JP2007047318A - Method for manufacturing conducting material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子回路、アンテナ回路、電磁波シールド材、タッチパネル等の用途に用いることができる導電性材料、特に金属部と光透過部を有する透明導電性材料の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a conductive material that can be used for applications such as an electronic circuit, an antenna circuit, an electromagnetic wave shielding material, and a touch panel, and more particularly to a method for producing a transparent conductive material having a metal part and a light transmission part.
近年、情報化社会が急速に発達するに伴って、情報関連機器に関する技術が急速に進歩し普及してきた。この中で、ディスプレイ装置は、テレビジョン用、パーソナルコンピューター用、駅や空港などの案内表示用、その他各種情報提供用に用いられている。特に、近年プラズマディスプレイが注目されている。 In recent years, with the rapid development of the information-oriented society, technologies related to information-related devices have rapidly advanced and become popular. Among them, the display device is used for televisions, personal computers, guidance displays for stations, airports, and other information. In particular, plasma displays have attracted attention in recent years.
このような情報化社会の中にあって、これらのディスプレイ装置から放射される電磁波の影響が心配されている。例えば、周辺の電子機器への影響や人体への影響が考えられている。特に、人体の健康に及ぼす影響は無視することができないものになっており、人体に照射される電磁界の強度の低減が求められ、このような要求に対して様々の透明導電性材料が開発されている。例えば、特開平９−５３０３０号、特開平１１−１２６０２４号、特開２０００−２９４９８０号、特開２０００−３５７４１４号、特開２０００−３２９９３４号、特開２００１−３８８４３号、特開２００１−４７５４９号、特開２００１−５１６１０号、特開２００１−５７１１０号、特開２００１−６０４１６号公報等に開示されている。 In such an information society, there is a concern about the influence of electromagnetic waves radiated from these display devices. For example, the influence on surrounding electronic devices and the influence on the human body are considered. In particular, the impact on human health is not negligible, and there is a need to reduce the strength of the electromagnetic field applied to the human body, and various transparent conductive materials have been developed to meet these requirements. Has been. For example, JP-A-9-53030, JP-A-11-122024, JP-A-2000-294980, JP-A-2000-357414, JP-A-2000-329934, JP-A-2001-38843, JP-A-2001-47549. JP-A-2001-51610, JP-A-2001-57110, JP-A-2001-60416, and the like.
これらの透明導電性材料の製造方法としては、銀、銅、ニッケル、インジウム等の導電性金属をスパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、湿式塗工法によって透明樹脂フィルム上に金属薄膜を形成させる方法が一般的に用いられているが、これら従来方法では工法が極めて複雑になるため、高コストで生産性が悪いという問題が発生していた。 As a method for producing these transparent conductive materials, a conductive metal such as silver, copper, nickel, or indium is formed on a transparent resin film by sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, or wet coating. In general, a method of forming a metal thin film is generally used. However, since these conventional methods are extremely complicated, there has been a problem of high cost and poor productivity.
また、透明導電性材料に求められる別の性能として導電性と光透過率がある。導電性を高くするにはある程度の幅と厚みを持った金属薄膜微細パターンを作る必要があるが、同時に光を遮断する金属からなるパターンの線幅を太くすると透過率が低下するので、この両者を満足させるには十分な導電性を持った微細な金属パターン、特に必要最小限の幅で均一なパターンを製造する必要があるが、従来の方法ではこれは満足出来なかった。 Another performance required for the transparent conductive material is conductivity and light transmittance. In order to increase the conductivity, it is necessary to make a metal thin film fine pattern with a certain width and thickness, but at the same time, increasing the line width of the metal pattern that blocks light reduces the transmittance. In order to satisfy the above, it is necessary to manufacture a fine metal pattern having sufficient conductivity, particularly a uniform pattern with a minimum necessary width, but this cannot be satisfied by the conventional method.
均一なパターンを作ると言う観点において、近年透明導電性材料前駆体としてハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩写真感光材料を使用する方法が提案されている。例えば国際公開特許ＷＯ０１／５１２７６号公報（特許文献１）では銀塩写真感光材料を像露光、現像処理した後、金属めっき処理を施すことで透明導電性材料を製造する方法の提案がなされている。すなわち、通常の写真処理である、像露光、現像定着のみでは全く導電性は得られずに、どうしてもめっきと言うもう一つの工程を使うという問題が存在する。しかも、めっき時の触媒としては現像銀を用いるのだが、該現像銀がバインダーであるゼラチンの中に埋没しており、めっき液との接触がし難く、非常にめっきがし難いという問題を抱えている。特開２００４−２２１５６４号公報（特許文献２）においてはめっき効率を上げようとすべく、ハロゲン化銀乳剤層中の銀／ゼラチンの比を変化させて銀の比率を高くすることで効率を上げようとしている。しかしながら、この発明においてもめっき工程は不可欠であり、なおかつこのようなハロゲン化銀乳剤を作ろうとすると、極少量の保護バインダーしか使えず、比重の重い銀をこのように少ないバインダーで保持することは困難であったり、製造中にかかる圧力などでカブリが発生しやすいなど生産上問題を抱えていた。 In view of producing a uniform pattern, a method of using a silver salt photographic light-sensitive material containing a silver halide emulsion layer as a transparent conductive material precursor has been proposed in recent years. For example, International Publication No. WO01 / 51276 (Patent Document 1) proposes a method for producing a transparent conductive material by subjecting a silver salt photographic light-sensitive material to image exposure and development, and then performing metal plating. . That is, there is a problem that another process called plating is inevitably used without obtaining electrical conductivity by image exposure and development fixing alone, which are ordinary photographic processing. Moreover, developed silver is used as a catalyst for plating, but the developed silver is buried in gelatin as a binder, and it is difficult to contact with the plating solution and it is difficult to plate. ing. In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221564 (Patent Document 2), the efficiency is increased by increasing the silver ratio by changing the silver / gelatin ratio in the silver halide emulsion layer in order to increase the plating efficiency. I am trying to do. However, the plating process is indispensable also in this invention, and when trying to make such a silver halide emulsion, only a very small amount of protective binder can be used, and it is possible to hold silver with a high specific gravity with such a small amount of binder. There were problems in production such as difficulty and the tendency to fog due to pressure applied during production.
また、同じく銀塩感光材料を使う方法として銀塩拡散転写法を用いる方法も提案されており、例えば国際公開特許ＷＯ２００４−００７８１０号公報（特許文献３）などがある。この方法は銀は極微量のバインダーに、あるいは実質的にバインダーに覆われていない為、めっきなしでもある程度の導電性が得られる手法である。またバインダーがないためめっき液と現像銀との接触がし易いため、めっきにも有利な手法でもある。しかしながら、非常に薄い物理現像核層の上に厚く重いハロゲン化銀乳剤層が塗布されているため、同時多層塗布は困難であり、生産性が悪くなるという問題が存在した。 Similarly, a method using a silver salt diffusion transfer method has been proposed as a method of using a silver salt photosensitive material, for example, International Publication No. WO2004-007810 (Patent Document 3). In this method, silver is not covered with an extremely small amount of binder or substantially covered with the binder, and therefore, a certain degree of conductivity can be obtained without plating. Further, since there is no binder, the plating solution and the developed silver are easily contacted, and this is an advantageous technique for plating. However, since a thick and heavy silver halide emulsion layer is coated on a very thin physical development nucleus layer, simultaneous multi-layer coating is difficult and there is a problem that productivity is deteriorated.
特開平１１−３０５４４６号公報（特許文献４）においては平版印刷版を製造するにあたり、感光性ハロゲン化銀乳剤と非感光性ハロゲン化銀乳剤を含有する銀塩感光材料を用い、銀塩拡散転写法でポジ画像を形成する方法（ＤＴＲ法）が提案されている。これはフレア光の多い光源を用い微細な画像を描く際に、画像がぼけて印刷に耐えられるだけの十分な銀が析出しないのことへの対策である。非感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する事で、そこから少量の銀が画像部非画像部関係無しに析出する。さらに、それに加えてその上に微細な画像を析出させると、印刷できるだけの銀量が析出し、画像強度が保持できるわけなのであるが、本発明は特殊なＤＴＲ法ではなくネガ画像を形成する通常の写真法を用い、更に本発明において非画像部に現像銀が存在すると著しく透明度を落とすので、極めて好ましくなく、本発明とはその根本において全く異なるものである。
従って、本発明の目的は、透明性と導電性が共に高く、かつ生産性の良い導電性材料が得られるための製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a production method for obtaining a conductive material having both high transparency and conductivity and high productivity.
本発明の上記目的は、以下の手法を用いることによってに達成された。
（１）支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料の製造方法において、該銀塩感光材料が感光性ハロゲン化銀と該感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感度を有する銀塩を含有することを特徴とする導電性材料の製造方法（以下、１の方法と略す）。
（２）支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料の製造方法において、該銀塩感光材料を銀含有現像液で現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法（以下、２の方法と略す）。
The above object of the present invention has been achieved by using the following method.
