JP2007017450A - 画像処理用光照射装置及び画像処理用光照射方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前記所定領域に、照射方向、照射立体角度、照射強度、照射範囲、スペクトル分布からなる光照射条件のうちの少なくとも1つを変更可能に光L1を照射するとともに、前記所定領域の全部又は一部における光照射状態を検出し、その光照射状態を参照しつつ、前記所定領域が変更される都度、前記画像処理装置による画像処理に先だって前記光照射条件のうちの少なくともいずれか1つを調整して、その画像処理目的に応じた光照射条件を設定する画像処理用光照射装置A4とした。
【選択図】図1
Description
<第1実施形態>
また、LED41をグループ毎に点滅制御するのではなく、ひとつひとつ点滅制御できるようにすれば、光の照射方向をより細かく変更することができ、正確に光の照射方向を暗方向及び明方向に設定できる。
<第2実施形態>
<第3実施形態>
<その他の実施態様>
A3…画像処理装置
A4…画像処理用光照射装置
2…光照射条件制御部(制御電源)
4…光照射部
41…LED
5…補助光照射部
51…光拡散体
511…拡散体要素
52…第2LED
5a…補助光発光面
6…光照射状態検出部
L1、L3、L7…光
L2…補助光
W…ワーク
Claims (7)
- 表面に透明薄膜が形成されたワーク上の所定領域を撮像して得られた画像情報を所定目的で処理する画像処理装置とともに用いられるものであり、
前記所定領域に対し、スペクトル分布を変更可能に光を照射する光照射部と、
前記光照射部を制御して、撮像方向からみた前記所定領域の明度が略最高又は略最低となるように前記光のスペクトル分布を設定する光照射条件制御部と、を備えたものであることを特徴とする画像処理用光照射装置。 - 前記明度を検出する光照射状態検出部をさらに備えている請求項1記載の画像処理用光照射装置。
- 前記所定領域に拡散光を照射する補助光照射部を更に備えたものである請求項1又は2記載の画像処理用光照射装置。
- 前記補助光照射部が、前記所定領域を撮像方向を除く略全天から覆うように設けた補助光発光面を備えたものである請求項1、2又は3記載の画像処理用光照射装置。
- 前記補助光発光面が、複数の発光面要素にセパレートしてなるものであり、それら発光面要素のうちの一部を選択的に発光可能に構成したものである請求項4記載の画像処理用光照射装置。
- 表面に透明薄膜が形成されたワーク上の所定領域を撮像する撮像装置及びその撮像装置で得られた画像を所定目的で処理する画像処理装置を用いた画像処理システムに用いられるものであって、
前記所定領域に対し、スペクトル分布を変更可能に光を照射する光照射部を利用してなり、
前記所定領域の全部又は一部における撮像方向からみた明度を検出する光照射状態検出ステップと、
前記画像処理に先だって前記光照射部を制御して、前記明度が略最高又は略最低となるように前記光のスペクトル分布を設定する光照射条件設定ステップとからなることを特徴とする画像処理用光照射方法。 - 前記光照射条件設定ステップにおいて、画像処理が行われる都度、前記明度が略最高又は略最低となるように前記光のスペクトル分布を設定するようにしている請求項6記載の画像処理用光照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006252217A JP4079977B2 (ja) | 2006-09-19 | 2006-09-19 | 画像処理用光照射装置及び画像処理用光照射方法 |
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JP2003322267A Division JP2005091049A (ja) | 2003-09-12 | 2003-09-12 | 画像処理用光照射装置及び画像処理用光照射方法 |
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JP2007017450A true JP2007017450A (ja) | 2007-01-25 |
JP4079977B2 JP4079977B2 (ja) | 2008-04-23 |
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JP (1) | JP4079977B2 (ja) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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