JP2006519480A - 回路性能向上のための多重露光方法 - Google Patents
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Abstract
多重露光を使用して規則的に区切られたフィーチャー(feature;特徴)の最小の格子(grid)ピッチを減少させる光学リソグラフィ方法が開示される。要求される格子ピッチは、レイアウト時の格子制限の使用から生じる回路面積の増加を最小にするように選択される。必要な格子は、要求される格子ピッチより大きなマスク格子ピッチを有する少なくとも2つのインターリーブ(interleave)されたマスク格子に分解される。それぞれのマスク格子は露光され、要求される完全な格子がダイに焼付けされるまで必要な格子の部分が焼き付けられる。
Description
本願は、2003年2月27日に出願された米国特許仮出願第60/450,496号の優先権を主張し、その全体が参照としてここに組み入れられている。
本発明は光学リソグラフィに関し、より詳細には、本発明は、規則的に配置されたレイアウトの最小の格子ピッチを減少させるための、高度な光学リソグラフィ方法に関する。本発明の方法は、回路面積を減少させ、回路性能を向上させるために使用できる。
光学リソグラフィは、100〜200nmの範囲に縮小される半導体フィーチャー(feature;特徴)のサイズにもかかわらず、依然として集積回路製造にとっての優勢な技術となっている。規定可能な最小サイズは限界寸法、すなわちCDと呼ばれ、以下の式で与えられる。
ここに、λは露光光の波長、NAは投影システムの開口数、そしてklは工程関係因子である。CDはklの減少とともに減少しうる。そして、固定したλとNAを有する特定の露光システムに対して、klを減少することがCDを減少させる唯一の方法である。しかしながら、画像品質は、klが0.75を下回るまで減少すると、顕著に低下する。
解像度向上技術(RET)は、klが0.75未満であるときに、撮像品質を向上させるために使われる。RETの例としては、修正された照明、位相シフトマスキング(PSM)、および光近接効果補正(OPC)を含む。
非特許文献1は、異なったマスクパターンに適する数種類の照射モードを開示している。しかしながら、撮像品質はパターンの大きさや形状に依存するだけではなく、それぞれのマスク・フィーチャーの局部環境にもよるので、照射光源を最適化するのは非常に難しい。例えば、無作為に配置されたコンタクトは密に間隔をあけられたコンタクトの面積と粗に間隔をあけられたコンタクトの面積とを、同一マスク上に作る。密な領域のために最適化された照射光源は、密な領域で高い撮像品質をもたらす反面、粗な領域では低い撮像品質をもたらす可能性がある。
レイアウト設計における回路製造可能性を考えると、kl因子は製造しやすいレイアウトによってさらに減少する可能性がある、と予想される。そのようなレイアウトにおいては、回路パターン形状がリソグラフィ最適化をしやすくするために制限される。
A. K Wong著、「Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (光学リソグラフィにおける解像度向上技術)」、SPIE Press、Washington、2001年
A. K Wong著、「Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (光学リソグラフィにおける解像度向上技術)」、SPIE Press、Washington、2001年
過度にリソグラフィしやすくすることは、レイアウトを縮小する上で非常に制限的となりうるので、回路面積が容認できないほど拡大する。したがって、リソグラフィを最適化して回路のCDを減少させる一方で、回路面積を拡大させないことを可能にする方法の必要性が依然として残る。
本発明の一つの実施態様は、格子ピッチによって特徴付けられた格子上に配置されるフィーチャーであって、その格子ピッチが上記格子の使用によってもたらされる回路面積の拡大を最小にするよう選択されるフィーチャーが、少なくとも2つのマスクを介して多重露光によってダイに焼き付けられ、さらに各マスクが格子ピッチよりも大きなマスク格子ピッチによって特徴付けられるマスク格子を有している、そのような光学リソグラフィの方法を対象としている。
