JP4079977B2 - 画像処理用光照射装置及び画像処理用光照射方法 - Google Patents
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Description
A3…画像処理装置
A4…画像処理用光照射装置
2…光照射条件制御部(制御電源)
4…光照射部
41…LED
6…光照射状態検出部
L7…光
W…ワーク
Claims (4)
- 表面に透明薄膜が形成され、ライン上を流れるワーク上の所定領域を撮像して得られた画像情報を所定目的で処理する画像処理装置とともに用いられるものであり、
前記所定領域に対し、スペクトル分布を変更可能に光を照射する光照射部と、
前記所定領域の明度を検出する光照射状態検出部と、
前記光照射部を制御して、撮像方向からみた前記所定領域の明度が略最高又は略最低となるように前記光のスペクトル分布を設定する光照射条件制御部と、を備え、
前記光照射部が、面上に敷設した多数の発光要素を備えたものであり、
前記光照射条件制御部が、それら発光要素のうちの一部を選択的に点灯して光の照射立体角度を設定するものである画像処理用光照射装置。 - 前記発光要素が、LED又はLEDに基端部を接続された光ファイバの先端部である請求項1記載の画像処理用光照射装置。
- 表面に透明薄膜が形成され、ライン上を流れるワーク上の所定領域を撮像する撮像装置及びその撮像装置で得られた画像を所定目的で処理する画像処理装置を用いた画像処理システムに用いられるものであって、
前記所定領域に対し、スペクトル分布を変更可能に光を照射する光照射部を利用してなり、
前記所定領域の全部又は一部における撮像方向からみた明度を検出する光照射状態検出ステップと、
前記画像処理に先だって前記光照射部を制御して、前記明度が略最高又は略最低となるように前記光のスペクトル分布を設定する光照射条件設定ステップとからなり、
前記光照射部が、面上に敷設した多数の発光要素を備えたものであり、
前記光照射条件設定ステップにおいて、それら発光要素のうちの一部を選択的に点灯して光の照射立体角度を設定するものである画像処理用光照射方法。 - 前記光照射条件設定ステップにおいて、画像処理が行われる都度、前記明度が略最高又は略最低となるように前記光のスペクトル分布を設定するようにしている請求項3記載の画像処理用光照射方法。
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