JP2007025335A - 基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル - Google Patents

基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル Download PDF

Info

Publication number
JP2007025335A
JP2007025335A JP2005208464A JP2005208464A JP2007025335A JP 2007025335 A JP2007025335 A JP 2007025335A JP 2005208464 A JP2005208464 A JP 2005208464A JP 2005208464 A JP2005208464 A JP 2005208464A JP 2007025335 A JP2007025335 A JP 2007025335A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
spacer
spacers
ink
distribution density
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005208464A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007025335A5 (ja
Inventor
Hiroshi Umetsu
寛 梅津
Kenji Yumiba
賢治 弓場
Noriya Wada
憲也 和田
Takuro Hosoe
卓朗 細江
Koichi Kato
公一 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Hitachi High Tech Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp, Hitachi High Tech Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2005208464A priority Critical patent/JP2007025335A/ja
Publication of JP2007025335A publication Critical patent/JP2007025335A/ja
Publication of JP2007025335A5 publication Critical patent/JP2007025335A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】 スペーサインクを散布した後、洗浄によりスペーサの除去が可能な状況下で、基板表面上でのスペーサの分布密度を測定して、スペーサの分布密度にばらつきのある基板の修復を可能にし、もって製品の歩留まりを向上させる。
【解決手段】 インクジェット手段23により基板1の全面に分散させた液滴を乾燥させて除去した後、カメラ35により基板1の表面を所定数の領域に分割して撮影し、各々の分割領域R毎に画像に含まれるスペーサ4の数を測定して、各分割領域R内のスペーサ4の数を計数し、正確にセルギャップが形成される程度にまでスペーサ4が分散されていると、第2の熱処理ステージ15に移行させ、スペーサ4が偏在していると、この基板1を洗浄して、再度スペーサインクの散布を行う。
【選択図】 図7

