JP2007026606A - レーザホルダ装置および光ピックアップ - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体レーザの放射方向を調整するレーザホルダ装置において、加工誤差等に伴う発光点位置の光軸方向誤差を抑制する。
【解決手段】ベースホルダ1と、半導体レーザ素子2を保持するチルトホルダ2と、ベースホルダ1およびチルトホルダ2を回動可能に摺接する回動手段の回転中心を発光点位置より後方に設定する。回動手段は、チルトホルダ2に設けた凸球面状の凸球部5とベースホルダに設けた凹円錐上のチルト台座3からなる。このように、回動手段の回転中心を発光点位置から後方としたので、チルト台座3及び凸球部5の接線と光軸とのなす角度が大きくなり、部品加工誤差が発光点光軸位置ずれに与える影響を抑制できる。
【選択図】図1
【解決手段】ベースホルダ1と、半導体レーザ素子2を保持するチルトホルダ2と、ベースホルダ1およびチルトホルダ2を回動可能に摺接する回動手段の回転中心を発光点位置より後方に設定する。回動手段は、チルトホルダ2に設けた凸球面状の凸球部5とベースホルダに設けた凹円錐上のチルト台座3からなる。このように、回動手段の回転中心を発光点位置から後方としたので、チルト台座3及び凸球部5の接線と光軸とのなす角度が大きくなり、部品加工誤差が発光点光軸位置ずれに与える影響を抑制できる。
【選択図】図1
Description
本発明は、光ピックアップの光源となる半導体レーザ素子を支持するレーザホルダ装置およびそれを用いた光ピックアップに関する。
半導体レーザを用いて光ピックアップを構成する場合には、半導体レーザ素子自身の持つ特性ばらつきや組立てばらつきを吸収するために、半導体レーザ素子の姿勢や位置を調整する必要が生じていた。特に、半導体レーザの出射光はガウス分布状の光量分布を持つ発散光であり、その強度分布の中心軸を光ピックアップの光軸に一致させることが行われる。
従来、半導体レーザの姿勢を調整するために、2つのホルダ部材の相対的な姿勢を調整する技術が例えば特許文献1に開示されている。この特許文献1に開示のレーザホルダ装置と光ピックアップとの構成を、図4および図5に示す。図4において100はベースとなるベースホルダ、101は半導体レーザ素子、102はチルトホルダで、半導体レーザ素子101はチルトホルダ102に圧入固定されている。ベースホルダ100には凹球面の一部分からなる球面座103が設けられており、チルトホルダ102には凸球面の一部分からなる凸球部104が設けられ、凸球部104は球面座103に圧接している。このとき、凸球部104と球面座103は実質同一の半径をもち、その中心位置は半導体レーザ素子101の発光点(図示せず)と一致している。そのため、チルトホルダ102をベースホルダ100上で傾き調整を行っても発光点位置を中心に回動するため、発光点位置は変化しない。
また、図5において、105は光ピックアップ筐体、106はコリメートレンズ、107は対物レンズでコリメートレンズ106は半導体レーザ素子101から放射されるレーザ光を略平行光に変換する。レーザ光は偏向ミラー108によって方向を変えられ、対物レンズ107を通して情報記録媒体である光ディスク109に照射される。
このような構成であるため、ベースホルダ100でチルトホルダ101を傾斜させることで半導体レーザからの放射光の方向を調整することが可能である。
例えば出射光の強度分布を観測しながら姿勢を調整し、ベースホルダ100の基準面110に対して垂直方向に強度分布の中心方向が一致するように調整した状態で、ベースホルダ100とチルトホルダ102とを接着固定して姿勢を確定する。その後にベースホルダ100のベース基準面110と光ピックアップ筐体105上のピック基準面111とを摺接させて光軸に垂直な面内で位置調整を行い、光ピックアップの光軸とレーザ光の強度分布中心軸とを一致させる。そして、この状態を維持するために光ピックアップ筐体105とベースホルダ100とを接着固定することで、半導体レーザ素子101を光ピックアップ筐体105へ取り付ける調整作業が完了する。
特開2000−155952号公報(図2、図3)