(1) In a method for producing a conductive material using a silver salt photosensitive material containing at least one silver halide emulsion layer on a support as a conductive material precursor, the silver salt photosensitive material is photosensitive halogenated A method for producing a conductive material, comprising silver and a silver salt having a sensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide (hereinafter abbreviated as method 1).
(2) In a method for producing a conductive material using a silver salt photosensitive material containing at least one silver halide emulsion layer on a support as a conductive material precursor, the silver salt photosensitive material is converted into a silver-containing developer. A method for producing a conductive material (hereinafter abbreviated as method 2), characterized in that the development process is carried out.
本発明の透明導電性材料の製造方法により、透明性と導電性が共に高く、かつ生産性の良い導電性材料が得られるための製造方法を提供することができた。 According to the method for producing a transparent conductive material of the present invention, it was possible to provide a production method for obtaining a conductive material having both high transparency and high conductivity and good productivity.
本発明者等は、導電性材料の前駆体としてハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩写真感光材料を用いて製造する際に、通常の現像処理で形成された現像銀ではバインダーにより互いが孤立させられているために導電性を得られないという欠点を改良すべく鋭意検討した結果、現像工程の段階で現像銀粒子を成長させ、互いに接触させることでこの問題を解決できる事を見出し、本発明に至った。また、未露光部においては本発明の手法で特に影響を受けず、銀塩写真感光材料を導電性前駆体として用いる導電性材料の特徴である高い透明性も同時に得られる事を見出した。 The present inventors have isolated silver from each other by a binder in developed silver formed by a normal development process when producing a silver salt photographic light-sensitive material having a silver halide emulsion layer as a precursor of a conductive material. As a result of diligent investigations to improve the disadvantage of not being able to obtain conductivity because of being developed, it has been found that developing silver particles can be grown at the stage of the development process and brought into contact with each other to solve this problem. It came to. Further, the present inventors have found that the unexposed portion is not particularly affected by the method of the present invention, and at the same time, high transparency which is a characteristic of a conductive material using a silver salt photographic light-sensitive material as a conductive precursor can be obtained.
本発明に用いる銀塩感光材料に用いられる透明支持体としては、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、セロハン、セルロイド等のプラスチック樹脂フィルム、ガラス板などが挙げられる。さらに本発明においては支持体上にハロゲン化銀写真乳剤層との接着性を向上させるための下引き層や帯電防止層などを必要に応じて設けることもできる。 Examples of the transparent support used in the silver salt photosensitive material used in the present invention include polyester resins such as polyethylene terephthalate, diacetate resins, triacetate resins, acrylic resins, polycarbonate resins, polyvinyl chloride, polyimide resins, cellophane, and celluloid. A plastic resin film, a glass plate, etc. are mentioned. Furthermore, in the present invention, an undercoat layer or an antistatic layer for improving the adhesion to the silver halide photographic emulsion layer can be provided on the support, if necessary.
本発明に用いる銀塩感光材料においては好ましい形態である１および２の何れの方法においても光センサーとして感光性ハロゲン化銀乳剤層が支持体上に設けられる。ハロゲン化銀に関する銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本発明においてもそのまま用いることもできる。 In the silver salt light-sensitive material used in the present invention, a photosensitive silver halide emulsion layer is provided on a support as an optical sensor in any of the methods 1 and 2 which are preferred forms. Techniques used in silver halide photographic films, photographic papers, printing plate-making films, emulsion masks for photomasks, etc. relating to silver halide can also be used as they are in the present invention.
本発明に用いる銀塩感光材料は、網目状パターンのような任意の細線パターンの透過原稿と該導電性材料前駆体を密着して露光、あるいはアルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、赤色半導体レーザー、発光ダイオード、赤外半導体レーザー等を用いたイメージセッターで任意の細線パターンを走査露光することで、画像を形成する。 The silver salt light-sensitive material used in the present invention is a light-transmitting original having an arbitrary fine line pattern such as a mesh pattern and the conductive material precursor, which is exposed to light exposure, or an argon laser, a He-Ne laser, a red semiconductor laser, a light emission. An image is formed by scanning and exposing an arbitrary fine line pattern with an image setter using a diode, an infrared semiconductor laser, or the like.
本発明において、感光性ハロゲン化銀乳剤とは、上記光源に対して最も高い感光性を有するハロゲン化銀乳剤及び、その７０％以上の感光性を有するハロゲン化銀乳剤を意味する。感光性（感度）は、当業界において知られるあらゆる方法で測定することができる。例えば、同一の塗布銀量で、同一の支持体、同一の製造条件で製造した感光材料において、画像を形成するに要する（例えば、一定の濃度値を得るのに必要な）露光光量として測定することができる。本発明においては、同一の塗布銀量で、同一の支持体、同一の製造条件で塗布した感光材料において、５０ミクロンのネガ・ポジの細線を出力した際、太さが一致するに要する光量（単位：ジュール／平方センチメートル）の逆数で表現することとする。 In the present invention, the photosensitive silver halide emulsion means a silver halide emulsion having the highest sensitivity to the light source and a silver halide emulsion having a sensitivity of 70% or more. Photosensitivity (sensitivity) can be measured by any method known in the art. For example, it is measured as the amount of exposure light required to form an image (for example, necessary to obtain a constant density value) on a photosensitive material manufactured with the same amount of coated silver, the same support and the same manufacturing conditions. be able to. In the present invention, when a negative and positive fine line of 50 microns is output on a photosensitive material coated with the same amount of silver, the same support and the same production conditions, the amount of light required to match the thickness ( (Unit: Joule / square centimeter))
該感光性ハロゲン化銀の結晶の好ましいハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒径は０．２５μｍ以下、特に好ましくは０．０５〜０．２μｍである。本発明におけるハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができる。 The average grain size of the preferred silver halide emulsion grains of the photosensitive silver halide crystals is 0.25 μm or less, particularly preferably 0.05 to 0.2 μm. The shape of the silver halide grains in the present invention is not particularly limited. For example, various shapes such as a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagonal flat plate shape, triangular flat plate shape, tetragonal flat plate shape, etc.), octahedral shape, and tetradecahedral shape are available. It can be a simple shape.
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。ハロゲン化銀乳剤粒子の形成には、順混合、逆混合、同時混合等の、当業界では周知の方法が用いられる。なかでも同時混合法の１種で、粒子形成される液相中のｐＡｇを一定に保ついわゆるコントロールドダブルジェット法を用いることが、粒径のそろったハロゲン化銀乳剤粒子が得られる点において好ましい。本発明においては、好ましいハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒径は０．２５μｍ以下、特に好ましくは０．０５〜０．２μｍである。 The halogen element contained in the photosensitive silver halide grain in the present invention may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof. For the formation of silver halide emulsion grains, methods well known in the art such as forward mixing, reverse mixing, and simultaneous mixing are used. Among them, it is preferable to use a so-called controlled double jet method, which is one of the simultaneous mixing methods and keeps the pAg in the liquid phase to be formed constant, from the viewpoint of obtaining silver halide emulsion grains having a uniform particle size. . In the present invention, the average grain size of preferable silver halide emulsion grains is 0.25 μm or less, particularly preferably 0.05 to 0.2 μm.
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができる。 The shape of the photosensitive silver halide grain in the present invention is not particularly limited. For example, the shape is spherical, cubic, tabular (hexagonal flat, triangular flat, quadrangular flat, etc.), octahedral, and tetrahedral. It can be various shapes.
本発明において感光性ハロゲン化銀粒子はハロゲン化銀乳剤層中に銀で換算して０．１５〜５ｇ／ｍ2、好ましくは０．３〜１ｇ／ｍ2含有される。 Photosensitive silver halide grains in the present invention 0.15~5g / m 2 in terms of silver in the silver halide emulsion layer, preferably 0.3 to 1 g / m 2 is contained.
さらに、本発明の好ましい形態である１の方法においては、感光性ハロゲン化銀以外に、該感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有する銀塩を含有する。 Furthermore, in one method which is a preferable embodiment of the present invention, a silver salt having a sensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide is contained in addition to the photosensitive silver halide.