Description

本発明は、液晶パネル等の表示パネルとして、相互に重ね合わせられる2枚の透明基板間に、液晶封入空間を形成するために、透明基板の表面に、セルギャップを構成する隙間を形成するために、微小粒子からなるスペーサを含有するスペーサインクの液滴を散布して行われる基板のスペーサ分散方法に関し、またこのようにしてスペーサを均一に分散させた透明基板に他の透明基板を重ね合せることによって、均一な隙間からなるセルギャップを有する液晶パネルの製造方法及び液晶パネルに関するものである。
液晶表示装置として、例えばカラーTFT液晶パネルは、共にガラス等の透明基板からなるTFT基板とカラーフィルタとを接合させたものから構成されるが、これらTFT基板とカラーフィルタとは密着状態ではなく、所謂セルギャップと呼ばれる微小な隙間を介して接合されるものであり、この隙間に液晶が封入される。この液晶封入空間を形成する微小隙間はスペーサにより確保されるようになっている。スペーサは球状の微小粒子からなるものであって、液晶パネルとして構成する場合、TFT基板側に散布されるのが一般的である。
セルギャップとなる隙間を均一なものとするために、スペーサを構成する微小粒子は基板全体に均一に分散させる必要がある。しかも、このTFT基板に接合されるカラーフィルタ基板には、TFT基板の画素に対応するように、RGBのカラーフィルタが設けられ、これら各色の画素間にはブラックマトリックスが形成される。スペーサは不透明な粒子であるから、液晶パネルにおける画像の画質低下を防止するために、スペーサは各色のフィルタが形成されている画素領域を避けて、ブラックマトリックスの領域に配置する。このために、スペーサの散布位置を制御し、確実にブラックマトリックス領域に指向させなければならない。
このスペーサの散布位置を制御するために、その散布手段として、インクジェット方式によるものが、例えば特許文献1において提案されている。ここで、インクジェットに用いられるスペーサは、その粒径が約5μm以下であって、好ましくは3〜5μm程度の微小な球形状をしている。現在実用化されているこの種の用途に用いられるインクジェットノズルの孔径は30μm程度である。スペーサは溶剤を含むインクに均一に分散させることによって、スペーサインクとなし、このスペーサインクをインクジェットノズルから基板に向けて噴射させて、基板上には液滴として付着させるが、噴射された液滴内に、少なくとも1個、最大で4〜5個程度のスペーサが含まれるように、インクとスペーサとの混合比を設定する。
そして、例えば基板を所定の方向、つまりX方向に搬送するテーブルに位置決めした状態でセットしておき、所定数の噴射ノズルを設けたインクジェットヘッドを基板に対面させた状態で、基板をX方向に移動させる間に、この基板の送りと直交する方向、つまりY方向に走査するようにして基板表面の全体にわたってスペーサインクを散布することができる。
特開2003−279999号公報
ところで、液晶パネルを形成するには、スペーサインクを基板の表面全体に散布してインクを乾燥させてスペーサを定着・固定させた後に、もう1枚の基板を重ね合せることによって、所定の隙間を有するパネルが形成されるようになり、この隙間に液晶が封入される。基板表面の全体にスペーサを分布させることによって、隙間の均一化を図るが、このためには、基板表面におけるスペーサの分散密度を均一化する必要がある。しかしながら、インクジェットヘッドを構成するノズルがスペーサインクに含まれるスペーサ粒子に部分的にジャミングが発生すると、ノズルから噴射される液滴が小さくなり、スペーサ粒子が含まれなかったり、液滴に含まれるスペーサ粒子の数が少なくなったりする結果、スペーサの分布密度にばらつきが生じることがある。また、スペーサインクにおけるインク中におけるスペーサ粒子との分散状態にむらがあった場合にも、基板表面におけるスペーサ粒子の密度の均一化が損なわれる可能性がある。その結果、2枚の基板を重ね合せたときに、その間に形成される隙間が変動し、正確なセルギャップが形成できなくなってしまう。
そして、スペーサを乾燥させた後、基板をベーキングして、分布密度にばらつきが生じたままでスペーサが基板に完全に固着してしまうと、その修復は不可能になり、この基板は不良品となってしまうことから、製品の歩留まりが悪くなってしまうという問題点がある。
従って、本発明の目的とするところは、スペーサインクを散布した後、洗浄によりスペーサの除去が可能な状況下で、基板表面上でのスペーサの分布密度を測定することによって、スペーサの分布密度にばらつきのある基板の修復を可能にし、もって製品の歩留まりを向上させることにある。
前述した目的を達成するために、本発明は、2枚の透明基板間に微小粒子からなるスペーサを介在させることによって所定の隙間をもって接合させたパネルを形成するために、基板の表面に微小粒子からなるスペーサとなる微小粒子を分散的に付着させるための方法であって、スペーサをインクに含有させたスペーサインクを基板の表面にインクジェット手段で散布する工程と、基板に散布されたスペーサインクの液滴を乾燥させて、インクを除去してスペーサを残存させる乾燥工程と、基板上に残存するスペーサを定着させるために、基板を加熱してベーキングを行う熱処理工程とからなり、前記乾燥工程後に、スペーサの分布を検査するスペーサ分布密度の検出を行って、スペーサの分布密度にばらつきがあると、その基板を熱処理工程に進行させないようにすることをその特徴とするものである。