以上のような従来の構成では、次に示すような課題がある。それは、レーザホルダ装置の小型化と光軸方向の発光点位置精度との両立が困難というものであり、その内容を以下説明する。なお、理解度を高めるため、図6に示した半導体レーザ素子、チルトホルダ及びベースホルダの断面図を参照して説明する。
典型的な半導体レーザ素子101は、直径5.6mmの円形台座112に設けた矩形の柱113にレーザチップ114を貼り付け、ガラス窓115を設けた直径4mm程度の円筒状のキャップ116で封止した構成をとる。レーザチップ114の発光点117の位置は、円形台座112の基準平面118からおよそ1.3mmの距離にあり、キャップ116の先端からはおよそ1mmである。さらに典型的な数値としては、発光点位置は±80μmくらいまでの位置誤差と、±3度くらいまでの出射方向誤差を持つ。出射方向誤差とは、半導体レーザ素子101の基準面の法線を基準とした強度分布中心方向の角度の誤差である。
図6は、上記した典型的な寸法に基づいて描いたレーザホルダ装置で、チルトホルダ102にはレーザ出射のための開口部を設けている。ベースホルダ100に設けた凹状の球面座103とチルトホルダ102に設けた凸球部104とが嵌合した状態で摺接するが、現実的には両者は理想的な球面ではなく、加工上の誤差や微妙な凹凸を持つため、球面座に対して凸球部104の半径をわずかに小さく設定せざるを得ない。そのため、両者の接触は、球面座103の開口部側で起こる。球面座103と凸球部104との接触部での凸球部における接線Aが、ベースホルダ100のベース基準平面119の法線120となす角度がわずか21度ほどしかない。もし、凸球部104の半径が設計値よりも小さい値だった場合は、凸球部104の位置は相対的に出射方向前方へ移動し、逆に凸球部104の半径が大きければ後方へ移動することになる。この移動は、凸球部104がチルトホルダ102の一部であって、さらに半導体レーザ素子101と一体であることから、発光点位置の光軸方向誤差となる。その位置誤差を記号xで示すと、上述の接線の角度をθ、半径の誤差量をΔRとしたとき、位置誤差xは次の(式1)
(位置誤差x)=ΔR/sinθ 式1
で与えられる。
(位置誤差x)=ΔR/sinθ 式1
で与えられる。
(式1)のように、位置誤差xは半径誤差ΔRをsinθで除すことになるので、θの値が小さいほど急激に位置誤差xは大きくなる。図7はΔRの単位量あたりの位置誤差xとθとの関係をグラフにしたものである。θが21度の場合、位置誤差xはΔRの2.8倍となり、ΔRを30μmとすれば、位置誤差xは84μmにも達する。これは球面座103の加工誤差にも同じことがいえるため、もし球面座103の加工誤差と凸球部の加工誤差とが共に±30μmであるとすれば、両者を加え合わせると位置誤差xは±168μm近くになる。この値は光ピックアップにおける発光点の位置誤差としては大きな値である。
この位置誤差xを抑制するためには、(式1)においてΔRを小さくするか、θを大きくすれば良いが、ΔRを大幅に抑制することは加工コストの上昇という問題があり現実的ではない。一方、θを大きくするためには、図8に示すように、球面座103と凸球部104との接触位置を出射方向前方に配置する方法がある。例えば図8の如くすれば、θの値は約70度とすることが出来、チルトホルダ102の位置誤差は半減する。しかし、この場合は、レーザホルダ装置全体の大きさが光軸方向に大型化し、ひいてはそれを搭載する光ピックアップが大型化してしまうという課題がある。
すなわち従来のレーザホルダ装置では、上記したように、レーザホルダ装置ひいては光ピックアップの小型化と、半導体レーザ素子の光軸方向位置精度を両立させることが困難であるという課題があった。
本発明は係る従来の課題を解決するためになされ、大型化を避けつつ半導体レーザ素子2の光軸方向位置精度を向上させるレーザホルダ装置を提供することを目的とし、さらには前記レーザホルダ装置を用いた小型の光ピックアップを提供することを目的とする。
前記従来の課題を解決するために、本発明のレーザホルダ装置は、半導体レーザ素子を保持する第1のホルダ部材と、前記第1のホルダに対して回動自在に摺接する回動手段を備えた第2のホルダ部材とを有し、前記回動手段の回動中心が、前記半導体レーザ素子の発光点の、前記発行点から放射する光束の放射方向とは逆の方向に備える構成である。
