてエアロゾルZを形成するエアロゾル発生器11、およびエアロゾルZを噴射ノズル17から噴出させて基板Bに付着させるための成膜チャンバ15を備えている。   The apparatus main body 10 includes an aerosol generator 11 that forms an aerosol Z by dispersing material particles M in a carrier gas, and a film forming chamber 15 that ejects the aerosol Z from an injection nozzle 17 and adheres it to the substrate B. Yes.

エアロゾル発生器11は、内部に材料粒子Mを収容可能なエアロゾル室12と、このエアロゾル室12に取り付けられてエアロゾル室12を振動する加振装置13とを備えている。エアロゾル室12には、キャリアガスを導入するためのガスボンベGが導入管14を介して接続されている。導入管14の先端はエアロゾル室12内部において底面付近に位置し、材料粒子M中に埋没するようにされている。キャリアガスとしては、例えばヘリウム、アルゴン、窒素等の不活性ガスや空気、酸素等を使用することができる。   The aerosol generator 11 includes an aerosol chamber 12 that can accommodate material particles M therein, and a vibration device 13 that is attached to the aerosol chamber 12 and vibrates the aerosol chamber 12. A gas cylinder G for introducing a carrier gas is connected to the aerosol chamber 12 via an introduction pipe 14. The distal end of the introduction tube 14 is located near the bottom surface in the aerosol chamber 12 and is embedded in the material particles M. As the carrier gas, for example, an inert gas such as helium, argon, or nitrogen, air, oxygen, or the like can be used.

成膜チャンバ15は矩形箱状に形成され、その内部には、膜を形成する基板Bを取り付けるためのステージ16と、このステージ16の下方に設けられた噴射ノズル17とが設置されている。噴射ノズル17はエアロゾル供給管18を介してエアロゾル室12に接続されており、エアロゾル室12内のエアロゾルZがエアロゾル供給管18を通って噴射ノズル17に供給されるようになっている。噴射ノズル17に供給されたエアロゾルZは、ステージ16にセットされた基板Bに向かって噴射される。また、この成膜チャンバ15には後述の粉体回収装置30を介して真空ポンプP(本発明の排気手段に該当する)が接続されており、その内部を減圧できるようにされている。   The film forming chamber 15 is formed in a rectangular box shape, and a stage 16 for mounting a substrate B on which a film is to be formed and an injection nozzle 17 provided below the stage 16 are installed. The injection nozzle 17 is connected to the aerosol chamber 12 through an aerosol supply pipe 18, and the aerosol Z in the aerosol chamber 12 is supplied to the injection nozzle 17 through the aerosol supply pipe 18. The aerosol Z supplied to the spray nozzle 17 is sprayed toward the substrate B set on the stage 16. Further, a vacuum pump P (corresponding to the exhaust means of the present invention) is connected to the film forming chamber 15 via a powder recovery device 30 described later so that the inside thereof can be decompressed.

この成膜チャンバ15の内部には、内壁面に付着した材料粒子Mをかき落とすためのスキージ19が設けられている。スキージ19は、成膜チャンバ15における4面の内壁に沿ってそれぞれ一つずつ設けられている。各スキージ19は、各辺が成膜チャンバ15における4面の内壁にそれぞれ沿う矩形枠状に形成された支持枠20に固定されている。そして、この支持枠20が図示しない駆動装置によって上下方向に駆動されると、スキージ19が成膜チャンバ15の内壁に沿って上下方向に駆動され、材料粒子Mをかき落とすようになっている。なお、支持枠20が枠状に形成されていることで、この支持枠20が上下する際には、ステージ16や噴射ノズル17が支持枠20と衝突することなくこの枠内を通過できるようになっている。   A squeegee 19 for scraping off the material particles M adhering to the inner wall surface is provided inside the film forming chamber 15. One squeegee 19 is provided along each of four inner walls of the film forming chamber 15. Each squeegee 19 is fixed to a support frame 20 formed in a rectangular frame shape with each side along the four inner walls of the film forming chamber 15. When the support frame 20 is driven in the vertical direction by a driving device (not shown), the squeegee 19 is driven in the vertical direction along the inner wall of the film forming chamber 15 to scrape the material particles M. Since the support frame 20 is formed in a frame shape, the stage 16 and the injection nozzle 17 can pass through the frame without colliding with the support frame 20 when the support frame 20 moves up and down. It has become.

また、成膜チャンバ15の底部にはチャンバ側ホッパ21が設けられており、スキージ19によってかき落とされた材料粒子Mをここから外部に排出できるようになっている。このチャンバ側ホッパ21は、詳細には図示しないが、上下2段のバルブを備えたロックホッパ機構を有するものであり、この上下のバルブを交互に開くことにより、成膜チャンバ15内を減圧に保ちながら材料粒子Mの排出を行うことができるようになっている。すなわち、成膜は成膜チャンバ15内を減圧した状態で行うものである(詳細は後述する)が、このロックホッパ機構によれば、成膜装置1の運転を停止させることなく、材料粒子Mを外部に排出することができる。   A chamber-side hopper 21 is provided at the bottom of the film forming chamber 15 so that the material particles M scraped off by the squeegee 19 can be discharged from here. Although not shown in detail, the chamber-side hopper 21 has a lock hopper mechanism having upper and lower two-stage valves. By alternately opening the upper and lower valves, the inside of the film forming chamber 15 is decompressed. The material particles M can be discharged while being maintained. That is, the film formation is performed in a state where the inside of the film forming chamber 15 is depressurized (details will be described later). However, according to this lock hopper mechanism, the material particles M can be obtained without stopping the operation of the film forming apparatus 1. Can be discharged to the outside.

この成膜チャンバ15の側壁部には、粉体回収装置30が接続されている。この粉体回収装置30は、材料粒子Mをキャリアガスから分離するための分離槽31と、この分離槽31内に設けられた回収壁部32と、この分離槽31に連通する排気管36(本発明の排気路に該当する)とを備えている。   A powder recovery device 30 is connected to the side wall of the film forming chamber 15. The powder recovery apparatus 30 includes a separation tank 31 for separating the material particles M from the carrier gas, a collection wall 32 provided in the separation tank 31, and an exhaust pipe 36 ( Corresponding to the exhaust passage of the present invention).

分離槽31は、両端が開放された大径の筒状に形成されており、その一方の端部が成膜チャンバ15の側壁部に接続されることで、その延在方向が水平方向となる姿勢で成膜チャンバ15に取り付けられている。成膜チャンバ15の側壁部においてこの分離槽31との接続位置には、分離槽31の開口部とほぼ同じ大きさの排出口22が設けられており、成膜チャンバ15内で基板Bに吹き付けられた後のエアロゾルZが、この排出口22を通って分離槽31内に進入してくるようになっている(図2を併せて参照)。以下、この分離槽31において、成膜チャンバ15と接続されている側をエアロゾルZの流路方向(分離槽31の延在方向に沿う方向。図2中矢印で示す)上流側として説明する。   The separation tank 31 is formed in a large-diameter cylindrical shape whose both ends are open, and one end of the separation tank 31 is connected to the side wall of the film forming chamber 15 so that the extending direction becomes a horizontal direction. It is attached to the film forming chamber 15 in a posture. A discharge port 22 having the same size as the opening of the separation tank 31 is provided at a position where the separation tank 31 is connected to the side wall of the film formation chamber 15, and sprayed onto the substrate B in the film formation chamber 15. The aerosol Z that has been formed enters the separation tank 31 through the discharge port 22 (see also FIG. 2). Hereinafter, the side connected to the film forming chamber 15 in the separation tank 31 will be described as the upstream side of the flow path of the aerosol Z (the direction along the extending direction of the separation tank 31; indicated by an arrow in FIG. 2).