ここで、インクジェット手段によって基板にスペーサインクの液滴が散布され、溶剤を含むインクを乾燥させた段階では、なお基板を洗浄することによりスペーサを除去でき、またインクが残存していたとしても、このインクも洗浄により除去できる。つまり、スペーサインクを乾燥させた段階では、基板をスペーサインク供給前の段階に容易に修復することができる。一方、インクが乾燥すれば、基板に残存するスペーサの数を正確に計数できる。従って、基板をベーキングする熱処理工程の前に、基板上のスペーサの数を測定して、その分布密度を検出する。
このスペーサの分布密度の検出は、基板全体を画像化して、スペーサがどのように配列されているかを検出する等といった手段を採用することもできるが、基板を複数区画に限定してカメラで撮影し、これら各区画に存在するスペーサの数を計数することによって、スペーサの分布密度を容易に検出することができる。スペーサを計数するために設定される区画を細かくすればするほど、測定精度が向上することになる。ただし、設定される区画をあまり細かく設定すると、分布密度の検出工程が長時間化するので、検出精度とタクトタイムとの関係で適宜設定することになる。
基板におけるスペーサの分布密度にばらつきがあることを検出したときには、基板を洗浄することにより再生できるが、この基板の洗浄はできるだけ早期に行うのが望ましい。従って、スペーサの分布密度の検出後に、分布不良の基板は、基板の洗浄工程に還流させて、基板を洗浄した後に、スペーサインクを散布する工程に移行させるのが望ましい。
以上のようにして、スペーサの分布密度を均一化した後には、このスペーサを分散させた基板に他の基板を位置合わせして重ね合せることによって、パネルが製造される。このパネルにおいては、スペーサにより形成される基板間の隙間が均一化することになる。これをセルギャップとして、このセルギャップの内部に液晶を封入することによって、液晶パネルを形成することができる。
このように、基板にスペーサインクを散布した後、洗浄によりスペーサの除去が可能な状況下で、基板表面上でのスペーサの分布密度を測定することによって、スペーサの分布密度にばらつきのある基板を容易に修復でき、これにより製品の歩留まりを向上させることができる等の効果を奏する。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。まず、図1において、1は基板であり、この基板1はガラス等からなる透明基板であって、具体的には例えばTFT基板である。この基板1にはマトリックス状に薄膜トランジスタからなるスイッチング素子が形成されており、カラーフィルタが位置合わせされた状態で接合される。同図において、2はRGBの各色の画素を構成する画素領域であり、各画素領域2間はブラックマトリックス領域3により区画形成されている。このブラックマトリックス領域3にスペーサ4が均一に散布されて、このスペーサ4によってTFT基板とカラーフィルタとを接合させたときに、セルギャップと呼ばれる隙間が形成される。このように、スペーサ4により形成される両基板間の隙間に液晶を封入することによって、液晶パネルが形成されることになる。
図2に基板1へのスペーサ散布及び定着を行うためのシステムの全体構成を示す。図中において、10はワーク搬入部、11はワーク搬出部である。ワーク搬入部10から処理対象となる基板1が搬入されると、まず表面改質ステージ12に搬送されて、基板1の表面に紫外線を照射して、この表面改質が行われる。基板1の表面改質は、基板1の表面を覆っているポリイミドからなる配向膜の表面を活性化させて、スペーサインクを散布したときの濡れ性を改善するためのものである。そして、この基板1の改質が行われると、液滴散布ステージ13に搬送されて、基板1の表面にスペーサインクが散布される。
基板1の表面にスペーサインクが散布された後には、基板1は第1の熱処理ステージ14に移行して、低温で加熱することによって、スペーサインクからインク成分を揮発させるようになし、もってスペーサ4のみを基板上に残留させる。次いで、第2の熱処理ステージ15に移行させ、この第2の熱処理ステージ15において、基板1を高温で加熱処理を行い、ベーキングすることによって、基板1上に残存しているスペーサを基板表面に定着・固定する。
ここで、基板1は前述したように2段階で熱処理される。まず第1段階では、インクジェット手段23により散布して液滴となったスペーサインクを乾燥させて、溶剤を含むインク成分を除去し、スペーサ4を基板1上に残留させる。このときに、基板1を高い温度にまで急速に加熱させると、スペーサインク中の個々のスペーサがばらばらの位置のままインクが乾燥してしまう。スペーサは微小粒子からなるものであり、複数個のスペーサがある程度纏まっていた方が望ましい。このために、基板1を低温で加熱し、緩慢に乾燥させることにより、複数のスペーサ粒子が液の中心方向に引き寄せられて集中することになる。また、第2段階目で、基板1を高温で加熱することによりベーキングを行い、インクが乾燥したスペーサ4を基板1に固着させる。
基板1は図3に示すように搬送テーブル20に載置されて、この搬送テーブル20に真空吸着等の手段で固定的に保持されている。そして、搬送テーブル20はボールねじ送り手段21によりX軸ガイド22に沿って図中のX方向に搬送される。この搬送テーブル20のX方向の搬送経路において、表面改質ステージ12の下流側に配置した液滴塗布ステージ13は、図3に示した構成となっている。基板1が液滴散布ステージ13に搬入されると、この基板1の表面に対してスペーサインクが散布される。