本発明の好ましい形態である１の方法での感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有する銀塩としてはハロゲン化銀などの無機銀塩、酢酸銀、ベヘン酸銀などの有機銀塩のいずれでも使えるが、導電性の得られやすさ、塗工液への分散性などの観点からハロゲン化銀を用いることが好ましい。本発明の露光光源に対する感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感度を有するハロゲン化銀は、当業界において知られるあらゆる方法で得られる。例えば、ハロゲン化銀粒子中に水溶性ロジウム塩などの無機減感剤をドープあるいはそれを増量することによって、あるいはハロゲン化銀粒子のハロゲン組成を変え、ヨウ素、臭素を塩素に置きかえることによって、または粒径の小さいハロゲン化銀粒子を用いることによって、または化学増感の程度を変え、すなわち硫黄，金の添加量を少なくする、あるいは増感の温度を下げたり時間を短くすることにより、または分光増感色素を減量した、あるいは添加していないハロゲン化銀粒子を用いることにより、あるいはピナクリプトールイエロー、フェノサフラニンなどの減感色素を添加することにより、あるいは含窒素複素環化合物、例えば５−ニトロベンズイミダゾール、イミダゾール、２−アミノベンズイミダゾール、１Ｈ−１，２，３−トリアゾール、１Ｈ−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、ベンゾトリアゾール、５−メチル−１Ｈベンゾトリアゾール、５−クロロ−ベンゾトリアゾール、５−ニトロベンゾトリアゾール、２−メチルベンゾオキサゾール、６−メチルプリン、アデニン、１−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾール、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン、２−（カルボメトキシアミノ）−ベンズイミダゾール、２−メルカプト−４−フェンルイミダゾール、２−メルカプト−１−ベンジルイミダゾール、２メルカプト−１−ブチル−ベンズイミダゾール、１エチル−２−メルカプト−ベンズイミダゾール、２メルカプト−ベンズイミダゾール、１，３ジエチル−ベンズイミダゾリン−２−チオン、１，３ジベンジル−イミダゾリジン−２−チオン、２，２−ジメルカプト−１，１’−デカメチレン−ジイミダゾリン−２−チオン、２メルカプト−４−フェニルチアゾ−ル、２−メルカプト−ベンゾチアゾール、２−メルカプトナフトチアゾール、３−エチル−ベンゾチアゾリン−２−チオン、３−ドデシル−ベンゾチアゾリン−２−チオン、２−メルカプト−４，５−ジフェニルオキサゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、３−ペンチル−ベンゾオキサゾリン−２−チオン、１−フェニル−３−メチルピラゾリドン−５−チオン、３−メルカプト−４−アリル−５−ペンタデシル−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−５−ノニル−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−５−ノニル−５−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−４−アリル−５−ペンタデシル−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−４−アミノ−５−ヘプタデシル−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−５−フェニル−５−ペンタデシル−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−５−ｎ−ヘプチル−オキサチアゾール、２−メルカプト−５−フェニル１，３，４−オキサジアゾール、５−メルカプト−１−フェニル−テトラゾール、２−メルカプト−５−ニトロピリジン、１−メチル−キノリン−２（１Ｈ）−チオン、３−メルカプト−４−メチル−６−フェニルピリダジン、２−メルカプト−５，６−ジフェニル−ピラッジン、２−メルカプト−４，６−ジフェニル１，３，５トリアジン、２−アミノ−４−メルカプト−６−ベンジル−１，３，５−トリアジン、１，５−ジメルカプト−３，７−ジフェニル−Ｓ−トリアゾリノ［１，２−a］−Ｓ−トリアゾリン等を添加すること等によって得られる。 The silver salt having a photosensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide in the method 1 which is a preferred embodiment of the present invention is an inorganic silver salt such as silver halide, an organic silver salt such as silver acetate or silver behenate. However, it is preferable to use silver halide from the viewpoints of easily obtaining conductivity and dispersibility in a coating solution. Silver halide having a sensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide to the exposure light source of the present invention can be obtained by any method known in the art. For example, by doping or increasing the amount of an inorganic desensitizer such as a water-soluble rhodium salt in the silver halide grains, or by changing the halogen composition of the silver halide grains and replacing iodine or bromine with chlorine, or By using silver halide grains with a small particle size, or by changing the degree of chemical sensitization, that is, by reducing the amount of sulfur and gold added, or by lowering the temperature of sensitization, shortening the time, or spectroscopic By using silver halide grains in which the amount of sensitizing dye is reduced or not added, or by adding a desensitizing dye such as pinacryptol yellow or phenosafranine, or a nitrogen-containing heterocyclic compound such as 5- Nitrobenzimidazole, imidazole, 2-aminobenzimidazole, 1H-1,2, -Triazole, 1H-tetrazole, 5-phenyl-1H-tetrazole, benzotriazole, 5-methyl-1H benzotriazole, 5-chloro-benzotriazole, 5-nitrobenzotriazole, 2-methylbenzoxazole, 6-methylpurine, Adenine, 1-hydroxy-benzotriazole, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene, 2- (carbomethoxyamino) -benzimidazole, 2-mercapto-4-phenlimidazole, 2-mercapto-1-benzylimidazole, 2mercapto-1-butyl-benzimidazole, 1 ethyl-2-mercapto-benzimidazole, 2mercapto-benzimidazole, 1,3 diethyl-benzimidazoline-2-thione, 1,3 Gibe Dil-imidazolidine-2-thione, 2,2-dimercapto-1,1'-decamethylene-diimidazoline-2-thione, 2mercapto-4-phenylthiazol, 2-mercapto-benzothiazole, 2-mercaptonaphthothiazole 3-ethyl-benzothiazoline-2-thione, 3-dodecyl-benzothiazoline-2-thione, 2-mercapto-4,5-diphenyloxazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-pentyl-benzoxazoline-2-thione 1-phenyl-3-methylpyrazolidone-5-thione, 3-mercapto-4-allyl-5-pentadecyl-1,2,4-triazole, 3-mercapto-5-nonyl-1,2,4- Triazole, 3-mercapto-5-nonyl-5-1,2,4-triazole, 3-methyl Lucapto-4-allyl-5-pentadecyl-1,2,4-triazole, 3-mercapto-4-amino-5-heptadecyl-1,2,4-triazole, 2-mercapto-5-phenyl-5-pentadecyl- 1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-5-n-heptyl-oxathiazole, 2-mercapto-5-phenyl 1,3,4-oxadiazole, 5-mercapto-1-phenyl-tetrazole, 2- Mercapto-5-nitropyridine, 1-methyl-quinoline-2 (1H) -thione, 3-mercapto-4-methyl-6-phenylpyridazine, 2-mercapto-5,6-diphenyl-pyrazine, 2-mercapto-4 , 6-Diphenyl 1,3,5 triazine, 2-amino-4-mercapto-6-benzyl-1,3,5-triazine Obtained such as by the addition of 1,5-dimercapto-3,7-diphenyl -S- Toriazorino [1,2-a] -S- triazoline like.
本発明の好ましい形態である１の方法での感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有するハロゲン化銀の結晶の好ましいハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒径は０．２５μｍ以下、特に好ましくは０．０５〜０．２μｍである。本発明におけるハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができる。 The average grain size of the preferred silver halide emulsion grains of silver halide crystals having a photosensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide in the method 1 which is a preferred embodiment of the present invention is particularly preferably 0.25 μm or less. Is 0.05 to 0.2 μm. The shape of the silver halide grains in the present invention is not particularly limited. For example, various shapes such as a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagonal flat plate shape, triangular flat plate shape, tetragonal flat plate shape, etc.), octahedral shape, and tetradecahedral shape are available. It can be a simple shape.
本発明の好ましい形態である１の方法における感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有するハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。ハロゲン化銀乳剤粒子の形成には、順混合、逆混合、同時混合等の、当業界では周知の方法が用いられる。なかでも同時混合法の１種で、粒子形成される液相中のｐＡｇを一定に保ついわゆるコントロールドダブルジェット法を用いることが、粒径のそろったハロゲン化銀乳剤粒子が得られる点において好ましい。本発明においては、好ましいハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒径は０．３５μｍ以下、特に好ましくは０．０５〜０．２μｍである。 The halogen element contained in the silver halide having a photosensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide in the method 1 which is a preferred embodiment of the present invention may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine. These may be combined. For the formation of silver halide emulsion grains, methods well known in the art such as forward mixing, reverse mixing, and simultaneous mixing are used. Among them, it is preferable to use a so-called controlled double jet method, which is one of the simultaneous mixing methods and keeps the pAg in the liquid phase to be formed constant, from the viewpoint of obtaining silver halide emulsion grains having a uniform particle size. . In the present invention, the average grain size of preferable silver halide emulsion grains is 0.35 [mu] m or less, particularly preferably 0.05 to 0.2 [mu] m.
本発明の好ましい形態である１の方法における感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有するハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができる。 The shape of the silver halide grains having a photosensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide in the method 1 which is a preferred embodiment of the present invention is not particularly limited. For example, a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagonal flat plate) Shape, triangular flat plate shape, quadrangular flat plate shape, etc.), octahedron shape, and tetrahedron shape.