この方法は、規則的に配置された製造しやすいコンタクトのウェハ上への撮像に適している。コンタクトの規則的な配置は、分解能向上技術のより効果的な使用を可能にし、最小のコンタクトピッチとコンタクトサイズの減少を、順番に可能にする。
製造しやすいコンタクトの1つの手法は、格子点上にコンタクトを取り付け、そしてコンタクトを有していない格子点において補助コンタクトを導入することである。補助コンタクトは、それらがダイに焼き付けられないにも係わらず、照射の最適化を可能にするマスク・スペクトル(分布帯;mask spectrum)を作るような大きさとされる。
特定用途向け集積回路(ASIC)内の標準セルにおける規則的に配置されたコンタクトの用途のために、コンタクトおよび補助コンタクトは単一露光リソグラフィの最小ピッチより小さいピッチを持った格子上に配置され、より小さい回路面積が得られる。コンタクトと補助コンタクトの間のピッチは単一露光リソグラフィの最小ピッチより小さいが、いかなる2つの真のコンタクト間のピッチも、単一露光リソグラフィの設計ルールを満足する。
コンタクトと補助コンタクトの密な格子は、対角線方向に生じる格子ピッチ
を持った2つのマスク上の、2つのより粗な格子中に分解される。ここに、pminは、より粗な格子の格子ピッチ、pxおよびpyは、密な格子における直交する2つの方向の2つの格子ピッチである。pxおよびpyは単一露光リソグラフィの最小ピッチよりも小さいが、pminは、それより大きくなりうる。したがって、2つの、より粗な格子は、1回の露光の解像度限界の範囲内に存在する。これら2つのマスクの連続した露光がダイ上に全てのコンタクトを焼き付ける。
二重露光において対角線方向に生じる最小の格子ピッチを用いて、コンタクト・リソグラフィのための四極照明の各極(pole)は、pxとpyにより決定される零点までの距離をもって、x軸およびy軸上に配置されるべきである。
本発明は、図面に関連して、その好適かつ選択的な実施形態を参照することにより説明されるであろう。
図1は本発明の一実施形態を示す。製造しやすいレイアウトでは、コンタクトは格子上に配置される(図1a)。補助コンタクトはコンタクトを有していない格子点に追加される(図1b)。補助コンタクトは、それらがダイに焼き付けはしないが、照射の最適化を可能にするマスク・スペクトルを作るような大きさとされる。
全てのコンタクトを格子上に取り付けた後の、より小さな回路面積を得るために、図1bの格子ピッチ、pxおよびpyは単一露光リソグラフィの最小ピッチより小さい。
コンタクトと補助コンタクトの間のピッチは単一露光リソグラフィの最小ピッチより小さいが、いかなる2つの真のコンタクト間のピッチも、常に単一露光リソグラフィの設計ルールを満足する。
コンタクトと補助コンタクトの密な格子(図1b)は、対角線方向に生じる格子ピッチ
を持った2つのマスク上の、2つのより粗な格子中に分解される(図1c)。ここに、pminは、より粗な格子の格子ピッチ、pxおよびpyは、密な格子における直交する2つの方向の2つの格子ピッチである。元の密な格子が、いくつかのより粗なものに分解されるので、それは仮想格子と呼ばれる。pxがpyに等しいとき、pminはpxおよびpyの概ね144%である。pxおよびpyは単一露光リソグラフィの最小ピッチよりも小さいが、pminは、それより大きくなりうる。これにより、2つのより粗な格子が、1回の露光の解像度限界の範囲内に入れられる。
これら2つのマスクの連続した露光がダイ上の仮想格子に全てのコンタクトを焼き付ける(図1d)。2個のマスクにおけるフィーチャーのコンタクトの規則的な配置は、リソグラフィの最適化を可能にし、最小のコンタクトピッチとコンタクトサイズの減少につながる。どちらかのコンタクトマスクの重ね合わせ誤差が収率を減少させるかも知れないが、マスク書き込み回数が、一定値を保持する書き込みフィーチャー数に依存し、またより大きなピッチに対しては高速のツールが使用できるので、レチクル(reticle)のコストは倍増しないはずである。仮想格子上ではいかなる最近接コンタクトも存在しないので、この二重露光方法が機能することに留意すべきである。図1における特定の例では、全ての仮想格子点に補助コンタクトまたは真のコンタクトを配置している。そのRETベースの制限がなければ、図1aのコンタクトにとって単一コンタクトマスクで十分であるかも知れない。