このために、液滴散布ステージ13にはスペーサインクを散布するためのインクジェット手段23が配設されている。搬送テーブル20を跨ぐように門型をしたY軸ガイド24に装着されており、このY軸ガイド24にはインクジェット手段23を設置した移動台25が装着されている。この移動台25は搬送テーブル20の搬送方向と直交するY方向に移動可能となっている。そして、インクジェット手段23は、インクジェットヘッド26とインクボトル27とを備え、これらインクジェットヘッド26及びインクボトル27は移動台25によってY軸ガイド24に沿ってY方向に移動することになる。
また、移動台25には、搬送テーブル20の送り方向において、インクジェット手段23の装着位置の直近位置であって、このインクジェット手段23より下流側の位置に液滴検出手段28が設けられている。この液滴検出手段28はカメラとフラッシュとを備えた撮像手段であり、カメラはスペーサインクの液滴が形成される領域の一部を視野範囲としている。そして、液滴検出手段28は移動台25の移動によりインクジェット手段23と共にY方向に走査するようになっており、この間に基板1にスペーサインクが適正に散布されたか否かを判定するための画像が取得される。
インクジェット手段23を構成するインクジェットヘッド26は、図4に示したように、多数の微小ノズル30を所定のピッチ間隔で配列したものから構成され、各微小ノズル30から一定量のスペーサインクを間欠的に噴射できるようにしたものである。スペーサインクの噴射は各々の微小ノズル30につき、個別的に制御されて、それぞれスペーサインクを噴射させるようにしている。そして、図5に示したように、インクジェットヘッド26には、微小ノズル30に連通するチャンバピース31を備え、このチャンバピース31はインクボトル27からのインク供給路に接続されている。
チャンバピース31には圧電素子からなるアクチュエータ32が装着されており、このアクチュエータ32に電圧を印加すると、図5に一点鎖線で示したように、アクチュエータ32が変形して、チャンバピース31が拡張することになる。その結果、インクボトル27側からスペーサインクがチャンバピース31内に吸い込まれる。次いで、アクチュエータ32への電圧の印加を遮断すると、元の状態に復元することになり、チャンバピース31の容積が減少し、その分のスペーサインクが微小ノズル30から噴射される。
従って、搬送テーブル20により基板1をX方向に間欠的に送る間に、各微小ノズル30からスペーサインクを噴射させることによって、基板1にはスペーサインクの液滴が滴下されることになる。また、インクジェットヘッド26は基板1の幅方向の一部分にしか及んでおらず、このためにインクジェットヘッド26はY方向に走査することになる。そして、微小ノズル30によるスペーサインクの噴射制御を含め、このインクジェットヘッド26の動作制御を行うために、インクジェット制御装置29が設けられている。
カメラとフラッシュとを備えた撮像手段から構成される液滴検出手段28には制御装置33が接続されており、この制御装置33によりカメラ及びフラッシュの作動が制御されることになる。即ち、搬送テーブル20により基板1が所定量搬送され、かつ移動台25がこれと直交する方向に所定量移動したときに、フラッシュが作動すると共に、カメラにより基板1の表面の一部が撮影される。このカメラにより取得した画像が制御装置33に取り込まれて、画像認識により所定の位置に液滴が存在するか否かの判定が行われる。
基板1の全体において、液滴が適正な位置に、正常な大きさで形成されていると判定された場合には、インクジェットヘッド26が正確に作動していることであり、そのまま作動を継続して、順次基板1に対するスペーサインクの散布が継続される。インクジェットヘッド26を構成するいずれかの微小ノズル30に詰まりが生じたときには、基板1において、それに対応する列には液滴が存在しなくなり、液滴の抜けが発生する。この場合には、制御装置33からの出力信号に基づいて、インクジェット制御装置29による基板1の液滴修正と、ノズル30の詰まり解除との動作が行われる。
基板1の液滴修正は、液滴の抜けが検出される都度修正するのではなく、一度基板1の全面にスペーサインクを散布し終えた後に液滴を追加して修正する。即ち、制御装置33において、画像認識に基づいて検出された液滴の抜け箇所の座標位置を記憶しておき、基板1の散布終了後に、搬送テーブル20と、移動台25とを駆動して、基板1における液滴の抜け個所にインクジェットヘッド26を対面させて、抜け個所に向けてスペーサインクを噴射させる。ここで、インクジェットヘッド26は多数のノズル30を備えているが、液滴の追加を行うためのノズル30を予め特定しておくのが望ましい。例えば、インクジェットヘッド26における両端いずれかのノズルを液滴追加用として特定することができる。そして、このように特定されたノズルに詰まりが生じていると、次の位置のノズルを液滴追加用とする。
インクジェットヘッド26にノズル30が1列しか設けられていない場合には、同一の列において、連続的に抜けが生じる。一方、ノズル30が複数列設けられている場合には、間欠的に抜けが存在することになる。いずれにしろ、全ての抜け個所に液滴を補充するようにインクジェットヘッド26を操作する。補充された液滴は、既に適用されている他の液滴との間に時間差が生じていることから、インクの乾燥度合いが異なってくるが、時間差を短くすることによって、後続の工程でさほど影響を与えることはない。
液滴に抜けが生じているということは、インクジェットヘッド26を構成するいずれかのノズル30に詰まりが生じていることである。このノズル30の詰まりは液滴の抜け個所から特定することができる。そこで、基板1に対する散布終了後に、この詰まりが発生したノズル30に対して詰まり解除を行う。ノズル30の詰まりの主な原因はスペーサインクに含まれる微小粒子であることから、チャンバピース31に高い圧力を作用させることによって、ノズル30を構成する細い通路内でジャミング状態となっている微小粒子が排出されて、ノズル30の通りが良くなる。この動作はノズル30の捨て打ちとなるが、この捨て打ちされたスペーサインクを受けるために、インクジェットヘッド26の可動範囲であって、搬送テーブル20と干渉しない位置に捨て打ちされるスペーサインクを受ける容器34を設けておく。