この分離槽31の内部には、ビッカース硬度がHV400以上の例えばステンレスによって形成された回収壁部32が設けられている。この回収壁部32は、分離槽31の内径とほぼ等しい大きさに形成されており、分離槽31において下流側(成膜チャンバ15に接続されている側とは逆側)の端部付近に、開口部を塞ぐように嵌め込まれている。   Inside the separation tank 31, there is provided a recovery wall portion 32 made of, for example, stainless steel having a Vickers hardness of HV400 or higher. The collection wall 32 is formed to have a size substantially equal to the inner diameter of the separation tank 31, and is near the end of the separation tank 31 on the downstream side (the side opposite to the side connected to the film forming chamber 15). It is fitted so as to close the opening.

この回収壁部32において上流側(成膜チャンバ15側)の壁面は、成膜チャンバ15から流入したエアロゾルZの流れに相対するとともに、その流路方向に対して斜めに傾く傾斜面33とされている。この傾斜面33は、エアロゾルZの流路方向下流側へ向かって下り勾配となる下向き傾斜面とされており、その傾き角度θは、エアロゾルZの流路方向、すなわち分離槽31の延在方向と垂直な面に対して約45°である。   The wall surface on the upstream side (film formation chamber 15 side) of the recovery wall portion 32 is an inclined surface 33 that is opposed to the flow of the aerosol Z flowing from the film formation chamber 15 and is inclined obliquely with respect to the flow path direction. ing. The inclined surface 33 is a downward inclined surface that is inclined downward toward the downstream side in the flow path direction of the aerosol Z, and the inclination angle θ is the flow path direction of the aerosol Z, that is, the extending direction of the separation tank 31. And about 45 ° with respect to a plane perpendicular to

また、この回収壁部32において下流側の壁面には、詳細には図示しないが、シリンダのピストン34が接続されており、このピストン34が駆動されることにより、回収壁部32が分離槽31の延在方向に沿って摺動可能とされている。   Although not shown in detail in the downstream wall surface of the recovery wall 32, a piston 34 of a cylinder is connected. When the piston 34 is driven, the recovery wall 32 is separated from the separation tank 31. It is made slidable along the extending direction.

この分離槽31の底部において、下流側の端部よりもやや上流側の位置には、分離槽側ホッパ35(本発明の粉末排出路に該当する)が接続されており、ここから、分離槽31内でエアロゾルZから分離された材料粒子Mを排出できるようになっている。この分離槽側ホッパ35は、上記したチャンバ側ホッパ21と同様に上下2段のバルブを備えたものであり、この上下のバルブを交互に開くことにより、分離槽31内を減圧に保ちながら材料粒子Mの排出を行うことができるようになっている。   A separation tank side hopper 35 (corresponding to the powder discharge path of the present invention) is connected to a position slightly upstream from the downstream end at the bottom of the separation tank 31, from which the separation tank The material particles M separated from the aerosol Z within 31 can be discharged. The separation tank side hopper 35 is provided with upper and lower two-stage valves like the chamber side hopper 21 described above. By alternately opening the upper and lower valves, the separation tank side hopper 35 is made of a material while keeping the inside of the separation tank 31 under reduced pressure. The particles M can be discharged.

また、この分離槽31の天井部において分離槽側ホッパ35よりもやや上流位置には、排気管36が設けられている。この排気管36は、軸方向が分離槽31の延在方向、すなわち分離槽31内でのエアロゾルZの流路方向に対して約90°の角度となるように接続されている。この排気管36の先端には真空ポンプP(本発明の排気手段)が設けられており、この真空ポンプPによって、成膜チャンバ15および分離槽31内部が減圧されるとともに、分離槽31内で材料粒子Mと分離されたキャリアガスが外部に排気される。なお、この排気管36は、回収壁部32の可動領域R(図4を併せて参照)よりも上流側において分離槽31に連通しており、回収壁部32を上流側に最大限移動させても排気が妨げられることがないようになっている。   Further, an exhaust pipe 36 is provided at a position slightly upstream from the separation tank side hopper 35 in the ceiling portion of the separation tank 31. The exhaust pipe 36 is connected so that the axial direction is at an angle of about 90 ° with respect to the extending direction of the separation tank 31, that is, the flow direction of the aerosol Z in the separation tank 31. A vacuum pump P (exhaust means of the present invention) is provided at the tip of the exhaust pipe 36, and the vacuum pump P depressurizes the inside of the film forming chamber 15 and the separation tank 31, and in the separation tank 31. The carrier gas separated from the material particles M is exhausted to the outside. The exhaust pipe 36 communicates with the separation tank 31 on the upstream side of the movable region R of the recovery wall portion 32 (see also FIG. 4), and moves the recovery wall portion 32 to the maximum upstream side. However, the exhaust is not hindered.

次に、この成膜装置1を用いて成膜を行うとともに、粉体回収装置30によって使用後のエアロゾルZから材料粒子Mを回収する方法について説明する。   Next, a method of performing film formation using the film forming apparatus 1 and recovering the material particles M from the used aerosol Z by the powder recovery apparatus 30 will be described.

まず、基板Bを成膜装置1のステージ16にセットするとともに、分離槽31内の回収壁部32を下流側の端部付近まで下げておき、この回収壁部32の下端と分離槽31の底面とが接する位置が分離槽側ホッパ35よりも下流側となるようにする。この状態で、真空ポンプPを作動させて成膜チャンバ15内を減圧する。次いで、エアロゾル室12の内部に、材料粒子Mとして例えば圧電セラミックス材料であるPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)の粒子を投入する。そして、ガスボンベGからキャリアガスを導入して、そのガス圧で材料粒子Mを舞い上がらせる。それととともに、加振装置13によってエアロゾル室12を振動することで、材料粒子Mとキャリアガスとを混合してエアロゾルZを発生させる。そして、エアロゾル室12と成膜チャンバ15との間の差圧により、エアロゾル室12内のエアロゾルZを高速に加速しつつ噴射ノズル17から噴出させる。噴出したエアロゾルZに含まれる材料粒子Mは基板Bに衝突して堆積し、この基板B上に膜を形成する。   First, the substrate B is set on the stage 16 of the film forming apparatus 1 and the recovery wall portion 32 in the separation tank 31 is lowered to the vicinity of the downstream end, and the lower end of the recovery wall portion 32 and the separation tank 31 are separated. The position in contact with the bottom surface is set downstream of the separation tank side hopper 35. In this state, the vacuum pump P is operated to depressurize the film forming chamber 15. Next, for example, PZT (lead zirconate titanate) particles, which are piezoelectric ceramic materials, are charged as material particles M into the aerosol chamber 12. Then, a carrier gas is introduced from the gas cylinder G, and the material particles M are caused to rise by the gas pressure. At the same time, the aerosol chamber 12 is vibrated by the vibration device 13, thereby mixing the material particles M and the carrier gas to generate the aerosol Z. Then, due to the differential pressure between the aerosol chamber 12 and the film forming chamber 15, the aerosol Z in the aerosol chamber 12 is ejected from the ejection nozzle 17 while being accelerated at a high speed. The material particles M contained in the ejected aerosol Z collide with the substrate B and deposit, and form a film on the substrate B.