発明者は、コンタクトの規則的な配置により可能となったリソグラフィ最適化の結果、CDを約10%減少させつつ結合させた縮小仮想格子ピッチが、コンタクトが格子に取り付けられることを必要とするレイアウト・ステップに存在する追加的制限の結果として回路面積が拡大することを否定し、より小さい平均的な標準セル面積をもたらす、ということを見出した。標準セルの電力消費と固有の遅延も、セル面積の減少に応じて改善される。
図2aはX−Y格子レイアウトに使用される照射光源の概略図である。修正された照射RETの1つのタイプでは、四極照明光源210は格子220の格子軸に整列される。本発明の一実施形態では、仮想格子がX方向およびY方向に整列された格子軸を有するが、第1および第2の格子パターン240は対角線方向に整列させられる。好適な実施形態では、第1および第2の格子パターン240に対する四極照明光源230も対角線方向に並べられる。第1および第2の格子パターン240に対する四極照明230の各極(pole)は、pxとpyにより決定される零点までの距離をもって、x軸およびy軸上に配置される。
250nmの標準セル・ライブラリ(library)が本発明の一実施形態の例示として使用される。標準セルは特定用途向け集積回路(ASIC)設計のための重要なフィーチャーである。ASIC設計をベースとする標準セルは、通常、3つのタイプのセル、すなわち、入出力(I/O)セル、メガ(巨大;mega)セル、および標準(standard)セルを含む。入出力セルは、外部回路構成に面する接続としてダイの周辺部に置かれる。メガセルは、通常、RAMやROMなどの予め設計された巨大論理(mega-logic)フィーチャーである。標準セルは、主としてブール演算やフリップ-フロップなどの基本的な論理機能を提供する超小型論理(micro-logic)フィーチャーである。
図3は標準セル300のフィーチャーを示す概略図である。ライブラリにおける各標準セルは、固定高さを有する長方形であるが、幅は変わる。セルは、電源供給(power supply)パス(path;経路)と重ね合わせられつつ、列をなして配置される。標準セルは、通常、Nウェル層320、N拡散層330、P拡散層340、ポリシリコン層350、コンタクト層360、および金属−1層370を有する。Nウェル層320、N拡散層330、P拡散層340、およびポリシリコン層350はセル内でP−MOS(P型金属酸化物半導体)およびN−MOS(N型金属酸化物半導体)を形成する。ポリシリコン層350はイントラ・セル・ルーティング・パス(intra-cell routing path)としても機能する。コンタクト層360はルーティング層と下部層との間の接続を形成する。
セルの高さは、通常、セル上の金属−1トラック(track)の高さ方向における数として与えられる。金属−1トラックは金属−1パス(path)と金属−1パス間の間隙を含む。標準セルの典型的な高さは10個のトラック分であり、その状況で、3つのトラックが電源供給パス(経路)に使用され、残りの7つのトラックがイントラ・セル設計のために使用される。ライブラリにおいてその高さが固定されているので、格子にコンタクトを取り付けることによって面積に生じるいかなる変化も、セル幅における変化として反映される。
図4aは、高さ方向における、標準セルの代表的なコンタクトピッチの分布を示すグラフである。最も多いピッチペアは約600nmであり、これはおそらく金属−1パスの最小ピッチを反映している。したがって、金属−1パスの最小ピッチは、高さ方向の格子ピッチまたは複数の格子ピッチに応じて選定されることが可能である。より小さい最終セル面積を得るために、標準セルにおける規則的に配置されたコンタクトの水平方向の格子ピッチpyとして金属−1ピッチの半分が選定され、縦方向のレイアウト制限を緩和するべきである。