以上のようにして、基板1には、その全面に均一にスペーサインクの液滴が散布されることになり、この基板1は第1の熱処理ステージ14に移行して、スペーサインクのうちのインク成分を乾燥させて除去する。この段階ではあくまでインクの除去を目的とした加熱であり、スペーサは基板1に固着されない。
インクが除去されて、スペーサが残存した基板1は、直接第2の熱処理ステージ15に移行するのではなく、一度搬送テーブル20に戻されて、基板1におけるスペーサの分布密度の検査が行われる。このために、Y軸ガイド24に装着されている移動台25にはさらにスペーサ分布密度を検出するためのカメラ35が設置されており、このカメラ35によって、基板1の表面を所定数の領域に分割して、図6に示したように、各々の分割領域R毎に画像に含まれるスペーサ4の数を測定する。そして、このカメラ35からの各分割領域Rの画像は制御装置33に伝送されて、この制御装置33によって、各分割領域R内のスペーサ4の数を計数する。この操作は搬送テーブル20を移動させることによって、基板1をX方向に移動させ、また移動台25をY方向に移動させることによって、基板1の全分割領域の画像を取得する。
そして、このスペーサ4の分布密度の測定によって、基板1に2枚の基板を重ね合せたときに、正確にセルギャップが形成される程度にまでスペーサ4が分散されていることが検出されたときには、この基板1は第2の熱処理ステージ15に移行して、この第2の熱処理ステージ15で基板1をベーキングして、スペーサ4を定着・固定する。その後に、この基板1をワーク搬送部11から排出する。
一方、例えばノズル30の部分的な詰まりや、スペーサとインクとの混合比率の変動等によって、セルギャップを形成できない程度にスペーサ4が偏在していると、この基板1を洗浄して、スペーサ4及び残存するインクを洗い流して、再度スペーサインクの散布を行うようにする。
従って、図7に示した手順によって、基板1へのスペーサ4の分散を行うようにすることになる。即ち、まず基板1がワーク搬入部10に搬入する前の前処理工程(ステップ1)として、基板1の洗浄等の必要な各種の操作を行う。この洗浄は基板1に付着している有機物及び無機物を除去して清浄化するものである。
このようにして清浄化された基板1は、ワーク搬入部10に搬入されて、基板1の処理装置における搬送テーブル20にセットされる(ステップ2)。そして、この搬送テーブル20上で、基板1のアライメントが行われ(ステップ3)、搬送テーブル20を進行させることによって、インクジェット手段23によるスペーサインクの散布が行われる(ステップ4)。基板1の全面にスペーサインクが散布されるが、これと同時に、スペーサインクの液滴に抜けがないか否かの検査が行われる(ステップ5)。この検査の結果、液滴の抜けがあると、液滴を追加することにより修正する。これによって、基板1には、スペーサインクの液滴が全面に散布させる(ステップ6)。そして、基板1は第1の熱処理ステージ14に移行して、インクを乾燥させる(ステップ7)。
以上のように、スペーサインクが基板1の全面に散布されておれば、本来であれば、基板1の全面にスペーサ4が均一に分散しているはずである。ただし、例えばノズル30の作動不良により、若しくはノズル30から噴射されるスペーサインクにおけるスペーサの分散度合いにばらつきがあると、スペーサ4が不均一になる。基板1において、部分的にスペーサ4の数が少ない場合であれ、またスペーサ4の数が多すぎる場合であれ、要は基板1上においてスペーサ4の分布にばらつきがあると、もう1枚の基板を重ね合わせたときに、正確なセルギャップを形成することはできない。
従って、その後にスペーサ分布密度を検査して(ステップ8)、均一であると判断されたときに限り、第2の熱処理ステージ15に移行させて、基板1のベーキングを行って、スペーサ4を完全に定着・固定する(ステップ9)。
一方、スペーサ分布密度が不均一であると判定されたときには、その基板1はステップ1に戻されて、基板1を再洗浄する。ここで、基板洗浄工程では、有機物及び無機物を除去することから、この基板洗浄工程に戻すことによって、スペーサの散布が正確に行われなかった基板1は不良品となるのではなく、清浄化された新たな基板として再生されることになる。これによって、製品の歩留まりが著しく向上する。
スペーサが散布される基板の構成説明図である。 基板へのスペーサの散布・固定を行う機構の全体構成を示す説明図である。 液滴散布ステージの構成を示す外観図である。 インクジェットヘッドの先端部を示す構成説明図である。 インクジェットヘッドを構成する微小ノズルからのスペーサインクを噴射する動作の説明図である。 スペーサの分布密度の検出を行う工程の説明図である。 インクジェット方式による基板へのスペーサの散布方法の工程説明図である。
符号の説明
1 基板 2 画素領域
3 ブラックマトリックス領域 4 スペーサ
10 ワーク搬入部 11 ワーク搬出部
12 表面改質ステージ 13 液滴散布ステージ
14 第1の熱処理ステージ 15 第2の熱処理ステージ
20 搬送テーブル 23 インクジェット手段
26 インクジェットヘッド 27 インクボトル
28 液滴検出手段 29 インクジェット制御装置
30 微小ノズル 33 制御装置
35 カメラ