本発明のレーザホルダ装置によれば、装置の大型化を避けるとともに半導体レーザ素子から発光されるレーザ放射光の発光点位置の光軸方向誤差を抑制することが可能であり、小型で高精度なレーザホルダ装置を提供することができる。また、このレーザホルダ装置を用いることで小型の光ピックアップを提供することができる。
つづいて、本発明におけるレーザホルダ装置およびそれを用いた光ピックアップの最も好ましい実施形態について図面を用いて説明する。
(実施の形態1)
図1および図2において、1はベースホルダ、2は半導体レーザ素子、3はチルトホルダで、チルトホルダ3に半導体レーザ素子2を圧入あるいは接着によって保持している。ベースホルダ1には、凹状の円錐面の一部分からなるあおり座面4が設けられ、チルトホルダ3には凸状の球面の一部分からなる凸球部5が設けられている。あおり座面4に凸球部5が押し当てられて摺接することで、凸球部5の中心を回動中心6として回動可能な回動手段7を構成している。
図1および図2において、1はベースホルダ、2は半導体レーザ素子、3はチルトホルダで、チルトホルダ3に半導体レーザ素子2を圧入あるいは接着によって保持している。ベースホルダ1には、凹状の円錐面の一部分からなるあおり座面4が設けられ、チルトホルダ3には凸状の球面の一部分からなる凸球部5が設けられている。あおり座面4に凸球部5が押し当てられて摺接することで、凸球部5の中心を回動中心6として回動可能な回動手段7を構成している。
このように、回動手段7は円錐面と球面による摺回動対偶となるので、回動中心6を通る任意軸回りに回動可能である。このとき、回動中心6は半導体レーザ素子2の光放射方向に対して発光点8から、二点鎖線で示した光束の放射方向とは逆向き(以下、後方と称す)にある。本実施携帯では発光点8より3mm後方である。半導体レーザ素子2の寸法は、従来例で説明した典型的な値としている。すなわち、直径5.6mmの円形台座9から1.3mmの位置に発光点8があり、ガラス窓10を備える円筒状のキャップ11により封止される。ベースホルダ1にはホルダ基準面12があり、あおり座面4の部分円錐面の中心軸は、一点鎖線で示したホルダ基準面12の法線である。また、破線で示した円錐面の頂角は110°である。
また図3において、13は光ピックアップ筐体、14はコリメートレンズ、15は対物レンズで、コリメートレンズ14は半導体レーザ素子2から放射される光束(レーザ光)を略平行光に変換する。レーザ光は偏向ミラー16によって方向を変えられ、対物レンズ15を介して情報記録媒体である光ディスク17の不図示の情報層に光スポットを形成する。なお、図1および図2におけるホルダ基準面12は、光ピックアップ筐体13への取り付け基準であり、光ピックアップ筐体13に設けたピック基準面18と対向して当接せしめる。
このような構成であるため、回動手段7を用いてベースホルダ1に対してチルトホルダ3を傾斜させることで、半導体レーザ素子2からの放射光の方向を調整することが可能である。例えば出射光の強度分布を観測しながら傾斜させ、ベースホルダ1のホルダ基準面12に対し、垂直方向に強度分布の中心方向が一致するように調整することができる。この状態でベースホルダ1とチルトホルダ3とを接着固定し、両者の相対的な姿勢を確定する。その後にベースホルダ1のホルダ基準面12と光ピックアップ筐体13のピック基準面18とを面内摺接させて位置調整を行うことで、光ピックアップの光軸(すなわち、対物レンズ15の光軸中心)とレーザ光の強度分布中心軸とを一致させる。そして、この状態を維持するために光ピックアップ筐体13とベースホルダ18とを接着固定し、半導体レーザ素子2を光ピックアップ筐体13へ取り付ける調整作業が完了する。
図1は上記した構成のレーザホルダ装置の断面であるが、回動手段7におけるあおり座面4と凸球部5の摺接部は、あおり座面4の部分円錐面の中間位置にある。図1における接触部での凸球部5の接線とホルダ基準面12の法線とのなす角度θは、およそ55°である。これはあおり座面4の部分円錐面の頂角の1/2である。