図4bは、幅方向における、標準セルの代表的なコンタクトピッチの分布を示すグラフである。最も少ないピッチペアは約600nmであるが、最も多いピッチペアは1000nm付近である。最も少ないピッチペアが格子ピッチとして選定されるならば、1000nmにおける最も多いピッチペアが最大2つの格子ピッチ(1200nm)にまとめられるので、セルの面積は約20%増加するであろう。さらに、図4bは1000nm付近で2つのピークを示している。2つのピークは、標準セルの2つのタイプのMOSFET(MOS電界効果トランジスタ)におけるソースとドレイン間の距離を反映している。狭ゲートMOSFETは、広ゲートMOSFETよりも長いソース・ドレイン間距離を有し、その結果、二重ピークを持ったコンタクトピッチ分布を形成する。この二重ピークは、いくつかの狭ゲートMOSFETの幅を増加させることによって、取り除くことができる。
図4bは、最も多いピッチペアがソース-ドレイン・ピッチであることを示している。しかしながら、ソース-ドレイン・ピッチが水平方向の格子ピッチとして選定されるならば、ゲートに対するコンタクト、それは通常はソースコンタクトとドレインコンタクトの中間に配置されるコンタクトであるが、そのゲートに対するコンタクトは、セル面積の増大をもたらすソースコンタクトかドレインコンタクトかのいずれかに整列されねばならないであろう。したがって、半分のソース-ドレイン・ピッチは水平方向の格子ピッチ、すなわち標準セルにおける規則的に配置されたコンタクトのpxとして選定されるべきである。
しかし、要求される格子ピッチ、pxおよびpyは、コンタクト層の最小ピッチより小さい。要求される格子は2つのインターリーブ(interleave)された(はさみ込まれた)格子に分解される。それぞれのインターリーブされた格子は、要求される格子の対角線ピッチに等しいインターリーブされた格子ピッチで、要求される格子の対角線に沿って整列される格子軸を有する。
それぞれの格子位置は、真のコンタクトまたは補助コンタクトによって占められる。ダイは、インターリーブされた第1の格子をダイに投影することによって焼き付けられ、その後インターリーブされた第2の格子をダイに投影することが続く。2つのマスクのフィーチャーの規則的な配置はリソグラフィ最適化を可能にし、最小のコンタクトサイズとコンタクトピッチの減少につながる。二重露光方法は、要求される格子ピッチよりも約40%大きなピッチをもつインターリーブされた格子から、要求される格子ピッチを持つダイ上の仮想格子を作り出す。
少なくとも本発明の例示的な実施形態を説明してきたが、様々な修正と改善は、この技術分野に属する当業者には容易に気付くことができ、そして上記修正と改善は本発明の範囲内にあることが意図されるものである。従って、上記説明は、例示としてのみ示されるものであって、制限を意図するものではない。
210 四極照明光源
220 格子パターン
230 四極照明光源
240 格子パターン
300 標準セル
320 Nウェル層
330 N拡散層
340 P拡散層
350 ポリシリコン層
360 コンタクト層
370 金属−1層
220 格子パターン
230 四極照明光源
240 格子パターン
300 標準セル
320 Nウェル層
330 N拡散層
340 P拡散層
350 ポリシリコン層
360 コンタクト層
370 金属−1層
Claims (20)
- 格子ピッチを有する格子を構築する段階と、
格子上に複数の真のフィーチャーを配置する段階と、
1つのマスクであって、複数の前記真のフィーチャーと複数の補助フィーチャーとを含むマスクを作製し、前記補助フィーチャーが焼き付けはしないが照射の最適化を可能にするような大きさにする段階と、
ウェハ上に前記真のフィーチャーを撮像する段階と、