本発明の好ましい形態である１の方法における感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有するハロゲン化銀の含有量に特に限定は不要であるが、好ましくは銀で換算して０．５〜５ｇ／ｍ2、より好ましくは１〜３ｇ／ｍ2がよい。さらに感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感光性を有する銀塩を２種以上混合させて含有してもよい。また、感光性ハロゲン化銀を含有する層と該感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感度を有する銀塩を含有する層とを別の層に分ける事も可能であるり、この場合感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感度を有する銀塩を含有する層は感光性ハロゲン化銀層より下の層にあるほうが好ましい。感光性ハロゲン化銀と該感光性ハロゲン化銀の７０％未満の感度を有する銀塩の比率は特に限定する必要はないが、好ましい範囲は銀で換算して感光性ハロゲン化銀：７０％未満の感度を有するハロゲン化銀＝１：１０〜２：１、更に好ましくは１：５〜１：１である。 Although there is no particular limitation on the content of silver halide having a photosensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide in Method 1 which is a preferred embodiment of the present invention, it is preferably 0.5 in terms of silver. to 5 g / m 2, more preferably from 1 to 3 g / m 2. Further, two or more silver salts having photosensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide may be mixed and contained. It is also possible to divide the layer containing the photosensitive silver halide and the layer containing a silver salt having a sensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide into different layers. The layer containing a silver salt having a sensitivity of less than 70% of the silver halide is preferably in a layer below the photosensitive silver halide layer. The ratio of the photosensitive silver halide to the silver salt having a sensitivity of less than 70% of the photosensitive silver halide is not particularly limited, but the preferred range is photosensitive silver halide in terms of silver: less than 70% Silver halide having a sensitivity of 1:10 to 2: 1, more preferably 1: 5 to 1: 1.
本発明において導電性材料前駆体のハロゲン化銀乳剤層はバインダーを含有する。本発明においては非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダーとして用いることができるが、少なくとも水溶性ポリマーを含有していることが好ましい。本発明における好ましい水溶性ポリマーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。水溶性ポリマーの中でもゼラチンが特に好ましい。 In the present invention, the silver halide emulsion layer as the conductive material precursor contains a binder. In the present invention, both a water-insoluble polymer and a water-soluble polymer can be used as a binder, but it is preferable that at least a water-soluble polymer is contained. Preferred water-soluble polymers in the present invention include, for example, gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polyvinyl amine, chitosan, polylysine, polyacrylic acid. , Polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose and the like. Among water-soluble polymers, gelatin is particularly preferable.
本発明において用いることのできる非水溶性ポリマーとしての高分子ラテックスとしては単独重合体や共重合体など各種公知のラテックスを用いることができる。単独重合体としては酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、メタクリロニトリル、ブタジエン、イソプレンなどがあり、共重合体としてはエチレン・ブタジエン、スチレン・ブタジエン、スチレン・ｐ−メトオキシスチレン、スチレン・酢酸ビニル、酢酸ビニル・塩化ビニル、酢酸ビニル・マレイン酸ジエチル、メチルメタクリレート・アクリロニトリル、メチルメタクリレート・ブタジエン、メチルメタクリレート・スチレン、メチルメタクリレート・酢酸ビニル、メチルメタクリレート・塩化ビニリデン、メチルアクリレート・アクリロニトリル、メチルアクリレート・ブタジエン、メチルアクリレート・スチレン、メチルアクリレート・酢酸ビニル、アクリル酸・ブチルアクリレート、メチルアクリレート・塩化ビニル、ブチルアクリレート・スチレン等がある。本発明で用いる高分子ラテックスの平均粒径は０．０１〜１．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．０５〜０．８μｍである。 As the polymer latex as the water-insoluble polymer that can be used in the present invention, various known latexes such as a homopolymer and a copolymer can be used. Homopolymers include vinyl acetate, vinyl chloride, styrene, methyl acrylate, butyl acrylate, methacrylonitrile, butadiene, and isoprene. Copolymers include ethylene butadiene, styrene butadiene, styrene p-methoxystyrene. , Styrene / vinyl acetate, vinyl acetate / vinyl chloride, vinyl acetate / diethyl maleate, methyl methacrylate / acrylonitrile, methyl methacrylate / butadiene, methyl methacrylate / styrene, methyl methacrylate / vinyl acetate, methyl methacrylate / vinylidene chloride, methyl acrylate / acrylonitrile , Methyl acrylate / butadiene, methyl acrylate / styrene, methyl acrylate / vinyl acetate, acrylic acid / butyl acrylate, methyl Acrylate-vinyl chloride, butyl acrylate-styrene and the like. The average particle size of the polymer latex used in the present invention is preferably 0.01 to 1.0 μm, more preferably 0.05 to 0.8 μm.
本発明においてハロゲン化銀乳剤層に含有する高分子ラテックスと水溶性ポリマーの総量、すなわち総バインダー量については、バインダー量が少ないと塗布性に悪影響を及ぼし、また安定したハロゲン化銀粒子も得られなくなる、一方、多過ぎると導電性が低下する。感光性ハロゲン化銀と非感光性銀塩との合計総銀量（銀換算）に対し、好ましい総バインダーとの質量比（総銀量／総バインダー量）は１．２以上、より好ましくは１．５〜３．５である。 In the present invention, the total amount of the polymer latex and the water-soluble polymer contained in the silver halide emulsion layer, that is, the total binder amount, if the binder amount is small, the coating property is adversely affected, and stable silver halide grains are also obtained. On the other hand, if it is too much, the conductivity is lowered. The total mass of silver (converted to silver) of the photosensitive silver halide and the non-photosensitive silver salt is preferably 1.2 or more, more preferably 1 by mass ratio (total silver / total binder) to the total binder. .5 to 3.5.
ハロゲン化銀乳剤層には、さらに種々の目的のために、公知の写真用添加剤を用いることができる。これらは、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ １７６４３（１９７８年１２月）および１８７１６（１９７９年１１月）３０８１１９（１９８９年１２月）に記載、あるいは引用された文献に記載されている。 In the silver halide emulsion layer, known photographic additives can be used for various purposes. These are described in Research Disclosure Items 17643 (December 1978) and 18716 (November 1979) 308119 (December 1989) or cited.
本発明における導電性材料前駆体には必要に応じて支持体のハロゲン化銀乳剤層と反対面に裏塗層やハロゲン化銀乳剤層の上にオーバー層などを設けることができる。 If necessary, the conductive material precursor in the present invention may be provided with a backing layer or an overlayer on the silver halide emulsion layer on the opposite side of the support from the silver halide emulsion layer.
導電性材料前駆体にはハロゲン化銀乳剤層の感光波長域に吸収極大を有する非増感性染料又は顔料を、画質向上のためのハレーション、あるいはイラジエーション防止剤として用いることは好ましい。ハレーション防止剤としてはハロゲン化銀乳剤層と支持体の間の下引き層やあるいは裏塗り層に含有させることができる。イラジエーション防止剤としては、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのがよい。添加量は、目的の効果が得られるのであれば広範囲に変化しうるが、たとえばハレーション防止剤として裏塗り層に含有させる場合、１平方メートル当たり、約２０ｍｇ〜約１ｇの範囲が望ましく、好ましくは、極大吸収波長における光学濃度として、０．５以上である。 As the conductive material precursor, it is preferable to use a non-sensitizing dye or pigment having an absorption maximum in the photosensitive wavelength region of the silver halide emulsion layer as a halation for improving image quality or an irradiation prevention agent. The antihalation agent can be contained in the undercoat layer or the backcoat layer between the silver halide emulsion layer and the support. The irradiation inhibitor is preferably contained in the silver halide emulsion layer. The amount added can vary widely as long as the desired effect is obtained, but when it is contained in the backing layer as an antihalation agent, for example, the range of about 20 mg to about 1 g per square meter is desirable, The optical density at the maximum absorption wavelength is 0.5 or more.
本発明では、導電性材料前駆体を露光した後には現像、定着処理を行う。また、本発明において各工程の間では停止液等の中和液による処理、あるいは水洗工程等を入れて前工程の液をその工程の液に持ちこませない様することも出来る。 In the present invention, development and fixing are performed after the conductive material precursor is exposed. Further, in the present invention, a treatment with a neutralizing solution such as a stop solution or a water washing step may be inserted between each step so that the liquid in the previous step is not brought into the liquid in the step.
本発明において現像処理は、露光されたハロゲン化銀粒子を還元し、現像銀とするために実施する。さらに同時に銀イオンを供給し、現像銀を成長させて、現像銀同士を接触させ、導電性を得るために実施する。 In the present invention, the development processing is carried out in order to reduce the exposed silver halide grains to develop developed silver. Furthermore, it carries out in order to supply silver ion, to grow developed silver, to contact developed silver, and to obtain electroconductivity.
本発明における現像液は本発明の好ましい形態である１の方法、２の方法のいずれでも基本的には還元剤を含有するアルカリ液である。現像液に用いられる還元剤は、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、アスコルビン酸及びその誘導体、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。これらの還元剤は単独で、または複数組み合わせて使用することができる。 The developer in the present invention is basically an alkaline solution containing a reducing agent in either method 1 or method 2, which is a preferred embodiment of the present invention. As the reducing agent used in the developer, a developing agent known in the field of photographic development can be used. For example, hydrohydroxyquinone, catechol, pyrogallol, methylhydroquinone, chlorohydroquinone and other polyhydroxybenzenes, ascorbic acid and its derivatives, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl Examples include 3-pyrazolidones such as -4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, paramethylaminophenol, paraaminophenol, parahydroxyphenylglycine, and paraphenylenediamine. These reducing agents can be used alone or in combination.