基板Bに衝突した後のエアロゾルZは、図2中に矢印で示すように、成膜チャンバ15側面の排出口22から分離槽31内へ流入する。そして、真空ポンプPの吸引力によって排気管36へと吸引される。このとき、排気管36は分離槽31の延在方向、すなわち分離槽31内でのエアロゾルZの流路方向に対して約90°の角度をもって接続されている。このため、エアロゾルZは排気管36付近で急激に向きを変化させられるため、この排気管36付近で乱流が生じ(図3中太矢印で示す)、エアロゾルZの流れが遅くなる。このため、エアロゾルZ中の材料粒子Mが分離槽31の内周面との静電引力によってこの内周面に付着する。   The aerosol Z after colliding with the substrate B flows into the separation tank 31 from the discharge port 22 on the side surface of the film forming chamber 15 as indicated by an arrow in FIG. Then, it is sucked into the exhaust pipe 36 by the suction force of the vacuum pump P. At this time, the exhaust pipe 36 is connected at an angle of about 90 ° with respect to the extending direction of the separation tank 31, that is, the flow path direction of the aerosol Z in the separation tank 31. For this reason, since the direction of the aerosol Z is rapidly changed in the vicinity of the exhaust pipe 36, a turbulent flow is generated in the vicinity of the exhaust pipe 36 (indicated by a thick arrow in FIG. 3), and the flow of the aerosol Z is slowed. For this reason, the material particles M in the aerosol Z adhere to the inner peripheral surface by electrostatic attraction with the inner peripheral surface of the separation tank 31.

また、エアロゾル中に含まれる材料粒子Mのうちで比較的大きな粒子は、慣性力によって乱流に乗らずにまっすぐ進み、回収壁部32に衝突して堆積する。これにより、材料粒子Mがキャリアガスから分離される。このとき、後で剥ぎ取ることが困難でない程度の付着力をもって材料粒子Mが回収壁部32に付着するようにされている。すなわち、回収壁部32におけるエアロゾルZとの衝突面が傾斜面33とされ、材料粒子Mはこの傾斜面33に対して斜め方向から衝突するようにされている。したがって、材料粒子Mの衝突面への入射角が小さくなり、その衝突エネルギーが、垂直方向から衝突する場合と比べて小さくなる。また、排気管36付近で生じた乱流により、エアロゾルZの流速が低下しており、これによっても材料粒子Mの傾斜面33への衝突エネルギーが小さくなる。さらに、回収壁部32はビッカース硬度がHV400以上の硬い材料によって形成されているから、材料粒子Mが傾斜面33にめり込むことができず、堆積した材料粒子層の傾斜面33との界面でのアンカー効果が小さくなる。このように、材料粒子Mを回収壁部32に弱い密着力をもって付着させることによって、容易に材料粒子Mを回収壁部32から剥離して再利用に供することができるのである。   Further, among the material particles M contained in the aerosol, relatively large particles travel straight without being subjected to turbulent flow due to inertial force, collide with the collection wall portion 32, and accumulate. Thereby, the material particles M are separated from the carrier gas. At this time, the material particles M adhere to the collection wall 32 with an adhesive force that is not difficult to peel off later. That is, the colliding surface with the aerosol Z in the recovery wall portion 32 is an inclined surface 33, and the material particles M collide with the inclined surface 33 from an oblique direction. Therefore, the incident angle of the material particles M on the collision surface is reduced, and the collision energy is smaller than that in the case of collision from the vertical direction. Further, the turbulent flow generated in the vicinity of the exhaust pipe 36 reduces the flow velocity of the aerosol Z, and this also reduces the collision energy of the material particles M to the inclined surface 33. Furthermore, since the recovery wall portion 32 is formed of a hard material having a Vickers hardness of HV400 or more, the material particles M cannot sink into the inclined surface 33, and the deposited material particle layer is formed at the interface with the inclined surface 33. Anchor effect is reduced. Thus, by adhering the material particles M to the recovery wall portion 32 with a weak adhesion, the material particles M can be easily peeled off from the recovery wall portion 32 and reused.

また、この傾斜面33はエアロゾルZの流路の下流側へ向かって下り勾配となる下向き傾斜面とされている。このため、傾斜面に付着・堆積した材料粒子Mの層が徐々に厚くなっていくと、この材料粒子層が自重により傾斜面33から自然に剥がれ落ちる。したがって、材料粒子Mを回収壁部32から剥ぎ取る手間を省くことができ、回収作業を省力化できる。   Further, the inclined surface 33 is a downward inclined surface that is inclined downward toward the downstream side of the flow path of the aerosol Z. For this reason, when the layer of the material particles M adhering and depositing on the inclined surface gradually increases, the material particle layer is naturally peeled off from the inclined surface 33 by its own weight. Therefore, it is possible to save the trouble of peeling the material particles M from the collection wall portion 32, and the collection work can be saved.

さらに、エアロゾルZがこの回収壁部32に衝突して跳ね返されることによっても乱流が生じ(図3中太矢印)、特に分離槽31の底面と傾斜面33とで形成される鋭角な角部CにはエアロゾルZが滞留する領域が存在する。したがって、この角部Cには材料粒子Mの吹き溜まりが生じ、これによっても材料粒子Mがキャリアガスから分離される。   Furthermore, turbulent flow also occurs when the aerosol Z collides with the recovery wall portion 32 and bounces back (thick arrow in FIG. 3), and in particular, an acute corner portion formed by the bottom surface of the separation tank 31 and the inclined surface 33. C has a region where the aerosol Z stays. Therefore, material particles M are accumulated in the corners C, and the material particles M are also separated from the carrier gas.

材料粒子Mを分離した後のキャリアガスは、排気管36を通って外部に排気される。   The carrier gas after separating the material particles M is exhausted to the outside through the exhaust pipe 36.

さて、成膜装置1の運転を継続していくと、分離槽31内には分離された材料粒子Mが徐々に蓄積する。そこで、回収壁部32を駆動することにより、蓄積された材料粒子Mを外部に排出する(図4参照)。すなわち、ピストン34により回収壁部32を上流側へ押し出し、分離槽側ホッパ35の接続位置まで移動させる。すると、分離槽31の底面と傾斜面33とで形成される角部Cにおいて吹き溜まりとなった材料粒子Mや、傾斜面33いったんに付着した後に自重により剥がれ落ちた材料粒子Mが、分離槽側ホッパ35に落下して外部へ排出され、回収される。   Now, as the operation of the film forming apparatus 1 continues, the separated material particles M gradually accumulate in the separation tank 31. Therefore, by driving the collection wall 32, the accumulated material particles M are discharged to the outside (see FIG. 4). That is, the recovery wall portion 32 is pushed upstream by the piston 34 and moved to the connection position of the separation tank side hopper 35. As a result, the material particles M that have accumulated in the corners C formed by the bottom surface of the separation tank 31 and the inclined surface 33, or the material particles M that have adhered to the inclined surface 33 once and have fallen off due to their own weight are separated from the separation tank side. It falls on the hopper 35 and is discharged outside and collected.

