JP2006512483A - 薄層状の化合物i−iii−vi2の生産用電解浴の再生方法 - Google Patents
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Abstract
Description
高い均一性で大面積を扱える可能性、
実施の容易さ、
低い取付および原料費(特殊な成形操作なし、高い材料利用度)、および
基板への析出の局所性のため、非常に多様な析出形状の可能性。
a)酸化状態IVの活性セレンを含む電解浴および少なくとも2つの電極を設ける段階、および
b)電極の一方への活性セレンの移動を実質的に促進し、それにより、I−III−VIyの少なくとも1つの薄膜の形成を開始させるために、2つの電極の間に電位差をかける段階
を含むタイプの、電気化学法によって薄膜状のI−III−VIy化合物(yは2に近く、VIはセレンを含む元素)を製造する方法である。
硫酸第一水銀参照電極REFを含む、
3つの電極An、CaおよびREFを浴B中に浸す。
[In2(SO4)3]=3.0×10-3M、
[H2SeO3]=1.7×10-3M、
[Na2SO4]=0.1M
ここで、表記法「M」は、pHが2.2における「1リットル当たりのモル数」の単位に相当する。
−上記のように薄膜の形成に有利であるSe2-に変換されるか、
−あるいはまた、特にコロイドが基板(または、ここではモリブデン層MO)と形成されるCu−In−Se薄膜との間の界面における問題を生じさせるので、薄膜の形成に有利でないコロイド状のSe(0)に変換されるか、
のいずれかに変換され得ることもまた指摘すべきである。
(1/2)In2O3 + (3/2)H2O → In3+ + 3OH- (2)
これに対して、化合物CuSO4およびIn2(SO4)3を加えたならば、浴はSO4 2-硫酸イオンにより汚染されるであろう。
ここで、e-は電子に相当し、一方、陽極(anode)では、電荷平衡を維持するために、以下の反応が起こる。
CuおよびInの酸化物の添加によって得られる他の利点によれば、式(3)と式(4)の間の過剰な5つのH+イオンの差は、反応(1)および(2)によって導入される5つのOH-イオンによって補償される。したがって、CuおよびInの酸化物の添加により、溶液のpHが安定化し、上記のように水酸化ナトリウムの添加を無しで済ませることがさらに可能になることが理解されよう。
本発明による方法を実施することによって得られる薄膜の概略図を示す。
In(OH)3 → In3+ + 3OH- (2’)
したがって、Cu−In−Sey(yは2に近い)のような電着I−III−VIy化合物用の浴の寿命および安定性は、膜の品質に影響を及ぼさない物質(agent)の添加によって保証される。電着前駆物質膜は、I−III−VI2化学量論に近い組成の元素を含む。組成および形態は、電解中に制御される。これらの物質(agents)(過剰のSe(IV)またはH2O2)は、Cu−In−Ga−Al−Se−SのようなI−III−VI系の電着用のあらゆる種類の電解浴に容易に用いることができるだろう。
S ガラス基板
M ブレード
B 酸浴
REF 硫酸第一水銀参照電極
Ca モリブデン電極(陰極)
An 陽極
Claims (10)
- 電気化学法によって薄膜状のI−III−VIy化合物(yは2に近く、VIはセレンを含む元素)を製造し、以下の段階:
a)酸化状態IVの活性セレンを含む電解浴および少なくとも2つの電極を設ける段階、ならびに
b)該電極の一方への活性セレンの移動を実質的に促進し、それにより、I−III−VIyの少なくとも1つの薄膜の形成を開始させるために、2つの該電極の間に電位差をかける段階
を含むタイプの方法であって、
前記電解浴の寿命を増大するために、前記浴中の活性形のセレンを再生する段階c)をさらに含むことを特徴とする方法。 - 段階c)において、セレンを活性形(Se(IV))に再生するために、セレン(Se(0))のための酸化剤を浴に導入することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 浴が段階b)においてコロイド状のセレン(Se(0))を含むとき、前記酸化剤がコロイド状のセレン(Se(0))を活性形のセレン(Se(IV))に再生するように設計されていることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記酸化剤が過酸化水素(H2O2)であることを特徴とする請求項2および3のいずれか1項に記載の方法。
- 浴に加える過酸化水素の濃度が、浴中の初期セレン濃度の少なくとも5倍に実質的に相当する程度の大きさであることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 段階c)において、浴中で過剰の活性セレンを生成させるために、セレンを浴に加えることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 段階a)におけるセレンの濃度の実質的に10分の1が、段階b)で少なくとも1つの薄膜を生成することによって消費され、段階c)で実質的に消費濃度の2倍を浴に加えることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 段階c)の後に、I−III−VIyの少なくとも1つの新しい薄膜が形成されることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の方法。
- CuInSey薄膜を製造するために、浴が段階a)において、浴中1単位の濃度の銅に対して、約1.7単位の濃度の活性セレンを含むことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法。
- 方法が、元素Iの酸化物および/または水酸化物(CuO;Cu(OH)2)および元素IIIの酸化物および/または水酸化物(In2O3;In(OH)3)を導入することにより電解浴を再生する、段階c)の後の段階、を含むことを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一項に記載の方法。
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