Claims (5)

  1. 2枚の透明基板間に微小粒子からなるスペーサを介在させることによって所定の隙間をもって接合させたパネルを形成するために、基板の表面に微小粒子からなるスペーサとなる微小粒子を分散的に付着させるための方法であって、
    スペーサをインクに含有させたスペーサインクを基板の表面にインクジェット手段で散布する工程と、
    基板に散布されたスペーサインクの液滴を乾燥させて、インクを除去してスペーサを残存させる乾燥工程と、
    基板上に残存するスペーサを定着させるために、基板を加熱してベーキングを行う熱処理工程とからなり、
    前記乾燥工程後に、スペーサの分布を検査するスペーサ分布密度の検出を行って、スペーサの分布密度にばらつきがあると、その基板を熱処理工程に進行させないようにする
    ことを特徴とする基板のスペーサ分散方法。
  2. 前記スペーサの分布密度の検出工程では、前記基板を複数区画に限定してカメラで撮影し、これら各区画に存在するスペーサの数を計数することによりスペーサの分布密度を測定することを特徴とする請求項1記載の基板のスペーサ分散方法。
  3. スペーサの分布密度にばらつきがあることを検出したときに、その基板を洗浄工程に還流させて、基板洗浄後にスペーサインクを散布する工程に供給することを特徴とする基板のスペーサ分散方法。
  4. 請求項1によりスペーサを分散させた基板に他の基板を位置合わせして重ね合せることによって、このスペーサにより形成されるセルギャップを介して接合した液晶パネルを製造することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
  5. 請求項4により製造された液晶パネル。
JP2005208464A 2005-07-19 2005-07-19 基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル Pending JP2007025335A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005208464A JP2007025335A (ja) 2005-07-19 2005-07-19 基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005208464A JP2007025335A (ja) 2005-07-19 2005-07-19 基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007025335A true JP2007025335A (ja) 2007-02-01
JP2007025335A5 JP2007025335A5 (ja) 2008-07-31