を有する、ウェハにフィーチャーを撮像する方法。 - 前記補助フィーチャーは前記複数の真のフィーチャーのいずれをも有していない格子点に導入される請求項1に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 前記格子は、x方向のpxの格子ピッチを有し、x方向に垂直な方向にpyの格子ピッチを有する請求項1に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 前記格子ピッチは回路面積を最小にするように選択される請求項1に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 2つの前記補助フィーチャー間の距離、または前記複数の真のフィーチャーのいずれか1つと隣接する補助フィーチャーとの間の距離が、単一露光リソグラフィの最小のピッチより小さい請求項1に記載のウェハにフィーチャーを撮像する方法。
- 2つの隣接する真のフィーチャー間の距離が、単一露光リソグラフィの最小のピッチ以上である請求項5に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 格子ピッチを有する格子を構築する段階と、
格子上に複数の真のフィーチャーを配置する段階と、
格子点上に複数の補助フィーチャーを配置する段階と、
2つのマスクであって、前記複数の真のフィーチャーの第1のサブセットおよび前記複数の補助フィーチャーの第1のサブセットを含む第1のマスクと、前記複数の真のフィーチャーの第2のサブセットおよび前記複数の補助フィーチャーの第2のサブセットを含む第2のマスクと、を作製し、前記補助フィーチャーが焼き付けはしないにも係わらず照射の最適化を可能にするマスク・スペクトルを作るような大きさにする段階と、
ウェハ上に前記真のフィーチャーを撮像する段階と、
を有する、ウェハにフィーチャーを撮像する方法。 - 前記格子は、x方向のpxの格子ピッチを有し、x方向に垂直な方向にpyの格子ピッチを有する請求項7に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 前記格子ピッチは回路面積を最小にするように選択される請求項7に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 前記補助フィーチャーは真のフィーチャーを有していない格子点に配置される請求項7に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 前記複数の補助フィーチャーの2つの間の距離、または前記複数の真のフィーチャーの1つと複数の補助フィーチャーの1つとの間の距離が、単一露光リソグラフィの最小のピッチより小さい請求項7に記載のウェハにフィーチャーを撮像する方法。
- 2つの隣接する真のフィーチャー間の距離が、単一露光リソグラフィの最小のピッチ以上である請求項11に記載のフィーチャーを撮像する方法。
- 第1および第2のマスクが、フィーチャーを焼き付けるために連続して露光される請求項7に記載のウェハにフィーチャーを撮像する方法。
- 2つの隣接する真のフィーチャー間の距離が単一露光リソグラフィの最小のピッチ以上であり、2つの隣接する補助フィーチャー間の距離、または真のフィーチャーと隣接する補助フィーチャーとの間の距離が単一露光リソグラフィの最小のピッチより小さい請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 第1のマスクであって、真のフィーチャーの第1のセットおよび補助フィーチャーの第1のセットを有する第1のマスクと、
真のフィーチャーの第2のセットおよび補助フィーチャーの第2のセットを有する第2のマスクと、を有し、
第1および第2のマスクにおける2つの隣接するフィーチャー(真のフィーチャーまたは補助フィーチャー)が、単一露光リソグラフィのための最小のピッチ以上に区切られる、ダイを撮像するためのマスクセット。 - 真のフィーチャーの前記第1のセットと真のフィーチャーの前記第2のセットとが、単一ダイのための真のフィーチャーのセットを形成する請求項16に記載のマスクセット。
- 真のフィーチャーの第1のセットが真のフィーチャーの第2のセットと異なっている請求項16に記載のダイを撮像するためのマスクセット。
- 補助コンタクトの第1のセットが補助コンタクトの第2のセットと異なっている請求項16に記載のダイを撮像するためのマスクセット。
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