さて、従来例で説明したように、現実的には各機構部品には加工誤差が存在し、一般的には図面上で公差として規定される。ここで従来例と同様に、凸球部5の半径の加工誤差を±30μmとする。このように凸球部5の半径に誤差があると、チルトホルダ3とベースホルダ1との光軸方向の位置関係にも誤差が生ずることは前述したとおりである。すなわち、半径が設計値よりも小さいとチルトホルダ3は相対的に前方にずれ、半径が大きいと後方へずれる。その量は前述の(式1)で示され、半径の単位誤差量あたりのずれ量をグラフにしたものが図7である。
本実施形態では角度θが55°であるため、(式1)から凸球部5の半径誤差の1.22倍の発光点位置誤差が発生する。凸球部5の半径誤差ΔRに±30μmを適用すれば、発光点位置誤差は大凡±37μmとなる。無論、あおり座面4の加工誤差も同様の影響があり、同様に部分円錐面が面の法線方向に±30μmの誤差をもつとすれば同じ計算が成り立ち、大凡±37μmの光軸方向誤差となる。両者を足し合わせると±74μmであるが、従来例に比べると半分以下に抑制される。
このように、凸球部5の接線とホルダ基準面12の法線とのなす角度θが55°と大きいので、チルトホルダ3の光軸方向の位置ずれを抑制することができ、本実施形態におけるレーザホルダ装置は、従来のレーザホルダ装置に比べ、光軸方向誤差を半減することができる。図1において明らかなように、ベースホルダ1のホルダ基準面12の位置は、半導体レーザ素子2のキャップ11先端よりも後方であり、レーザ光の出射方向寸法において大型化を避けること、つまり小型であることも同時に実現している。
本実施形態のレーザホルダ装置では、強度分布中心の方向を調整する際に、ベースホルダ1に対して回動中心6回りに半導体レーザ素子2を回動させることになるので、発光点8の位置がベースホルダ1に対して相対的に動くことになる。しかしながら、回動中心6は半導体レーザ素子2の中心軸近傍にあるため、角度変化が数度程度であれば、光軸方向への発光点8の位置変化はほとんど生じない。例えば回転中心6と発光点8との間の距離は、本実施形態では上述したように3mmとしている。そこで、姿勢変化角度をαとすれば、姿勢調整よる発光点8の位置変化は光軸方向には{3×(1−cosα)}mmである。αは典型的には最大3°であるから、約4μm程度にすぎない。この程度の値は、半導体レーザ素子2自身のもつ典型的な発光点誤差の20分の1でしかないため、実質上無視して差し支えない。一方、光軸方向に垂直な面内にも発光点位置の移動が起こる。これは(3×sinα)mmであり、αが3°とすると、大凡0.16mmにも達する。しかし、光軸方向に垂直な面というのはホルダ基準面12と平行である。光ピックアップの組み立て調整の際に、この面内でホルダ基準面12とピック基準面18とを摺接させて光軸位置調整するため、0.16mmの発光点変化は調整により吸収可能であり、何等問題を発生させない。
なお、本実施形態においては、図1におけるあおり台座4の部分円錐面の頂角を110°、すなわち、凸球部5とホルダ基準面12の法線とのなす角度を55°としたが、これは他の値であってもよい。許容可能な光軸位置ずれを半径誤差のせいぜい2倍までとすれば、図7に示したグラフから接線角度は30°以上とすればよい。これはすなわち、円錐面の頂角としては60°以上であることが好適であることを示し、必ずしも110°とする必要はない。
なお、本実施形態においては、回動手段7として凹円錐面と凸球面の接触によるものとしたが、必ずしもこの組み合わせでなくてもよい。例えば、凹球面と凸球面の組み合わせであってもよいし、あるいは凹三角錐の一部平面と凸球面の組み合わせであってもよい。この場合、凹側と凸側の接触点における凸側の接線の角度を図7のグラフに適用することで、従来例と同様に考えることができる。すなわち、接線の角度が30°以上であるとよい。この場合、凹側と凸側の摺接領域すべてにおいて同一の接線角度には必ずしもならないが、摺接領域上のいずれの任意の点においても接線の角度が30°以上であれば、光軸方向の位置誤差は半径誤差の2倍以下とすることができる。この場合の接線の角度とは、摺接領域上の任意の点及び回動中心点を結ぶ直線と、半導体レーザ素子の中心軸線とのなす角度γ(図示せず)を90°から引いたものにほぼ相当する。そのため、接線の角度が30°以上であることは、角度γが60°以下であることと同じ意味である。