また、成膜チャンバ15の内壁面にも材料粒子Mが飛散し、付着するため、成膜チャンバ15内の清掃を併せて行っても良い。すなわち、支持枠20を下方に向かって移動させると、この支持枠20に取り付けられたスキージ19によって壁面に付着した材料粒子Mがかき落される。かき落とされた材料粒子Mは、チャンバ側ホッパ21から外部へ排出され、回収される。   Further, since the material particles M scatter and adhere to the inner wall surface of the film forming chamber 15, the film forming chamber 15 may be cleaned together. That is, when the support frame 20 is moved downward, the material particles M attached to the wall surface are scraped off by the squeegee 19 attached to the support frame 20. The material particles M scraped off are discharged from the chamber-side hopper 21 to the outside and collected.

このとき、上記したように、2つのホッパ21、35はロックホッパ構造となっているので、成膜チャンバ15および分離槽31内を減圧に保ったまま材料粒子Mの排出を行うことができる。加えて、排気管36が、分離槽31内において回収壁部32の可動領域Rよりも上流側に設けられている。したがって、回収壁部32が最大限上流側に駆動されても、排気管36が塞がれることがないから、成膜チャンバ15から分離槽31を経て排気管36へ至る気流が妨げられることがない。これらより、成膜装置1の運転を止めることなく、材料粒子Mの排出作業を行うことができる。   At this time, as described above, since the two hoppers 21 and 35 have a lock hopper structure, the material particles M can be discharged while keeping the inside of the film forming chamber 15 and the separation tank 31 at a reduced pressure. In addition, the exhaust pipe 36 is provided in the separation tank 31 on the upstream side of the movable region R of the recovery wall portion 32. Therefore, even if the recovery wall portion 32 is driven to the maximum upstream side, the exhaust pipe 36 is not blocked, so that the airflow from the film forming chamber 15 to the exhaust pipe 36 through the separation tank 31 is hindered. Absent. Accordingly, the discharge operation of the material particles M can be performed without stopping the operation of the film forming apparatus 1.

以上のように本実施形態によれば、成膜装置1の装置本体10には粉体回収装置30が接続され、この粉体回収装置30において、分離槽31内には回収壁部32が備えられている。そして、エアロゾルZに含まれる材料粒子Mがこの回収壁部32に衝突して付着することにより、材料粒子Mが気体から分離される。   As described above, according to the present embodiment, the powder recovery apparatus 30 is connected to the apparatus main body 10 of the film forming apparatus 1, and in the powder recovery apparatus 30, the recovery wall portion 32 is provided in the separation tank 31. It has been. The material particles M contained in the aerosol Z collide with and adhere to the recovery wall portion 32, whereby the material particles M are separated from the gas.

このとき、後で剥ぎ取ることが困難でない程度の付着力をもって材料粒子Mが回収壁部32に付着するようにされている。すなわち、回収壁部32におけるエアロゾルZとの衝突面が傾斜面33とされ、材料粒子Mはこの傾斜面33に対して斜め方向から衝突するようにされている。したがって、材料粒子Mの衝突面への入射角が小さくなり、その衝突エネルギーが、垂直方向から衝突する場合と比べて小さくなる。また、排気管36付近で生じた乱流により、エアロゾルZの流速が低下しており、これによっても材料粒子Mの傾斜面33への衝突エネルギーが小さくなる。さらに、回収壁部32はビッカース硬度がHV400以上の硬い材料によって形成されているから、材料粒子Mが傾斜面33にめり込むことができず、堆積した材料粒子層の傾斜面33との界面でのアンカー効果が小さくなる。このように、材料粒子Mを回収壁部32に弱い密着力をもって付着させることによって、容易に材料粒子Mを回収壁部32から剥離して再利用に供することができる。   At this time, the material particles M adhere to the collection wall 32 with an adhesive force that is not difficult to peel off later. That is, the colliding surface with the aerosol Z in the recovery wall portion 32 is an inclined surface 33, and the material particles M collide with the inclined surface 33 from an oblique direction. Therefore, the incident angle of the material particles M on the collision surface is reduced, and the collision energy is smaller than that in the case of collision from the vertical direction. Further, the turbulent flow generated in the vicinity of the exhaust pipe 36 reduces the flow velocity of the aerosol Z, and this also reduces the collision energy of the material particles M to the inclined surface 33. Furthermore, since the recovery wall portion 32 is formed of a hard material having a Vickers hardness of HV400 or more, the material particles M cannot sink into the inclined surface 33, and the deposited material particle layer is formed at the interface with the inclined surface 33. Anchor effect is reduced. In this way, by adhering the material particles M to the recovery wall portion 32 with a weak adhesion, the material particles M can be easily separated from the recovery wall portion 32 and reused.

また、傾斜面33はエアロゾルZの流路を塞ぐように設けられている。このような構成によれば、エアロゾルZが傾斜面33を迂回して裏側へ逃げることがなくなり、分離槽31内を流れるエアロゾルZが全て傾斜面33で受けられることとなる。加えて、エアロゾルZは傾斜面33にぶつかることにより、急激に向きを変えられて排気管36の方へと流れていくこととなるから、分離槽31の内周面と傾斜面33とで作られる角部C付近ではエアロゾルZの滞留が起こり、材料粒子Mが吹き溜りとなって蓄積される。これにより、材料粒子Mの回収率を高めることができる。   The inclined surface 33 is provided so as to block the flow path of the aerosol Z. According to such a configuration, the aerosol Z bypasses the inclined surface 33 and does not escape to the back side, and all of the aerosol Z flowing in the separation tank 31 is received by the inclined surface 33. In addition, since the aerosol Z hits the inclined surface 33 and is suddenly changed in direction and flows toward the exhaust pipe 36, the aerosol Z is formed by the inner peripheral surface of the separation tank 31 and the inclined surface 33. In the vicinity of the corner C, the aerosol Z stays and the material particles M accumulate and accumulate. Thereby, the recovery rate of the material particles M can be increased.

さらに、この傾斜面33はエアロゾルZの流路の下流側へ向かって下り勾配となる下向き傾斜面とされている。このため、傾斜面33に付着・堆積した材料粒子Mの層が徐々に厚くなっていくと、この材料粒子層が自重により傾斜面33から自然に剥がれ落ちる。したがって、材料粒子Mを回収壁部32から剥ぎ取る手間を省くことができ、回収作業を省力化できる。   Further, the inclined surface 33 is a downward inclined surface that is inclined downward toward the downstream side of the flow path of the aerosol Z. For this reason, when the layer of the material particles M adhered and deposited on the inclined surface 33 is gradually thickened, the material particle layer is naturally peeled off from the inclined surface 33 by its own weight. Therefore, it is possible to save the trouble of peeling the material particles M from the collection wall portion 32, and the collection work can be saved.

