JP2007013153A - リソグラフィ装置及びリソグラフィ方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射線ビームを調整するように構成された照明系と、放射線ビームの断面にパターンを付与して、パターン化された放射線ビームを形成できるパターン形成装置を支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系と、波面の収差又は該装置の他の特性を測定する測定系とを備えたリソグラフィ装置。測定系は有効な放射線減を提供するための基板テーブルレベルにある放射線源モジュールと、投影系を通して放射線源モジュールから放射線を受け取って測定を実行する、支持体のレベルにあるセンサ・ユニットとを備える。
【選択図】図2
Description
放射線ビームを調整するように構成された照明系と、
放射線ビームの断面にパターンを付与して、パターン化された放射線ビームを形成できるパターン形成装置を支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系と、
該装置の少なくとも1つの特性を測定する測定系とを備え、
前記測定系は、
有効な放射線減を提供するための、基板テーブル・レベルにある放射線源モジュールと、
投影系を通して放射線源モジュールから放射線を受け取って測定を実行する、支持体のレベルにあるセンサ・ユニットとを含んだ、リソグラフィ装置が提供される。
放射線ビームを調整するように構成された照明系と、
放射線ビームの断面にパターンを付与して、パターン化された放射線ビームを形成できるパターン形成装置を支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系とを備え、
該測定方法は、
基板テーブルのレベルにある放射線源モジュールから投影系を通して、支持体のレベルにあるセンサ・ユニットまで放射線を透過させる工程を含む。
放射線ビームPB(例えば、UV放射線又はEUV放射線)を調整するように構成された照明系(照明装置)ILと、
パターン形成装置(例えば、マスク)MAを支持するように構築され、且つあるパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造体MT(例えば、マスク・テーブル)と、
基板(例えば、レジストを塗布したウエハ)Wを保持するように構築され、且つあるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えば、ウエハ・テーブル)WTと、
基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイを含む)目標部分Cに、パターン形成装置MAによって放射線ビームBに付与されたパターンを投影するように構成された投影系(例えば、屈折型投影レンズ系)PSとを備える。
AP 開口
BD ビーム送達系
C 基板Wの目標部分
CO コンデンサ
CP キャリア・プレート
DF 拡散板
DT 検出器
GR 回折素子
IF 位置センサ
IL 照明系
IN 統合器
M1、M2 マスク位置合わせマーク
MA パターン形成装置(マスク)
MT 支持構造体
NA 開口数
P1、P2 基板位置合わせマーク
PB 放射線ビーム
PM 第1の位置決め装置
PS 投影系
PU 瞳
PW 第2の位置決め装置
R1、R2 反射素子
RF 反射器
SM 放射線源モジュール
SO 放射線源
SU サブユニット
W 基板
WC 無線通信ユニット
WT 基板テーブル
Claims (14)
- 放射線ビームを調整するように構成された照明系と、
放射線ビームの断面にパターンを付与して、パターン化された放射線ビームを形成できるパターン形成装置を支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記基板の目標部分に前記パターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系と、
前記装置の少なくとも1つの特性を測定するシヤリング干渉測定系とを備え、
前記測定系は、
有効な放射線減を提供するための、基板テーブル・レベルにある放射線源モジュールと、
前記投影系を通して前記放射線源モジュールから放射線を受け取って前記測定を実行する、前記支持体のレベルにあるセンサ・ユニットとを含んだ、リソグラフィ装置。 - 前記照明系から受け取った放射線を前記放射線源モジュールまで案内して、前記測定系に前記放射線を提供する放射線案内装置をさらに備えた請求項1に記載の装置。
- 放射線が前記放射線源モジュールを出る場所は、前記放射線案内装置によって放射線が受け取られる場所から空間的に変位されている請求項2に記載の装置。
- 前記放射線案内装置は前記基板テーブル内に設けられた請求項2に記載の装置。
- 前記放射線案内装置の前であるが前記投影系を出た後の前記放射線のビーム経路に位置決めされた拡散板をさらに備えた請求項2に記載の装置。
- 前記放射線案内装置は反射器を備えた請求項2に記載の装置。
- 前記放射線源モジュールは、前記投影レンズの瞳内の予め選択された波面シヤリング距離において空間コヒーレンスの極大を提供するように配置された請求項1に記載の装置。
- 前記測定系は、波面収差、開口数、テレセントリック性、偏光の変動、及びレンズ透過プロファイルから成る群から選択される1つ又は複数に特性を測定するためのものである請求項1に記載の装置。
- 前記放射線源モジュール及びセンサ・ユニットは各々、ピンホール、レンズ、格子、波長板、拡散板、回折光学素子、及びホログラフィ素子から成る群から選択される1つ又は複数の素子をさらに備えた請求項1に記載の装置。
- 前記センサ・ユニットは前記リソグラフィ装置と通信を行う無線通信ユニットを備えた請求項1に記載の装置。
- 前記センサ・ユニットは少なくとも1つのバッテリ及び/又は光起電力電池を含む電源を備えた請求項1に記載の装置。
- リソグラフィ装置の特性を測定する方法であって、前記リソグラフィ装置は、
放射線ビームを調整するように構成された照明系と、
放射線ビームの断面にパターンを付与して、パターン化された放射線ビームを形成できるパターン形成装置を支持するように構築された支持体と、
前記基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記基板の目標部分に前記パターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系とを備え、
前記測定方法は、
前記基板テーブルのレベルにある放射線源モジュールから前記投影系を通して、前記支持体のレベルにあるセンサ・ユニットまで放射線を透過させる工程を含むリソグラフィ装置の特性を測定する方法。 - 前記照明系から受け取った放射線は放射線案内装置によって受け取られ、前記放射線源モジュールまで案内されて前記測定系に前記放射線を提供する請求項12に記載の方法。
- 前記センサ・ユニットは前記リソグラフィ装置と無線通信を行う請求項12に記載の方法。
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