現像液のｐＨは１０以上が好ましく、更に１１〜１４が好ましい。所望のｐＨに調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ剤、燐酸、炭酸などの緩衝剤を単独、または組み合わせて含有させる。また、本発明の処理液には、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸カリウム等の保恒剤を含むことが好ましい。 The pH of the developer is preferably 10 or more, and more preferably 11-14. In order to adjust to a desired pH, an alkali agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, or a buffering agent such as phosphoric acid or carbonic acid is contained alone or in combination. The treatment liquid of the present invention preferably contains a preservative such as sodium sulfite or potassium sulfite.
現像液には、臭化カリウム、臭化ナトリウムなどの臭化物を加えることが好ましい。適量の臭化物の存在下で現像を行うと、得られた金属銀の導電性が良化するからである。好ましい臭化物濃度は１×１０-4モル／Ｌ以上１×１０-2モル／Ｌ以下である。 It is preferable to add bromides such as potassium bromide and sodium bromide to the developer. This is because when the development is performed in the presence of an appropriate amount of bromide, the conductivity of the obtained metallic silver is improved. A preferable bromide concentration is 1 × 10 −4 mol / L or more and 1 × 10 −2 mol / L or less.
現像液のカリウムイオン濃度は現像液中の全アルカリ金属イオンの７０モル％以上が好ましい。カリウムイオン濃度を７０モル％以上にすることである程度前駆体を物理現像処理した状態であっても、得られる金属銀の導電性が比較的良好であるからである。カリウムイオンはいかなる形態及び方法で供給されても良い。例えば、水酸化物塩、亜硫酸塩、炭酸塩、カルボン酸塩等として予め現像液に添加しておく方法が挙げられる。 The potassium ion concentration in the developer is preferably 70 mol% or more of the total alkali metal ions in the developer. This is because the conductivity of the obtained metallic silver is relatively good even when the precursor is physically developed to some extent by setting the potassium ion concentration to 70 mol% or more. Potassium ions may be supplied in any form and method. For example, a method in which a hydroxide salt, a sulfite salt, a carbonate salt, a carboxylate salt, or the like is previously added to the developer can be mentioned.
本発明において現像処理を行う方法としては、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯留された処理液中に、導電性材料前駆体を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えば導電性材料前駆体上に処理液を１平方メートル当たり４０〜１２０ｍｌ程度塗布するものである。 In the present invention, the developing method may be an immersion method or a coating method. In the immersion method, for example, the conductive material precursor is transported while being immersed in a treatment liquid stored in a large amount in a tank. In the coating method, for example, the treatment liquid is 1 square meter on the conductive material precursor. About 40 to 120 ml per coat is applied.
導電性及び金属光沢を向上させるための好ましい現像処理条件については、以下の通りである。現像温度は２℃〜２５℃であり、１０℃〜２０℃がより好ましい。現像時間は３０秒〜１８０秒であり、好ましくは４０秒〜１２０秒である。 Preferable development processing conditions for improving conductivity and metallic luster are as follows. The development temperature is 2 ° C to 25 ° C, and 10 ° C to 20 ° C is more preferable. The development time is 30 seconds to 180 seconds, preferably 40 seconds to 120 seconds.
本発明における好ましい形態としての１の手法において該現像液は可溶性銀錯塩形成剤を含有する。可溶性銀錯塩形成剤は、非感光性銀塩を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物である。現像液に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウムやチオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウムやチオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、オキサドリドン類、２−メルカプト安息香酸及びその誘導体、ウラシルのような環状イミド類、アルカノールアミン、ジアミン、特開平９−１７１２５７号公報に記載のメソイオン性化合物、ＵＳＰ５，２００，２９４に記載のようなチオエーテル類、５，５−ジアルキルヒダントイン類、アルキルスルホン類、他に、Ｔ．Ｈ．ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス４版の４７４〜４７５項（１９７７年）に記載されている化合物が挙げられる。 In one method as a preferred embodiment in the present invention, the developer contains a soluble silver complex salt forming agent. A soluble silver complex salt forming agent is a compound that dissolves a non-photosensitive silver salt to form a soluble silver complex salt. Soluble silver complex forming agents used in the developer include thiosulfates such as sodium thiosulfate and ammonium thiosulfate, thiocyanates such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate, and sulfites such as sodium sulfite and potassium bisulfite. Salts, oxadoridones, 2-mercaptobenzoic acid and derivatives thereof, cyclic imides such as uracil, alkanolamines, diamines, mesoionic compounds described in JP-A-9-171257, as described in USP 5,200,294 Thioethers, 5,5-dialkylhydantoins, alkyl sulfones, and others. H. Examples thereof include compounds described in 474-475 (1977) of The Theory of the Photographic Process, 4th edition, edited by James.
これらの可溶性銀錯塩形成剤の中でも特に、アルカノールアミンが好ましい。アルカノールアミンを含有した処理液で現像を行った透明導電性フィルムの表面抵抗は比較的低い値が得られる。 Among these soluble silver complex salt forming agents, alkanolamine is particularly preferable. A relatively low value is obtained for the surface resistance of the transparent conductive film developed with a processing solution containing an alkanolamine.
アルカノールアミンとしては、例えば２−（２−アミノエチルアミノ）エタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エタノールアミン、４−アミノブタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、３−アミノプロパノール、Ｎ，Ｎ−エチル−２，２’−イミノジエタノール、２−メチルアミノエタノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール等が挙げられる。 Examples of the alkanolamine include 2- (2-aminoethylamino) ethanolamine, diethanolamine, N-methylethanolamine, triethanolamine, N-ethyldiethanolamine, diisopropanolamine, ethanolamine, 4-aminobutanol, N, N -Dimethylethanolamine, 3-aminopropanol, N, N-ethyl-2,2'-iminodiethanol, 2-methylaminoethanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol and the like.
これらの可溶性銀錯塩形成剤は単独で、または複数組み合わせて使用することができる。 These soluble silver complex salt forming agents can be used alone or in combination.
可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、処理液１リットル当たり、０．００１〜５モルが好ましく、より好ましくは０．００５〜１モルの範囲である。還元剤の含有量は処理液１リットル当たり０．０１〜１モルが好ましく、より好ましくは０．０５〜１モルの範囲である。 The content of the soluble silver complex salt forming agent is preferably 0.001 to 5 mol, more preferably 0.005 to 1 mol, per liter of the processing solution. The content of the reducing agent is preferably from 0.01 to 1 mol, more preferably from 0.05 to 1 mol, per liter of the treatment liquid.
本発明における好ましい形態である２の手法においては現像液は銀イオンを含有する。銀イオンの好ましい含有量は０．０１〜１モル／Ｌ、更に好ましくは０．０２〜０．５モル／Ｌである。銀イオンを現像液に溶解させる方法としては硝酸銀などの水溶性銀塩を直接混合し溶解させることも可能であるが、副生成物、現像安定性などの問題から、本発明の好ましい形態である１と同じように可溶性銀錯塩形成剤を現像液に含有させ、それにハロゲン化銀などの銀塩を加えて溶解せしめることの方が好ましい。この銀塩としては、無機銀塩のほかに酢酸銀、ベヘン酸銀などの有機銀塩も使用できるが、副生成物による現像液への悪影響の少ない塩化銀を用いることが好ましい。さらに該銀塩処理直前に溶解させることが好ましい。 In the method 2 which is a preferred embodiment of the present invention, the developer contains silver ions. The preferable content of silver ions is 0.01 to 1 mol / L, more preferably 0.02 to 0.5 mol / L. As a method for dissolving silver ions in a developer, it is possible to directly mix and dissolve a water-soluble silver salt such as silver nitrate, but this is a preferred embodiment of the present invention because of problems such as by-products and development stability. In the same manner as in No. 1, it is preferable to add a soluble silver complex salt-forming agent to the developer and dissolve it by adding a silver salt such as silver halide. As the silver salt, organic silver salts such as silver acetate and silver behenate can be used in addition to the inorganic silver salt, but it is preferable to use silver chloride with less adverse effect on the developer by the by-product. Furthermore, it is preferable to dissolve immediately before the silver salt treatment.
本発明における好ましい形態である２の手法において現像液には前述の通り、可溶性銀錯塩形成剤を含有させることが好ましい。可溶性銀錯塩形成剤の好ましい種類、使用量などは本発明における好ましい形態である１の手法と同様である。 In the method 2 which is a preferred embodiment of the present invention, the developer preferably contains a soluble silver complex forming agent as described above. The preferred type and amount of the soluble silver complex salt forming agent are the same as those of the first method which is a preferred form in the present invention.