加えて、回収壁部32の摺動により、分離槽31の底面と傾斜面33とで形成される角部Cにおいて吹き溜まりとなった材料粒子Mや、傾斜面33にいったん付着した後に自重により剥がれ落ちた材料粒子Mをかき寄せて、分離槽31の底部に設けられた分離槽側ホッパ35に運ぶことができる。これにより、装置の運転を止めて回収壁部32を取り外す、といった煩雑な手順を経ることなく、分離槽31内の材料粒子Mを外部へ排出することができ、便利である。このとき、排気管36は、分離槽31内における回収壁部32の可動領域Rよりも上流側に設けられている。したがって、回収壁部32が最大限上流側に駆動されても、排気管36を塞ぐことがないから、成膜チャンバ15から分離槽31を経て排気管36へ至る気流が妨げられることがない。このため、成膜装置1の運転を止めることなく、回収壁部32を駆動して材料粒子Mを外部へ排出することができる。   In addition, due to the sliding of the collection wall 32, the material particles M that have accumulated in the corner portion C formed by the bottom surface of the separation tank 31 and the inclined surface 33, or once adhered to the inclined surface 33 and peeled off by its own weight. The fallen material particles M can be gathered and transported to the separation tank side hopper 35 provided at the bottom of the separation tank 31. Thereby, the material particles M in the separation tank 31 can be discharged to the outside without having to go through a complicated procedure of stopping the operation of the apparatus and removing the collection wall 32, which is convenient. At this time, the exhaust pipe 36 is provided on the upstream side of the movable region R of the recovery wall portion 32 in the separation tank 31. Therefore, even if the recovery wall 32 is driven to the maximum upstream side, the exhaust pipe 36 is not blocked, so that the airflow from the film forming chamber 15 to the exhaust pipe 36 through the separation tank 31 is not hindered. For this reason, the collection | recovery wall part 32 can be driven and the material particle M can be discharged | emitted outside, without stopping the driving | operation of the film-forming apparatus 1. FIG.

また、排気管36は分離槽31の天井部に接続されているので、回収壁部32の摺動により分離槽31の底面にかき寄せられた材料粒子Mが排気管36に進入するおそれは少なくなる。このため、材料粒子Mの回収率を向上することができる。   Further, since the exhaust pipe 36 is connected to the ceiling portion of the separation tank 31, there is less possibility that the material particles M scraped to the bottom surface of the separation tank 31 due to the sliding of the collection wall portion 32 will enter the exhaust pipe 36. . For this reason, the recovery rate of the material particles M can be improved.

<第2実施形態>
以下、本発明の第2実施形態について、図5を参照しつつ説明する。図5には、本実施形態の成膜装置40の概略図を示した。本実施形態の第1実施形態との相違点は、分離槽42において成膜チャンバ15と接続する側の開口部42Aの開口面積が、排気管46との連通位置周辺における断面積よりも大きくされている点にある。なお、第1実施形態と同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
Second Embodiment
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows a schematic diagram of the film forming apparatus 40 of the present embodiment. The difference of this embodiment from the first embodiment is that the opening area of the opening 42A on the side connected to the film forming chamber 15 in the separation tank 42 is made larger than the cross-sectional area around the communication position with the exhaust pipe 46. There is in point. In addition, about the structure similar to 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

本実施形態の成膜装置40には、第1実施形態と同様の構成の装置本体10と、この装置本体10に接続された粉体回収装置41とを備えている。粉体回収装置41は、第1実施形態と同様に、材料粒子Mをキャリアガスから分離するための分離槽42と、この分離槽42内に設けられた回収壁部43と、この分離槽42に連通する排気管46とを備えている。   The film forming apparatus 40 of this embodiment includes an apparatus main body 10 having the same configuration as that of the first embodiment, and a powder recovery apparatus 41 connected to the apparatus main body 10. As in the first embodiment, the powder recovery apparatus 41 includes a separation tank 42 for separating the material particles M from the carrier gas, a recovery wall 43 provided in the separation tank 42, and the separation tank 42. And an exhaust pipe 46 communicating with the exhaust pipe 46.

分離槽42は、全体として大径の筒状に形成されており、第1実施形態と同様に成膜チャンバ15の排出口22に接続されている。そして、この分離槽42には、第1実施形態と同様に、下流側の端部付近に回収壁部43が設けられているとともに、その上流側に分離槽側ホッパ45が接続され、さらにその上流側に排気管46が接続されている。   The separation tank 42 is formed in a large-diameter cylindrical shape as a whole, and is connected to the discharge port 22 of the film forming chamber 15 as in the first embodiment. As in the first embodiment, the separation tank 42 is provided with a collection wall 43 near the downstream end portion, and a separation tank side hopper 45 is connected to the upstream side thereof. An exhaust pipe 46 is connected to the upstream side.

この分離槽42において、成膜チャンバ15と接続されている上流側の開口部42Aから排気管46よりもやや上流位置までの部分には、下流側に向かって徐々に先細りとなる第1のテーパ部42Bが設けられている。そして、この第1のテーパ部42Bの下流側であって排気管46との連通位置周辺の連通領域は、開口部42Aと同軸であってこの開口部42Aよりも径の小さい縮径部42Cとされている。そして、この縮径部42Cよりもさらに下流側であって分離槽側ホッパ45よりもやや上流位置までの部分には、下流側に向かって開口部42Aと同径となるまで徐々に広がる第2のテーパ部42Dが設けられている。   In this separation tank 42, a first taper gradually tapering toward the downstream side from the upstream opening 42 </ b> A connected to the film forming chamber 15 to a position slightly upstream of the exhaust pipe 46. A portion 42B is provided. A communication region on the downstream side of the first taper portion 42B and around the communication position with the exhaust pipe 46 is coaxial with the opening portion 42A and has a reduced diameter portion 42C having a smaller diameter than the opening portion 42A. Has been. Then, a second portion that is further downstream from the reduced diameter portion 42C and slightly upstream from the separation tank side hopper 45 gradually expands toward the downstream side until it has the same diameter as the opening 42A. The taper portion 42D is provided.

次に、この成膜装置40を用いて成膜を行うとともに、粉体回収装置41によって使用後のエアロゾルZから材料粒子Mを回収する方法について説明する。   Next, a method for forming a film using the film forming apparatus 40 and collecting the material particles M from the used aerosol Z by the powder collecting apparatus 41 will be described.

まず、第1実施形態と同様に、基板Bをステージ16にセットする。次いで、真空ポンプPを作動させて成膜チャンバ15内を減圧した状態で、エアロゾルZを噴射ノズル17から基板Bに噴射し、基板B上に膜を形成する。   First, as in the first embodiment, the substrate B is set on the stage 16. Next, in a state where the vacuum pump P is operated and the inside of the film forming chamber 15 is decompressed, the aerosol Z is sprayed from the spray nozzle 17 onto the substrate B, and a film is formed on the substrate B.

基板Bに噴き付けられた後のエアロゾルZは、第1実施形態と同様に、成膜チャンバ15側面の排出口22から分離槽42内へ流入し、真空ポンプPの吸引力によって排気管46へと吸引される。このとき、分離槽42において排気管46との連通位置周辺の連通領域は、開口部42Aよりも径の小さい縮径部42Cとされているから、この縮径部42CにおいてはエアロゾルZの流速が速まる。よって、材料粒子Mは排気管46側へ流れ出ることなく慣性力によって真っ直ぐに進む。これにより、排気管46が回収壁部43の上流側に設けられていても、材料粒子Mの排気管46側への流出を低減できる。   The aerosol Z after being sprayed onto the substrate B flows into the separation tank 42 from the discharge port 22 on the side surface of the film forming chamber 15 and is discharged to the exhaust pipe 46 by the suction force of the vacuum pump P, as in the first embodiment. And sucked. At this time, since the communication region around the communication position with the exhaust pipe 46 in the separation tank 42 is a reduced diameter portion 42C having a diameter smaller than that of the opening 42A, the flow velocity of the aerosol Z is reduced in the reduced diameter portion 42C. Speed up. Therefore, the material particle M advances straight by inertia force without flowing out to the exhaust pipe 46 side. Thereby, even if the exhaust pipe 46 is provided on the upstream side of the collection wall 43, the outflow of the material particles M to the exhaust pipe 46 side can be reduced.