Family

ID=37786182

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005208464A Pending JP2007025335A (ja) 2005-07-19 2005-07-19 基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007025335A (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11194349A (ja) * 1998-01-07 1999-07-21 Alps Electric Co Ltd スペーサ分布装置
JP2001051280A (ja) * 1999-08-11 2001-02-23 Ube Nitto Kasei Co Ltd 微粒子の選択的散布方法および微粒子を選択的に散布した構造体
JP2003251243A (ja) * 2002-03-04 2003-09-09 Seiko Epson Corp 描画方法、描画装置、並びにこれを備えた液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2004145093A (ja) * 2002-10-25 2004-05-20 Seiko Epson Corp 電子光学パネルの製造方法及び電子光学パネル、並びにこの電子光学パネルを備えた電子光学装置及び電子機器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11194349A (ja) * 1998-01-07 1999-07-21 Alps Electric Co Ltd スペーサ分布装置
JP2001051280A (ja) * 1999-08-11 2001-02-23 Ube Nitto Kasei Co Ltd 微粒子の選択的散布方法および微粒子を選択的に散布した構造体
JP2003251243A (ja) * 2002-03-04 2003-09-09 Seiko Epson Corp 描画方法、描画装置、並びにこれを備えた液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2004145093A (ja) * 2002-10-25 2004-05-20 Seiko Epson Corp 電子光学パネルの製造方法及び電子光学パネル、並びにこの電子光学パネルを備えた電子光学装置及び電子機器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5152058B2 (ja) 液滴吐出ヘッドの検査方法、液滴吐出ヘッドの検査装置及び液滴吐出装置
JP2007256449A (ja) 液滴噴射検査装置、液滴噴射装置及び塗布体の製造方法
JP2008264608A (ja) 液滴塗布装置及び液滴塗布方法
JP2006213051A (ja) インクジェット印刷装置及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法、並びに噴射液の噴射方法
JP2007025334A (ja) スペーサインク散布装置及び散布方法
CN114423614A (zh) 液滴喷出装置及液滴喷出方法
TW200413175A (en) Liquid droplet ejection apparatus and inspection apparatus for its inspecting drawing accuracy, workpiece and inspection apparatus for inspecting processing accuracy of its processing apparatus, and electro-optic device, and manufacturing method thereof
KR101094388B1 (ko) 처리액 도포 방법
JP2008180872A (ja) スペーサインク散布方法、プログラム、液晶パネルの製造方法、スペーサインク散布装置及び液晶パネル
JP5761896B2 (ja) 液滴塗布方法及び装置
JP2009072691A (ja) インク噴射状態検査装置、フラットパネルの製造装置およびフラットパネル
JP2004337709A (ja) 液滴吐出装置、カラーフィルター製造装置、カラーフィルター及びその製造方法、液晶装置、電子機器
JP2007025335A (ja) 基板のスペーサ分散方法、並びに液晶パネルの製造方法及び液晶パネル
JP4974617B2 (ja) 溶液塗布装置
WO2023095521A1 (ja) 液体吐出装置、吐出状態評価方法、情報処理装置、及びプリント基板の製造方法
JP2007130597A (ja) 液滴吐出ヘッドの着弾位置検査方法、液滴吐出ヘッドの着弾位置検査装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2007301447A (ja) 液滴塗布装置、液滴塗布方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
WO2024062629A1 (ja) 制御装置、印刷装置及び印刷装置の制御方法
TWI834283B (zh) 塗布裝置、液滴噴出檢查方法
JP7433967B2 (ja) クリーニング装置
WO2024062604A1 (ja) 印刷装置、印刷システム及び印刷装置の制御方法
JP4615415B2 (ja) 表示素子部品修正装置および表示素子部品修正方法
JP5247640B2 (ja) スペーサ配置修正方法
US20240075740A1 (en) Inkjet head unit and substrate treatment apparatus including the same
KR20220022493A (ko) 잉크 도포 장치 및 잉크젯 헤드의 토출 상태 검사 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080605

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080605

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101125

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110322