本発明においては好ましい形態である１の手法、２の手法のいずれも見かけ上、化学現像と物理現像が同時に進行する。しかしながら、化学現像で生成する現像銀も触媒となって物理現像が進行することから、先に化学現像だけ進行させて、しかる後に物理現像を施すことも可能である。この場合に用いる化学現像の現像液としては各種公知の写真現像液を用いることができ、物理現像の現像液としては前述の本発明で用いる現像液を使用する。現像を分ける場合、化学現像を十分に行い、ハロゲン化銀感光材料の黒化濃度の変化が終了するまで行ってから、物理現像を行うことも可能ではあるが、化学現像を途中まで進行させ、ハロゲン化銀黒化濃度変化が十分に行ったときの１／２、好ましくは１／１０の変化が起きた段階で終了し、物理現像を行うことが高い導電性を得られるので好ましい。 In the present invention, both of the first method and the second method, which are preferable forms, seem to cause both chemical development and physical development to proceed simultaneously. However, since the developed silver produced by the chemical development also serves as a catalyst and the physical development proceeds, it is possible to advance only the chemical development first and then perform the physical development. Various known photographic developers can be used as the developer for chemical development used in this case, and the developer used in the present invention is used as the developer for physical development. In the case of dividing development, it is possible to perform chemical development sufficiently and then perform physical development after the change in blackening density of the silver halide light-sensitive material is completed. It is preferable to complete the development at the stage where a change of 1/2, preferably 1/10, when the silver halide blackening density change is sufficiently performed, so that high conductivity can be obtained.
本発明において現像処理の後、停止処理を行ことが好ましい。停止処理は水洗のみでも不可能では無いが、好ましくは酸性の停止液を用いる。好ましい停止液としては「写真の化学」（笹井著、写真工業出版社（株））ｐ３０５記載の停止液が挙げられる。 In the present invention, it is preferable to perform a stop process after the development process. Stopping treatment is not impossible only by washing with water, but an acidic stopping solution is preferably used. A preferable stop solution is a stop solution described in “Photochemistry” (written by Sakurai, Photographic Industry Publishing Co., Ltd.) p305.
本発明において現像、停止処理の後，定着処理を行う。定着とは未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。本発明における定着液としては公知の銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。好ましい定着液としては前述の「写真の化学」（笹井著、写真工業出版社（株））ｐ３２１記載の定着液などが挙げられる。また、チオ硫酸塩を含有しない、例えば脱銀剤としてアルカノールアミン類を用いた定着液で定着処理する事も好ましい。また、定着液に硬膜剤、例えばアルミニウム塩などを含有する硬膜定着液を用いる事もできる。さらに酸化剤、例えばＥＤＴＡ第２鉄塩の入った漂白定着剤を用いても良い。 In the present invention, after the development and stop processing, fixing processing is performed. Fixing is performed for the purpose of removing and stabilizing the unexposed silver salt. As the fixing solution in the present invention, a known silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask and the like can be used. A preferable fixing solution includes the fixing solution described in “Photochemistry” (written by Sakurai, Photographic Industry Publishing Co., Ltd.) p321. It is also preferable to perform a fixing treatment with a fixing solution containing no thiosulfate, for example, using an alkanolamine as a desilvering agent. In addition, a hardening fixer containing a hardening agent such as an aluminum salt may be used as the fixer. Further, an oxidizing agent such as a bleach-fixing agent containing EDTA ferric salt may be used.
本発明では、前記露光及び現像処理により形成された現像銀部に更に高い導電性を付与する目的で、酵素処理の後にめっき処理を行うことこともできる。本発明において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。 In the present invention, for the purpose of imparting higher conductivity to the developed silver portion formed by the exposure and development treatment, a plating treatment can be performed after the enzyme treatment. In the present invention, for the plating treatment, electroless plating (chemical reduction plating or displacement plating), electrolytic plating, or both electroless plating and electrolytic plating can be used.
本発明における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術、例えば無電解ニッケルめっき，無電解コバルトめっき、無電解金めっき、銀めっきなどを用いることができるが、低コストにて十分な導電性と透明性を得るためには無電解銅めっきを行うことが好ましい。 For the electroless plating in the present invention, known electroless plating techniques such as electroless nickel plating, electroless cobalt plating, electroless gold plating, silver plating, etc. can be used. In order to obtain transparency, electroless copper plating is preferably performed.
本発明における無電解銅めっき液には硫酸銅や塩化銅など銅の供給源、ホルマリンやグリオキシル酸、テトラヒドロホウ酸カリウム、ジメチルアミンボランなど還元剤、ＥＤＴＡやジエチレントリアミン５酢酸、ロシェル塩、グリセロール、メソーエリトリトール、アドニール、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、ズルシトール、イミノ２酢酸、ｔ−１，２−シクロヘキサンジアミン４酢酸、１，３−ジアミノプロパンー２−オール，グリコールエーテルジアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の銅の錯化剤、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのｐＨ調整剤などが含有される。さらにその他に浴の安定化やめっき皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレングリコール、黄血塩、ビピリジル，ｏ−フェナントロリン、ネオクプロイン、チオ尿素、シアン化物などを含有させることも出来る。めっき液は安定性を増すためエアレーションを行う事が好ましい。 The electroless copper plating solution in the present invention includes copper sources such as copper sulfate and copper chloride, reducing agents such as formalin, glyoxylic acid, potassium tetrahydroborate, and dimethylamine borane, EDTA, diethylenetriaminepentaacetic acid, Rochelle salt, glycerol, Soerythritol, Adenyl, D-mannitol, D-sorbitol, dulcitol, iminodiacetic acid, t-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid, 1,3-diaminopropan-2-ol, glycol ether diamine, triisopropanolamine, tri It contains a copper complexing agent such as ethanolamine, a pH adjusting agent such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. In addition, polyethylene glycol, yellow blood salt, bipyridyl, o-phenanthroline, neocuproine, thiourea, cyanide, and the like can be added as additives for stabilizing the bath and improving the smoothness of the plating film. The plating solution is preferably aerated to increase stability.
無電解銅めっきでは前述の通り種々の錯化剤を用いることができるが、錯化剤の種類により酸化銅が共析し、導電性に大きく影響したり、あるいはトリエタノールアミンなど銅イオンとの錯安定定数の低い錯化剤は銅が沈析しやすいため、安定しためっき液やめっき補充液が作り難いなどということが知られている。従って工業的に通常用いられる錯化剤は限られており、本発明においても同様の理由でめっき液の組成として特に錯化剤の選択は重要である。特に好ましい錯化剤としては銅錯体の安定定数の大きいＥＤＴＡやジエチレントリアミン５酢酸などが挙げられ、このような好ましい錯化剤を用いためっき液としては例えばプリント基板の作製に使用される高温タイプの無電解銅めっきがある。高温タイプの無電解銅めっきの手法については「無電解めっき 基礎と応用」（電気鍍金研究会編）ｐ１０５などに詳しく記載されている。高温タイプのめっきでは通常６０〜７０℃で処理し、処理時間は無電解めっき後に電解めっきを施すかどうかで変わってくるが、通常１〜３０分、好ましくは３〜２０分無電解めっき処理を行うことで本発明の目的を達することが出来る。 As described above, various complexing agents can be used in electroless copper plating. However, depending on the type of complexing agent, copper oxide co-deposits, greatly affecting conductivity, or with copper ions such as triethanolamine. It is known that a complexing agent having a low complex stability constant tends to precipitate copper, making it difficult to produce a stable plating solution or plating replenisher. Therefore, the complexing agents usually used industrially are limited, and in the present invention, the selection of the complexing agent is particularly important as the composition of the plating solution for the same reason. Particularly preferable complexing agents include EDTA and diethylenetriaminepentaacetic acid, which have a large stability constant of copper complex. Examples of plating solutions using such a complexing agent include high-temperature types used in the production of printed circuit boards. There is electroless copper plating. The method of high-temperature type electroless copper plating is described in detail in “Electroless plating basics and applications” (ed. In high-temperature type plating, the treatment is usually performed at 60 to 70 ° C., and the treatment time varies depending on whether or not the electrolytic plating is performed after the electroless plating. Usually, the electroless plating treatment is performed for 1 to 30 minutes, preferably 3 to 20 minutes. By doing so, the object of the present invention can be achieved.
本発明において銅以外の無電解めっき処理を行う場合は例えばめっき技術ガイドブック」（東京鍍金材料協同組合技術委員会編、１９８７年）ｐ４０６〜４３２記載の方法などを用いる事ができる。 In the present invention, when electroless plating other than copper is performed, for example, a method described in Plating Technology Guidebook (Tokyo Sheet Metal Cooperative Technical Committee, 1987) p406 to 432 can be used.