縮径部42Cを通過後、大径の下流側へと進んだところでエアロゾルZの流速は元に戻り、この状態で回収壁部43に衝突する。この衝突により、材料粒子Mが回収壁部43に衝突して堆積する。これにより、材料粒子Mがキャリアガスから分離される。このとき、第1実施形態と同様に、回収壁部43におけるエアロゾルZとの衝突面が傾斜面44とされているから、材料粒子Mは後で剥ぎ取ることが困難でない程度の付着力をもって材料粒子Mが回収壁部43に付着する。また、分離槽42の底面と傾斜面44とで形成される鋭角な角部CにはエアロゾルZが滞留し、材料粒子Mの吹き溜まりが生じる。これらにより、材料粒子Mがキャリアガスから分離される。   After passing through the diameter-reduced portion 42C, the flow velocity of the aerosol Z returns to the original position when it progresses to the downstream side of the large diameter, and collides with the recovery wall portion 43 in this state. Due to this collision, the material particles M collide with the collection wall 43 and accumulate. Thereby, the material particles M are separated from the carrier gas. At this time, as in the first embodiment, since the collision surface with the aerosol Z in the recovery wall 43 is the inclined surface 44, the material particles M have an adhesive force that is not difficult to peel off later. Particles M adhere to the collection wall 43. In addition, the aerosol Z stays in the acute corner C formed by the bottom surface of the separation tank 42 and the inclined surface 44, and the material particles M are blown up. As a result, the material particles M are separated from the carrier gas.

材料粒子Mを分離した後のキャリアガスは、真空ポンプPの吸引力によって排気管36から外部に排気される。   The carrier gas after separating the material particles M is exhausted from the exhaust pipe 36 to the outside by the suction force of the vacuum pump P.

なお、成膜装置40の運転を継続していくと、分離槽42および成膜チャンバ15の内部には材料粒子Mが徐々に蓄積する。この場合には、第1実施形態と同様に、回収壁部32、およびスキージ19を動かすことにより、清掃を行うことができる。   As the operation of the film forming apparatus 40 is continued, the material particles M gradually accumulate inside the separation tank 42 and the film forming chamber 15. In this case, the cleaning can be performed by moving the collection wall 32 and the squeegee 19 as in the first embodiment.

以上のように本実施形態によれば、第1実施形態と同様に、エアロゾルZからの材料粒子Mの分離・回収を行うことができる。加えて、分離槽42において、成膜チャンバ15に接続する開口部42Aにおける開口面積が、排気管46と連通する連通領域における断面積よりも大きくされている。このため、排気管46との連通位置周辺、すなわち断面積の狭い領域を通過する際にエアロゾルZの流速が速められる。このため、エアロゾルに含まれる材料粒子Mは、排気管46側へ漏れ出すことなく一気に分離槽42の奥方へ進入していく。そして、回収壁部43に衝突して流れが遅くなるとともに材料粒子Mと分離されたキャリアガスのみが、排気管46へと排出されていく。これにより、排気管46が回収壁部43の上流側に設けられていても、材料粒子Mの排気管46側への流出を低減でき、材料粒子Mの回収率を高めることができる。   As described above, according to the present embodiment, the material particles M can be separated and collected from the aerosol Z as in the first embodiment. In addition, in the separation tank 42, the opening area in the opening 42 </ b> A connected to the film forming chamber 15 is made larger than the cross-sectional area in the communication region communicating with the exhaust pipe 46. For this reason, the flow velocity of the aerosol Z is increased when passing through the vicinity of the communication position with the exhaust pipe 46, that is, the region having a narrow cross-sectional area. For this reason, the material particles M contained in the aerosol enter the depth of the separation tank 42 at once without leaking to the exhaust pipe 46 side. Then, only the carrier gas separated from the material particles M is discharged to the exhaust pipe 46 while colliding with the recovery wall 43 and slowing the flow. Thereby, even if the exhaust pipe 46 is provided on the upstream side of the recovery wall portion 43, the outflow of the material particles M to the exhaust pipe 46 side can be reduced, and the recovery rate of the material particles M can be increased.

<第3実施形態>
以下、本発明の第3実施形態について、図6を参照しつつ説明する。図6には、本実施形態の成膜装置50の概略図を示した。本実施形態の第1実施形態との相違点は、分離槽が多段に設けられている点にある。なお、第1実施形態と同様の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
<Third Embodiment>
Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows a schematic diagram of the film forming apparatus 50 of the present embodiment. The difference of this embodiment from the first embodiment is that the separation tanks are provided in multiple stages. In addition, about the structure similar to 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

本実施形態の成膜装置50には、第1実施形態と同様の構成の装置本体10(本発明の膜形成装置に該当する)と、この装置本体10に接続された粉体回収装置51とを備えている。   The film forming apparatus 50 of the present embodiment includes an apparatus main body 10 (corresponding to the film forming apparatus of the present invention) having the same configuration as that of the first embodiment, and a powder recovery apparatus 51 connected to the apparatus main body 10. It has.

この粉体回収装置51には、材料粒子Mをキャリアガスから分離するための分離槽52が3段設けられている。すなわち、成膜チャンバ15には、第1分離槽52Aが接続されている。この第1分離槽52Aには、第1実施形態と同様に回収壁部53Aが備えられるとともに、排気管54Aと分離槽側ホッパ55Aとが接続されている。   The powder recovery device 51 is provided with three stages of separation tanks 52 for separating the material particles M from the carrier gas. That is, the first separation tank 52 </ b> A is connected to the film forming chamber 15. Similar to the first embodiment, the first separation tank 52A is provided with a collection wall 53A, and an exhaust pipe 54A and a separation tank side hopper 55A are connected to the first separation tank 52A.

第1分離槽52Aに接続された排気管54Aの先端は、次の第2分離槽52Bに接続されている。この排気管54Aは、第2分離槽52Bの開口部に連結されており、第1分離槽52Aから排出されたキャリアガスが第2分離槽52Bに流れ込むようになっている。この第2分離槽52Bには、第1分離槽52Aと同様に回収壁部53Bが備えられるとともに、排気管54Bと分離槽側ホッパ55Bとが接続されている。   The tip of the exhaust pipe 54A connected to the first separation tank 52A is connected to the next second separation tank 52B. The exhaust pipe 54A is connected to the opening of the second separation tank 52B, and the carrier gas discharged from the first separation tank 52A flows into the second separation tank 52B. Similar to the first separation tank 52A, the second separation tank 52B includes a recovery wall portion 53B, and is connected to an exhaust pipe 54B and a separation tank side hopper 55B.

さらに、第2分離槽52Bに接続された排気管54Bの先端は、同様に次の第3分離槽52Cの開口部に連結されている。この第3分離槽52Cには、上記2段の分離槽52A、52Bと同様に回収壁部53Cが備えられるとともに、排気管54Cと分離槽側ホッパ55Cとが接続されている。第3分離槽52Cに接続された排気管54Cは、真空ポンプPに接続されている。   Furthermore, the tip of the exhaust pipe 54B connected to the second separation tank 52B is similarly connected to the opening of the next third separation tank 52C. Similar to the two-stage separation tanks 52A and 52B, the third separation tank 52C is provided with a recovery wall portion 53C, and is connected to an exhaust pipe 54C and a separation tank-side hopper 55C. The exhaust pipe 54C connected to the third separation tank 52C is connected to the vacuum pump P.

