JP2007026728A - 誘導加熱方法及び焼入方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ブッシュ110の外周壁110aと内周壁110bを同時に焼入れするために、誘導加熱コイル14としては外周壁110aに近接して沿う形状の環状のものを用い、誘導加熱コイル16としては内周壁110bに近接して沿う形状の環状のものを用いた。外周壁110aには深い硬化層d1を形成し、内周壁110bには浅い硬化層d2を形成する。このため、誘導加熱コイル14には、1kHz以上50kHz以下の範囲内の周波数をもつ第1交流電力が供給される一方、誘導加熱コイル16には、50kHz以上1MHz以下の範囲内の周波数をもつ第2交流電力が供給される。交流電力の周波数は、ブッシュ110の材質や硬化層の深さ等に応じて適宜に決める。
【選択図】図4
Description
(1)1kHz以上50kHz以下の範囲内の周波数をもつ第1交流電力と50kHz以上1MHz以下の範囲内の周波数をもつ第2交流電力とを所定の時間比率配分に従って切り替えて発振するように1台の発振器を制御しながら、この1台の発振器から前記第1交流電力を一方の第1誘導加熱コイルに発振すると共に、この発振のタイミングとは異なるタイミングで前記第2交流電力を他方の第2誘導加熱コイルに発振し、
(2)これら2つの誘導加熱コイルで互いに異なる被加熱対象部位を同時に誘導加熱することを特徴とするものである。
(3)前記第1誘導加熱コイルを有する直列共振回路が前記第1交流電力の周波数で共振するように、前記第1交流電力の電流値に基づいて前記1台の発振器を制御すると共に、
(4)前記第2誘導加熱コイルを有する直列共振回路が前記第2交流電力の周波数で共振するように、前記第2交流電力の電流値に基づいて前記1台の発振器を制御してもよい。
(5)前記第1誘導加熱コイルへの前記第1交流電力の発振を停止してから前記第2誘導加熱コイルへの前記第2交流電力の発振を開始するまでは1ms以下の時間間隔であってもよい。
(6)前記第2誘導加熱コイルへの前記第2交流電力の発振を停止してから前記第1誘導加熱コイルへの前記第1交流電力の発振を開始するまでは1ms以下の時間間隔であってもよい。
(7)1kHz以上50kHz以下の範囲内の周波数をもつ第1交流電力と50kHz以上1MHz以下の範囲内の周波数をもつ第2交流電力とを所定の時間比率配分に従って切り替えて発振するように1台の発振器を制御しながら、この1台の発振器から前記第1交流電力を一方の第1誘導加熱コイルに発振すると共に、この発振のタイミングとは異なるタイミングで前記第2交流電力を他方の第2誘導加熱コイルに発振し、
(8)これら2つの誘導加熱コイルそれそれで互いに異なる被加熱対象部位を同時に誘導加熱してこれら異なる被加熱対象部位を焼入温度にし、
(9)この焼入温度に加熱された前記異なる被加熱対象部位を同時に焼入れすることを特徴とするものである。
(10)前記互いに異なる被加熱対象部位を誘導加熱する際に、上記した誘導加熱方法を実施してもよい。
(11)前記第1誘導加熱コイルによって誘導加熱する被加熱対象部位は円筒状被加熱物の外周壁であり、前記第2誘導加熱コイルによって誘導加熱する被加熱対象部位は前記円筒状被加熱物の内周壁であり、これら外周壁と内周壁を同時に焼入れしてもよい。
14,16 誘導加熱コイル
18 交流電源
20 発振器
40,80 整合器
60 電源制御回路
42,82 第1直列共振回路
44,84 第2直列共振回路
110 ブッシュ
110a 外周壁
110b 内周壁
Claims (7)
- 1kHz以上50kHz以下の範囲内の周波数をもつ第1交流電力と50kHz以上1MHz以下の範囲内の周波数をもつ第2交流電力とを所定の時間比率配分に従って切り替えて発振するように1台の発振器を制御しながら、この1台の発振器から前記第1交流電力を一方の第1誘導加熱コイルに発振すると共に、この発振のタイミングとは異なるタイミングで前記第2交流電力を他方の第2誘導加熱コイルに発振し、これら2つの誘導加熱コイルで互いに異なる被加熱対象部位を同時に誘導加熱することを特徴とする誘導加熱方法。
- 前記第1誘導加熱コイルを有する直列共振回路が前記第1交流電力の周波数で共振するように、前記第1交流電力の電流値に基づいて前記1台の発振器を制御すると共に、
前記第2誘導加熱コイルを有する直列共振回路が前記第2交流電力の周波数で共振するように、前記第2交流電力の電流値に基づいて前記1台の発振器を制御することを特徴とする請求項1に記載の誘導加熱方法。 - 前記第1誘導加熱コイルへの前記第1交流電力の発振を停止してから前記第2誘導加熱コイルへの前記第2交流電力の発振を開始するまでは1ms以下の時間間隔であることを特徴とする請求項1又は2に記載の誘導加熱方法。
- 前記第2誘導加熱コイルへの前記第2交流電力の発振を停止してから前記第1誘導加熱コイルへの前記第1交流電力の発振を開始するまでは1ms以下の時間間隔であることを特徴とする請求項1,2,又は3に記載の誘導加熱方法。
- 1kHz以上50kHz以下の範囲内の周波数をもつ第1交流電力と50kHz以上1MHz以下の範囲内の周波数をもつ第2交流電力とを所定の時間比率配分に従って切り替えて発振するように1台の発振器を制御しながら、この1台の発振器から前記第1交流電力を一方の第1誘導加熱コイルに発振すると共に、この発振のタイミングとは異なるタイミングで前記第2交流電力を他方の第2誘導加熱コイルに発振し、これら2つの誘導加熱コイルそれそれで互いに異なる被加熱対象部位を同時に誘導加熱してこれら異なる被加熱対象部位を焼入温度にし、
この焼入温度に加熱された前記異なる被加熱対象部位を同時に焼入れすることを特徴とする焼入方法。 - 前記互いに異なる被加熱対象部位を誘導加熱する際に、請求項2から4までのうちのいずれか一項に記載の誘導加熱方法を実施することを特徴とする請求項5記載の焼入方法。
- 前記第1誘導加熱コイルによって誘導加熱する被加熱対象部位は円筒状被加熱物の外周壁であり、前記第2誘導加熱コイルによって誘導加熱する被加熱対象部位は前記円筒状被加熱物の内周壁であり、これら外周壁と内周壁を同時に焼入れすることを特徴とする請求項6に記載の焼入方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005203530A JP2007026728A (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 誘導加熱方法及び焼入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005203530A JP2007026728A (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 誘導加熱方法及び焼入方法 |
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JP2007026728A true JP2007026728A (ja) | 2007-02-01 |
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ID=37787266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005203530A Pending JP2007026728A (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 誘導加熱方法及び焼入方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2007026728A (ja) |
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