本発明においては無電解めっき以外にも電解めっきを施すこともできる。特に本発明では現像処理により十分な導電性が得られるので無電解めっきを行わずとも、最初から電解めっきを行う事も十分可能である。電解めっきとしては銅めっきやニッケルめっき、亜鉛めっき、カドミウムめっき、錫めっき、合金めっきなど種々のめっき法が知られている、無電解めっき同様低コストで透明性、導電性を確保するためには銅めっきを用いる事が好ましい。銅めっき法としては公知の硫酸銅めっき、ホウフッ化銅めっき、シアン化銅めっき、ピロリン酸銅めっきなどいずれの方法でも用いる事ができるが、廃液の簡便さから硫酸銅めっき、特にハイスロ−硫酸銅めっきを用いることが好ましい。これら電解めっき法の詳細は例えば「めっき技術ガイドブック」（東京鍍金材料協同組合技術委員会編、１９８７年）ｐ７５〜１１２などに記載されている。 In the present invention, electrolytic plating can be applied in addition to electroless plating. In particular, in the present invention, sufficient electroconductivity can be obtained by development processing, so that electroplating can be sufficiently performed from the beginning without performing electroless plating. Various plating methods such as copper plating, nickel plating, zinc plating, cadmium plating, tin plating, and alloy plating are known as electroplating. To ensure transparency and conductivity at low cost as with electroless plating It is preferable to use copper plating. As the copper plating method, any of the known methods such as copper sulfate plating, copper borofluoride plating, copper cyanide plating, copper pyrophosphate plating, etc. can be used. Plating is preferably used. Details of these electroplating methods are described in, for example, “Plating Technology Guidebook” (edited by the Technical Committee of Tokyo Sheet Metal Cooperative Association, 1987) p75-112.
本発明では、めっき処理の前に金属銀部を無電解めっきを促進させる目的でパラジウムを含有する溶液で活性化処理することもできる。パラジウムとしては２価のパラジウム塩あるいはその錯体塩の形でも良いし，また金属パラジウムであっても良い。しかし、液の安定性、処理の安定性から好ましくはパラジウム塩あるいはその錯塩を用いることが良い。 In the present invention, the metal silver portion can be activated with a solution containing palladium for the purpose of promoting electroless plating before the plating treatment. Palladium may be in the form of a divalent palladium salt or a complex salt thereof, or may be metallic palladium. However, it is preferable to use a palladium salt or a complex salt thereof in view of the stability of the liquid and the stability of the treatment.
本発明においてはめっき処理後、酸化処理を行う事も可能である。酸化処理としては、種々の酸化剤を用いた公知の方法を用いる事ができる。酸化処理液には酸化剤としてＥＤＴＡ鉄塩、ＤＴＰＡ鉄塩、１，３−ＰＤＴＡ鉄塩、β−ＡＤＡ鉄塩、ＢＡＩＤＡ鉄塩などの各種アミノポリカルボン酸鉄塩、重クロム酸塩、過硫酸塩、過マンガン酸塩、赤血塩などを用いることができるが、環境負荷が少なく、安全なアミノポリカルボン酸鉄を用いる事が好ましい。酸化剤の使用量は０．０１〜１モル／Ｌ、好ましくは０．１〜０．３モル／Ｌである。その他に促進剤として臭化物、ヨウ化物、グアニジン類、キノン類、ヴァイツラジカル、アミノエタンチオール類、チアゾール類、ジスルフィド塁、へテロ環メルカプト類など公知のものを用いる事もできる。 In the present invention, after the plating treatment, an oxidation treatment can also be performed. As the oxidation treatment, known methods using various oxidizing agents can be used. In the oxidation treatment liquid, various aminopolycarboxylic acid iron salts such as EDTA iron salt, DTPA iron salt, 1,3-PDTA iron salt, β-ADA iron salt, BAIDA iron salt, dichromate, persulfate, etc. Salts, permanganates, red blood salts, and the like can be used, but it is preferable to use iron aminopolycarboxylate that is low in environmental burden and safe. The amount of the oxidizing agent used is 0.01 to 1 mol / L, preferably 0.1 to 0.3 mol / L. In addition, known accelerators such as bromides, iodides, guanidines, quinones, witz radicals, aminoethanethiols, thiazoles, disulfide cages, and heterocyclic mercaptos can also be used.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、無論この記述により本発明が制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but it is needless to say that the present invention is not limited by this description.
本発明に使用される前駆体を作製するために、透明支持体として、厚み１００μｍの塩化ビニリデンを含有する下引き層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。この支持体上に下記組成の裏塗り層を塗布した。 In order to produce the precursor used in the present invention, a polyethylene terephthalate film having an undercoat layer containing vinylidene chloride having a thickness of 100 μm was used as a transparent support. A backing layer having the following composition was coated on this support.
＜裏塗り層組成／１ｍ2あたり＞
ゼラチン ２ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径５μｍ） ２０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ４００ｍｇ
<Backcoat layer composition / per 1 m 2 >
2g of gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 5μm) 20mg
Surfactant (S-1) 400mg
ハロゲン化銀乳剤は写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀４０モル％と臭化銀６０モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀３ｇあたり１ｇのゼラチンを含む。 The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared such that silver chloride was 40 mol% and silver bromide 60 mol%, and the average grain size was 0.15 μm. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 1 g of gelatin per 3 g of silver.
得られたハロゲン化銀乳剤にピナクリプトールイエローを表１の如く加え、感度の異なるハロゲン化銀乳剤を作製した。これら感度の異なるハロゲン化銀乳剤の感度を調べるため、下記処方αにて裏塗層塗布済み支持体の裏塗層を反対側に塗布し、乾燥した。その後、５０ミクロンのネガ・ポジの細線画像を水銀灯を光源とする密着プリンターで露光し、Ｇｅｋｋｏｌ現像液（三菱製紙（株）社製）で２０℃９０秒で現像処理し、２％酢酸２０℃３０秒停止処理、ダイヤフィックス（三菱製紙（株）社製）で２０℃１８０秒定着処理することで，細線画像を作製し、太さが一致するに要する光量を求め、ピナクリプトールイエロー未添加の乳剤に対する相対感度を求めた。表１にその結果を示す。 Pinacryptol yellow was added to the resulting silver halide emulsion as shown in Table 1 to prepare silver halide emulsions having different sensitivities. In order to examine the sensitivity of these silver halide emulsions having different sensitivities, the backing layer of the support coated with the backing layer was coated on the opposite side according to the following formulation α and dried. Then, a 50 micron negative / positive fine line image was exposed with a contact printer using a mercury lamp as a light source, developed with Gekol developer (Mitsubishi Paper Co., Ltd.) at 20 ° C. for 90 seconds, and 2% acetic acid at 20 ° C. 30-second stop processing, Diafix (manufactured by Mitsubishi Paper Industries Co., Ltd.), fixing process at 20 ° C for 180 seconds to produce a fine line image, determine the amount of light required to match the thickness, and no pinacryptol yellow added The relative sensitivity to the emulsion was determined. Table 1 shows the results.
＜ハロゲン化銀乳剤層組成α／１ｍ2あたり＞
ゼラチン １ｇ
ハロゲン化銀乳剤 ３．０ｇ銀相当
界面活性剤（Ｓ−１） ２０ｍｇ
グリオキサール（４０％水溶液） ５０ｍｇ
<Per silver halide emulsion layer composition α / 1 m 2 >
1g of gelatin
Silver halide emulsion 3.0g silver equivalent Surfactant (S-1) 20mg
Glyoxal (40% aqueous solution) 50mg
続いて、裏塗層塗布済み支持体上に裏塗層と反対側に下記処方βのようにハロゲン化銀乳剤層を塗布した。該ハロゲン化銀乳剤は感光性ハロゲン化銀としてピナクリプトールイエローを加えていないハロゲン化銀乳剤Ｆを含有し、該感光性ハロゲン化銀の７０％以下の感度を有する銀塩としてピナクリプトールイエロー添加ハロゲン化銀乳剤（以下色素追加乳剤と略す：色素追加乳剤Ａ〜Ｅ）を含有する事となる。 Subsequently, a silver halide emulsion layer was coated on the support coated with the backing layer on the side opposite to the backing layer as shown in the following formula β. The silver halide emulsion contains silver halide emulsion F to which no pinacryptol yellow is added as a photosensitive silver halide, and pinacryptol yellow as a silver salt having a sensitivity of 70% or less of the photosensitive silver halide. An additive silver halide emulsion (hereinafter abbreviated as dye additional emulsion: dye additional emulsions A to E) is contained.
＜ハロゲン化銀乳剤層組成β／１ｍ2あたり＞
ゼラチン １ｇ
ハロゲン化銀乳剤（ピナクリプトールイエローなし） １．５ｇ銀相当
色素追加乳剤（Ａ〜Ｅ） １．５ｇ銀相当
界面活性剤（Ｓ−１） ２０ｍｇ
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ３．０ｍｇ
グリオキサール（４０％水溶液） ５０ｍｇ
<Silver halide emulsion layer composition β / 1 m 2 >
1g of gelatin
Silver halide emulsion (no pinacryptol yellow) 1.5g silver equivalent Dye-added emulsion (AE) 1.5g silver equivalent Surfactant (S-1) 20mg
1-phenyl-5-mercaptotetrazole 3.0 mg
Glyoxal (40% aqueous solution) 50mg
このようにして得た前駆体を、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介し、細線幅２０μｍで格子間隔２５０μｍの網目パタンの透過原稿を密着させて露光した。 The precursor thus obtained was exposed by closely contacting a transparent original having a fine line width of 20 μm and a lattice pattern of 250 μm through a resin filter that cuts light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source.