このような構成によれば、基板Bに噴き付けられた後のエアロゾルZは、まず、第1分離槽52Aに進入し、ここで、上記各実施形態と同様に材料粒子Mがキャリアガスから分離される。そして、キャリアガスは排気管54Aを通って排気される。このとき、エアロゾルZに含まれる材料粒子Mを完全に分離できるわけではないため、排出されるキャリアガスにも相当量の材料粒子Mが残留している。   According to such a configuration, the aerosol Z after being sprayed onto the substrate B first enters the first separation tank 52A, where the material particles M are separated from the carrier gas as in the above embodiments. Is done. The carrier gas is exhausted through the exhaust pipe 54A. At this time, since the material particles M contained in the aerosol Z cannot be completely separated, a considerable amount of the material particles M remains in the discharged carrier gas.

排出されたキャリアガスは第2分離槽52Bに進入し、同様に回収壁部53Bに衝突する。これにより、キャリアガス中に残留していた材料粒子Mが分離・回収される。そして、分離後のキャリアガスはさらに第3分離槽52Cに導かれ、ここでも、キャリアガス中に残留していた材料粒子Mが分離・回収される。   The discharged carrier gas enters the second separation tank 52B and similarly collides with the recovery wall portion 53B. As a result, the material particles M remaining in the carrier gas are separated and collected. Then, the separated carrier gas is further guided to the third separation tank 52C, and again, the material particles M remaining in the carrier gas are separated and recovered.

このようにして、分離槽52が排気管54を介して複数設けられている。したがって、第1分離槽52Aにおいて回収しきれなかった材料粒子Mを、その下流に接続された第2、第3の分離槽52B、52Cにおいて回収することができるから、装置全体としての材料粒子Mの回収率を高めることができる。   In this way, a plurality of separation tanks 52 are provided via the exhaust pipe 54. Therefore, since the material particles M that could not be recovered in the first separation tank 52A can be recovered in the second and third separation tanks 52B and 52C connected downstream thereof, the material particles M as the entire apparatus. The recovery rate can be increased.

<実施例>
図7に示すような成膜装置60を用いて成膜実験を行った。上記実施形態と同様の構成の成膜チャンバ61において、一の側壁部に外側へ張り出すボックス部62を設置した。
この成膜チャンバ61に真空ポンプPを接続して内部を減圧した。この状態で、図示しないエアロゾル発生器に20gの材料粒子Mを投入し、エアロゾルを発生させて、噴射ノズル63から基板Bに噴射した。
<Example>
A film forming experiment was performed using a film forming apparatus 60 as shown in FIG. In the film forming chamber 61 having the same configuration as that of the above-described embodiment, a box portion 62 projecting outward is provided on one side wall portion.
A vacuum pump P was connected to the film forming chamber 61 to decompress the inside. In this state, 20 g of material particles M were introduced into an aerosol generator (not shown) to generate an aerosol, which was sprayed from the spray nozzle 63 onto the substrate B.

基板B上に付着した材料粒子Mは約1g、ボックス部62内に堆積した材料粒子Mは約2〜3gであった。特に、ボックス部62における張り出し端側のコーナ部62Aにおいて、多量の材料粒子Mの堆積が観察された。これにより、急激な流路方向の変化が生じる部分において、材料粒子Mの回収量が増大することが確認された。   The material particles M adhered on the substrate B were about 1 g, and the material particles M deposited in the box portion 62 were about 2 to 3 g. In particular, deposition of a large amount of material particles M was observed in the corner portion 62A on the overhanging end side of the box portion 62. Thereby, it was confirmed that the recovery amount of the material particles M increases in a portion where a rapid change in the flow path direction occurs.

<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
<Other embodiments>
The present invention is not limited to the embodiments described with reference to the above description and drawings. For example, the following embodiments are also included in the technical scope of the present invention, and further, within the scope not departing from the gist of the invention other than the following. Various modifications can be made.

(1)上記各実施形態では、回収壁部32、43、52は分離槽31、42、53の内径とほぼ同じ大きさに形成され、分離槽31、42、52の開口部を塞ぐように設けられていたが、回収壁部を分離槽の内径よりも小さく形成しても良い。この場合、排気路は回収壁部よりもエアロゾル流路方向下流側に設けられていても良い。 (1) In each of the above embodiments, the recovery wall portions 32, 43, 52 are formed to have substantially the same size as the inner diameter of the separation tanks 31, 42, 53 so as to block the openings of the separation tanks 31, 42, 52. However, the recovery wall portion may be formed smaller than the inner diameter of the separation tank. In this case, the exhaust path may be provided downstream of the collection wall portion in the aerosol flow path direction.

(2)上記各実施形態では、回収壁部32、43、53の傾斜面はエアロゾル流路方向下流側に向かって下る下向き傾斜面とされていたが、傾斜面の傾き方向は上記実施形態の限りではなく、例えばエアロゾル流路方向下流側に向かって上る上向き傾斜面とされていても良い。また、傾斜面の傾き角度も上記実施形態の限りではなく、材料粒子が容易に剥離可能な程度の付着力を持って付着できる程度であればよい。 (2) In each of the above embodiments, the inclined surfaces of the collection wall portions 32, 43, and 53 are downward inclined surfaces that descend toward the downstream side in the aerosol flow path direction. For example, it may be an upward inclined surface that rises toward the downstream side in the aerosol flow path direction. Further, the inclination angle of the inclined surface is not limited to the above-described embodiment, and may be any as long as the material particles can be attached with an adhesive force that can be easily peeled off.

(3)上記各実施形態では、排気管36、46、54が分離槽31、42、53の延設方向、すなわちエアロゾルの流路方向に対して垂直方向を向くように取り付けられていたが、排気路の取り付け角度については本実施形態の限りではなく、例えばエアロゾルの流路方向に対して60°〜120°の角度をもって流路方向上流側、あるいは下流側へ傾いた向きで取り付けられていても良い。なお、エアロゾルの流れを急激に変化させるという観点からは、分離槽内でのエアロゾルの流路方向と排気路内での気体の流路方向とが鋭角を形成するように、言い換えれば、排気路がエアロゾルの流路方向上流側に傾く姿勢で取り付けられることが、より好ましい。 (3) In each of the above embodiments, the exhaust pipes 36, 46, 54 are attached so as to face the extending direction of the separation tanks 31, 42, 53, that is, the direction of the flow path of the aerosol, The attachment angle of the exhaust passage is not limited to the present embodiment, and for example, the exhaust passage is attached at an angle of 60 ° to 120 ° with respect to the flow direction of the aerosol and inclined in the flow passage direction upstream or downstream. Also good. From the viewpoint of abruptly changing the aerosol flow, the direction of the aerosol flow path in the separation tank and the direction of the gas flow path in the exhaust path form an acute angle, in other words, the exhaust path. Is more preferably attached in a posture inclined toward the upstream side of the aerosol flow path.

(4)第2実施形態では、分離槽42において排気路の連通領域とその上流側および下流側の径大部分との間はテーパ部42B、42Dとされていたが、段差部とされていても構わない。 (4) In the second embodiment, the separation tank 42 has tapered portions 42B and 42D between the communication area of the exhaust passage and the upstream and downstream large diameter portions, but it is a stepped portion. It doesn't matter.