なお、本実施形態によるレーザホルダ装置を用いることにより、光ピックアップにおけるレーザホルダ装置のレーザ光の出射方向の寸法を抑制できるので、半導体レーザ素子2の出射部近傍に光学部品を配置することが可能である。例えば、レーザ出射光量を検出して一定光量に制御するための検出素子(図示せず)へレーザ光を誘導するための光偏向素子(図示せず)、あるいはレーザ出射光のアスペクト比を補正するためのビーム整形素子(図示せず)、レーザ出射光量を外部的に減衰させるNDフィルタ(図示せず)、といったものを配置することが可能となり、光ピックアップ全体の小型化に有用である。特にビーム整形素子を用いる光ピックアップでは、ビーム整形素子をレーザ出射直後に配置することが温度特性などの観点から望ましいとされるため、本発明のレーザホルダ装置を用いるのに好適である。
本発明にかかる発光点の後方に回転中心をもつレーザホルダ装置は、レーザホルダ装置の大型化を避けつつ発光点位置の光軸方向誤差を抑制することができるため、小型の光ピックアップ等に用いるレーザホルダ装置として有用である。
1 ベースホルダ
2 半導体レーザ素子
3 チルトホルダ
4 あおり座面
5 凸球部
6 回動中心
7 回動手段
8 発光点
9 円形台座
10 ガラス窓
11 キャップ
12 ホルダ基準面
13 ピックアップ筐体
14 コリメートレンズ
15 対物レンズ
16 偏向ミラー
17 光ディスク
18 ピック基準面
2 半導体レーザ素子
3 チルトホルダ
4 あおり座面
5 凸球部
6 回動中心
7 回動手段
8 発光点
9 円形台座
10 ガラス窓
11 キャップ
12 ホルダ基準面
13 ピックアップ筐体
14 コリメートレンズ
15 対物レンズ
16 偏向ミラー
17 光ディスク
18 ピック基準面
Claims (6)
- 半導体レーザ素子を保持する第1のホルダ部材と、前記第1のホルダに対して回動自在に摺接する回動手段を備えた第2のホルダ部材とを有し、
前記回動手段の回動中心が、前記半導体レーザ素子の発光点の、前記発行点から放射する光束の放射方向とは逆の方向に備えることを特徴とするレーザホルダ装置。 - 前記回動手段は、前記光束の中心軸に直交する平面内において互いに直交する2軸周りに回動し、前記回動手段の回動中心が前記中心軸上あるいは前記中心軸のごく近傍にあることを特徴とする請求項1記載のレーザホルダ装置。
- 前記回動手段は、前記回動手段の前記回動中心を中心点とする凸状の球面の一部分からなり前記第1のホルダ部材に備える第1の曲面と、凹状の円錐体の一部分からなり前記第2のホルダ部材に備える第2の曲面とを摺接させてなることを特徴とする請求項1または2何れかに記載のレーザホルダ装置。
- 前記第2の曲面を形成する円錐体の頂角が60度以上であることを特徴とする請求項3記載のレーザホルダ装置。
- 前記第1のホルダ及び前記第2のホルダが摺接する摺接領域上の任意の点と前記回動手段の回転中心とを結ぶ直線と、前記光束の中心軸とのなす角度が、60度以下であることを特徴とする請求項1〜3何れかに記載のレーザホルダ装置。
- レーザ光を放射する半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子を保持する請求項1〜5何れかに記載のレーザホルダ装置と、前記レーザ光を集光して光学的情報媒体の情報面上に光スポットを集光する対物レンズと、前記情報面で反射された反射光束を受光する光検出器を少なくとも備えることを特徴とする光ピックアップ。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|---|
JP2011151308A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Alps Electric Co Ltd | 発光装置 |
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2005
- 2005-07-21 JP JP2005210919A patent/JP2007026606A/ja active Pending
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