続いて、下記現像液処方Ａに２５℃で４０秒間浸漬した後、続いて２％酢酸溶液に２０℃で３０秒浸漬させ停止処理し、さらにダイヤフィックス定着液にて２０℃１８０秒定着処理し、導電性材料Ｉ〜VIを得た。 Subsequently, after immersing in the following developer formulation A at 25 ° C. for 40 seconds, the substrate was then immersed in a 2% acetic acid solution for 30 seconds at 20 ° C. and then stopped, and further fixed at 20 ° C. for 180 seconds. Conductive materials I to VI were obtained.
＜現像液イ＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン １５ｇ
臭化カリウム ０．５ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する
<Developer A>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-methylethanolamine 15g
Potassium bromide 0.5g
Total volume 1000ml with water
Adjust to pH = 12.2
上記のようにして得られた網目パターン状銀薄膜が形成された透明導電性材料の表面抵抗率は、（株）ダイアインスツルメンツ製、ロレスタ−ＧＰ／ＥＳＰプローブを用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１９４に従い測定した。また、全光線透過率を測定した。その結果を表２に示す。 The surface resistivity of the transparent conductive material on which the mesh-patterned silver thin film obtained as described above was formed was measured according to JIS K 7194 using a Loresta-GP / ESP probe manufactured by Dia Instruments Co., Ltd. . Moreover, the total light transmittance was measured. The results are shown in Table 2.
表２から明らかなように感光性ハロゲン化銀と非感光性銀塩を含有するハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を用いた導電性材料の導電性はめっきなしでも高い導電性を持つことが判る。また、透明性については特に差は見られない。 As is apparent from Table 2, the conductivity of the conductive material using the conductive material precursor containing the silver halide emulsion layer containing the photosensitive silver halide and the non-photosensitive silver salt is high even without plating. You can see that There is no particular difference in transparency.
実施例１で作製した導電性材料前駆体のＮｏ５を用い（すなわちピナクリプトールイエローによる減感処理は行わず、全て同じ感度のハロゲン化銀乳剤を用いた試料）、下記現像液ロ，ハ及び比較現像液ニで２５℃４０秒現像し、その後実施例１と同様に停止，定着処理を行い、導電性材料VII〜IXを得た。これを実施例１と同様に評価を行って、その結果表３の結果を得た。
＜現像液ロ＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
モノエタノールアミン ３０ｇ
臭化カリウム ０．５ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する
処理直前に塩化銀３５．８ｇを混合し、溶解した。
Using the conductive material precursor No. 5 prepared in Example 1 (that is, a sample using a silver halide emulsion having the same sensitivity without performing desensitization treatment with pinacryptol yellow), the following developers B, C and Development was performed at 25 ° C. for 40 seconds with a comparative developer d, and then stopped and fixed in the same manner as in Example 1 to obtain conductive materials VII to IX. This was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results shown in Table 3 were obtained.
<Developer B>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
Monoethanolamine 30g
Potassium bromide 0.5g
Total volume 1000ml with water
Immediately before the treatment for adjusting the pH to 12.2, 35.8 g of silver chloride was mixed and dissolved.
＜現像液ハ＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン ３７ｇ
臭化カリウム ０．５ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する
処理直前に塩化銀３５．８ｇを混合し、溶解した。
<Developer C>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-methylethanolamine 37g
Potassium bromide 0.5g
Total volume 1000ml with water
Immediately before the treatment for adjusting the pH to 12.2, 35.8 g of silver chloride was mixed and dissolved.
＜比較現像液ニ＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
臭化カリウム ０．５ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する
<Comparison developer>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
Potassium bromide 0.5g
Total volume 1000ml with water
Adjust to pH = 12.2
表３より銀イオンを含有する現像液で処理した導電性材料は高い導電性を所持することがわかる。また、透明性については特に銀イオン含有現像液で処理することで変化は見られない。 It can be seen from Table 3 that the conductive material treated with the developer containing silver ions has high conductivity. In addition, the transparency is not particularly changed by processing with a silver ion-containing developer.
実施例１で得られた導電性材料ＮｏII，III及び、実施例２で得られた導電性材料VIIIを用い、これらをＡ４サイズに裁断し、０．００１モル／ＬのＰｄＣｌ2水溶液に２０℃１０秒浸漬した後、下記めっき液を用いて無電解めっきを行った。銅めっき処理は７０℃で１０分間とし、その間めっき液はエアレーションを行った。こうして得られた透明導電性材料の表面抵抗率を測定した。得られた結果を表４にまとめる。 Using the conductive materials NoII and III obtained in Example 1 and the conductive material VIII obtained in Example 2, these were cut into A4 size, and 20 ° C. in 0.001 mol / L PdCl 2 aqueous solution. After immersion for 10 seconds, electroless plating was performed using the following plating solution. The copper plating treatment was performed at 70 ° C. for 10 minutes, and the plating solution was aerated during that time. The surface resistivity of the transparent conductive material thus obtained was measured. The results obtained are summarized in Table 4.
＜銅めっき液＞
硫酸銅５水和物 １０ｇ
ＥＤＴＡ・２Ｎａ ４０ｇ
ホルマリン（３７％） ３ｍｌ
水酸化ナトリウム ９ｇ
ビピリジル ０．０１ｇ
ポリエチレングリコール ０．０１ｇ
水を加えて１Ｌとした。
ｐＨ＝１２．２に調整する
<Copper plating solution>
10 g of copper sulfate pentahydrate
EDTA · 2Na 40g
Formalin (37%) 3ml
Sodium hydroxide 9g
Bipyridyl 0.01g
Polyethylene glycol 0.01g
Water was added to make 1L.
Adjust to pH = 12.2
表４より本発明で得られる導電性材料をさらにめっき処理することでより高い導電性材料を得る事もできることが判る。 It can be seen from Table 4 that a higher conductive material can be obtained by further plating the conductive material obtained in the present invention.
実施例１で使用した裏塗層塗布済み支持体上に裏塗層と反対側に下記ハロゲン化銀処方γ、δを支持体に近い順からγ、δの順に（導電性材料前駆体Ｎｏ７）、あるいはδ、γの順に（導電性材料前駆体Ｎｏ８）ハロゲン化銀乳剤層を塗布し、さらに実施例１と同様に露光、現像、停止，定着処理を行い導電性材料Ｘ、ＸＩを得た。これを実施例１同様評価した結果、表５のようになった。 The following silver halide prescriptions γ and δ on the opposite side of the backing layer used in Example 1 on the opposite side of the backing layer were arranged in the order of γ and δ from the order closest to the support (conductive material precursor No7). Alternatively, a silver halide emulsion layer was applied in the order of δ and γ (conductive material precursor No. 8), and further exposed, developed, stopped and fixed in the same manner as in Example 1 to obtain conductive materials X and XI. . As a result of evaluating the same as in Example 1, it was as shown in Table 5.
＜ハロゲン化銀乳剤層組成γ／１ｍ2あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤Ｆ（ピナクリプトールイエローなし） １．５ｇ銀相当
界面活性剤（Ｓ−１） １０ｍｇ
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール １．５ｍｇ
グリオキサール（４０％水溶液） ２５ｍｇ
<Silver halide emulsion layer composition γ / 1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Silver halide emulsion F (no pinacryptol yellow) 1.5 g silver equivalent Surfactant (S-1) 10 mg
1-phenyl-5-mercaptotetrazole 1.5mg
Glyoxal (40% aqueous solution) 25mg
＜ハロゲン化銀乳剤層組成δ／１ｍ2あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤Ｂ １．５ｇ銀相当
界面活性剤（Ｓ−１） １０ｍｇ
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール １．５ｍｇ
グリオキサール（４０％水溶液） ２５ｍｇ
<Silver halide emulsion layer composition δ / 1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Silver halide emulsion B 1.5g equivalent to silver Surfactant (S-1) 10mg
1-phenyl-5-mercaptotetrazole 1.5mg
Glyoxal (40% aqueous solution) 25mg
表５より感光性ハロゲン化銀乳剤層と該ハロゲン化銀乳剤層の４０％の感度をもつハロゲン化銀乳剤層を分離しても高い導電性を得ることができることが判る。また、低感度のハロゲン化銀乳剤層を下層に設ける方が好ましい結果を得ることができることも判る。 From Table 5, it can be seen that high conductivity can be obtained even if the photosensitive silver halide emulsion layer and the silver halide emulsion layer having a sensitivity of 40% of the silver halide emulsion layer are separated. It can also be seen that a preferable result can be obtained by providing a low-sensitivity silver halide emulsion layer in the lower layer.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2005229930A JP4512535B2 (en) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | Manufacturing method of conductive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2005229930A JP4512535B2 (en) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | Manufacturing method of conductive material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007047318A true JP2007047318A (en) | 2007-02-22 |
| JP4512535B2 JP4512535B2 (en) | 2010-07-28 |
Family
ID=37850208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005229930A Expired - Fee Related JP4512535B2 (en) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | Manufacturing method of conductive material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4512535B2 (en) |
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Legal Events
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