(5)第3実施形態では、分離槽52が3段設けられていたが、分離槽は2段であってもよく、4段以上であっても良い。分離槽の最適な段数は分離槽の構成やエアロゾルの濃度・流速等によっても異なり一概に限定できないが、20段以上で約85%以上の回収率を実現できると考えられる。 (5) In the third embodiment, the separation tank 52 is provided in three stages. However, the separation tank may be two stages or four or more stages. The optimum number of separation tanks depends on the structure of the separation tank and the concentration and flow rate of the aerosol, and cannot be limited. However, it is considered that a recovery rate of about 85% or more can be realized with 20 or more stages.

第1実施形態の成膜装置を側面から見た概略図Schematic of the film forming apparatus of the first embodiment viewed from the side エアロゾルが分離槽に流入する様子を示す概略図Schematic showing how the aerosol flows into the separation tank 材料粒子が回収壁部に付着する様子を示す概略図Schematic showing how material particles adhere to the collection wall 材料粒子を成膜チャンバおよび分離槽から排出する様子を示す概略図Schematic showing how material particles are discharged from the deposition chamber and separation tank 第2実施形態の成膜装置を側面から見た概略図Schematic of the film forming apparatus of the second embodiment as viewed from the side 第3実施形態の成膜装置を側面から見た概略図Schematic of the film forming apparatus of the third embodiment as viewed from the side 実施例において使用した成膜装置を側面から見た概略図Schematic of the film formation equipment used in the examples as seen from the side

符号の説明Explanation of symbols

1…成膜装置
10…装置本体(膜形成装置)
30、41、51…粉体回収装置
31、42、52…分離槽
32、43、53…回収壁部
33、44…傾斜面
35、45、55…分離槽側ホッパ(粉末排出路)
36、46、54…排気管(排気路)
B…基板
M…材料粒子
P…真空ポンプ(排気手段)
Z…エアロゾル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film-forming apparatus 10 ... Main body (film-forming apparatus)
30, 41, 51... Powder recovery device 31, 42, 52... Separation tank 32, 43, 53... Recovery wall 33, 44.
36, 46, 54 ... exhaust pipe (exhaust passage)
B ... Substrate M ... Material particles P ... Vacuum pump (exhaust means)
Z ... Aerosol

Claims (12)

材料粒子を気体中に分散させたエアロゾルを基板に噴き付けて前記粒子を付着させることにより膜を形成する膜形成装置に接続されるとともに、前記エアロゾルから前記材料粒子を回収する粉体回収装置であって、
前記膜形成装置に接続されて前記基板に噴き付けた後の前記エアロゾルが流される分離槽と、
前記分離槽内に前記エアロゾルの流れに相対して設けられるとともに前記エアロゾルの流路方向に対して斜めに傾く傾斜面を備えた回収壁部と、
前記分離槽に連通する排気路と、
この排気路に設けられるとともに前記材料粒子と分離された前記気体を前記分離槽外へ排気する排気手段と、
を備える粉体回収装置。
A powder recovery device that is connected to a film forming apparatus that forms a film by spraying an aerosol in which material particles are dispersed in a gas and depositing the particles on a substrate, and recovers the material particles from the aerosol. There,
A separation tank in which the aerosol after being sprayed on the substrate is connected to the film forming apparatus;
A recovery wall portion provided in the separation tank relative to the flow of the aerosol and having an inclined surface inclined obliquely with respect to the flow path direction of the aerosol;
An exhaust passage communicating with the separation tank;
An exhaust means provided in the exhaust passage and exhausting the gas separated from the material particles out of the separation tank;
A powder recovery apparatus comprising:
前記エアロゾルの流路方向に対して垂直な面からの前記傾斜面の傾き角度が30°以上である請求項1に記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to claim 1, wherein an inclination angle of the inclined surface with respect to a surface perpendicular to a flow direction of the aerosol is 30 ° or more. 前記傾斜面のビッカース硬度がHV400以上である請求項1に記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to claim 1, wherein the inclined surface has a Vickers hardness of HV400 or more. 前記傾斜面が前記分離槽において前記エアロゾルの流路の下流側へ向かって下り勾配となる下向き傾斜面とされている請求項1〜請求項3のいずれかに記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the inclined surface is a downward inclined surface that is inclined downward toward the downstream side of the aerosol flow path in the separation tank. 前記傾斜面が前記エアロゾルの流路を塞ぐように設けられているとともに、前記排気路が前記傾斜面よりも上流側において前記分離槽に連通している前記請求項1〜請求項4のいずれかに記載の粉体回収装置。   The inclined surface is provided so as to block the flow path of the aerosol, and the exhaust passage communicates with the separation tank on the upstream side of the inclined surface. The powder recovery apparatus described in 1. 前記分離槽は、前記成膜装置に接続する接続位置における開口面積が前記排気路と連通する連通位置における断面積よりも大きくされたものである請求項5に記載の粉体回収装置。   6. The powder recovery apparatus according to claim 5, wherein the separation tank has an opening area at a connection position connected to the film forming apparatus larger than a cross-sectional area at a communication position communicating with the exhaust path. 前記分離槽の底部に前記材料粒子を排出するための粉末排出路が設けられているとともに、前記回収壁部が前記分離槽の内壁面に沿って前記分離槽内を摺動可能とされている請求項1〜請求項6のいずれかに記載の粉体回収装置。   A powder discharge path for discharging the material particles is provided at the bottom of the separation tank, and the collection wall is slidable along the inner wall surface of the separation tank. The powder recovery apparatus in any one of Claims 1-6. 前記排気路が、前記分離槽内における前記回収壁部の可動領域よりも上流側において前記分離槽に連通している請求項7に記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to claim 7, wherein the exhaust passage communicates with the separation tank on the upstream side of the movable region of the recovery wall portion in the separation tank. 前記排気路が、前記分離槽の天井部に接続されていることを特徴とする請求項8に記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to claim 8, wherein the exhaust passage is connected to a ceiling portion of the separation tank. 前記排気路が前記エアロゾルの流路方向に対して傾きをもって接続されている請求項1〜請求項9のいずれかに記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein the exhaust path is connected with an inclination with respect to a flow path direction of the aerosol. 前記分離槽が前記排気路を介して複数設けられている請求項1〜請求項10のいずれかに記載の粉体回収装置。   The powder recovery apparatus according to any one of claims 1 to 10, wherein a plurality of the separation tanks are provided via the exhaust passage. 内部に基板が設置されるとともに、材料粒子を気体中に分散させたエアロゾルを前記基板に向けて噴射する噴射ノズルを備えた成膜室と、
前記成膜室に連通して前記基板に噴き付けた後の前記エアロゾルが流される分離槽と、
前記分離槽内に前記エアロゾルの流路に相対して設けられるとともに前記エアロゾルの流路方向に対して斜めに傾く傾斜面を備えた回収壁部と、
前記分離槽に連通する排気路と、
この排気路に設けられるとともに前記材料粒子と分離された前記気体を前記分離槽外へ排気する排気手段と、
を備えた粉体回収装置付き成膜装置。
A film forming chamber provided with an injection nozzle for injecting an aerosol in which material particles are dispersed in a gas toward the substrate, while a substrate is installed therein.
A separation tank through which the aerosol flows after being sprayed onto the substrate in communication with the film forming chamber;
A recovery wall portion provided in the separation tank relative to the aerosol flow path and having an inclined surface inclined obliquely with respect to the aerosol flow path direction;
An exhaust passage communicating with the separation tank;
An exhaust means provided in the exhaust passage and exhausting the gas separated from the material particles out of the separation tank;
A film forming apparatus equipped with a powder recovery apparatus.
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