JP2006511324A5

JP2006511324A5 -

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Publication number: JP2006511324A5
Application number: JP2004561164A
Authority: JP
Filing date: 2003-11-14
Publication date: 2006-12-28

Claims

流動層内で固体を生成することによってガス状汚染物質を微粒反応物質と反応させる、ガス状汚染物質を排ガスから除去する方法において、排ガスを、好ましくは中央に位置するガス供給管を介して下方から反応炉の混合チャンバに注入し、該ガス供給管は、流動化用ガスの供給によって流動化する、反応物質から成る固定環状流動層によって、少なくとも部分的に包囲し、排ガスのガス速度と、環状流動層の流動化用ガスの速度とを調整することによって、前記ガス供給管における粒子フルード数を１〜100とし、前記環状流動層では0.02〜２とし、前記混合チャンバでは0.3〜30とすることを特徴とする方法。
請求項１に記載の方法において、前記ガス供給管の粒子フルード数は20〜90であることを特徴とする方法。
請求項１または２に記載の方法において、前記環状流動層の粒子フルード数は0.2〜1.2であることを特徴とする方法。
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、前記混合チャンバの粒子フルード数は３〜15であることを特徴とする方法。
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、前記反応炉の反応物質層の高さを調整することによって、前記環状流動層を、前記ガス供給管の上部開口端を超えるまで伸ばし、前記反応物質を排ガスに常時導入し、ガス流によって、前記ガス供給管の開口領域上方に設けられた前記混合チャンバへ運ぶことを特徴とする方法。
請求項１ないし５のいずれかに記載の方法において、排ガスは二酸化硫黄、フッ化水素および／または塩化水素を含み、前記反応物質として、粒子サイズが100μm未満のアルミナ、炭酸ナトリウム、および／または特に消石灰や生石灰などのカルシウム化合物を供給することを特徴とする方法。
請求項１ないし６のいずれかに記載の方法において、排ガスは、前記反応炉に供給する前に予備除塵することを特徴とする方法。
請求項１ないし７のいずれかに記載の方法において、形成された固体および反応物質は、前記反応炉から排ガス流と共に排出し、少なくとも１つの分離装置に供給し、前記反応炉の環状流動層および／または混合チャンバに再循環させて排出することを特徴とする方法。
請求項８に記載の方法において、固体の再循環量は、新たに追加する反応物質の量の10倍までであることを特徴とする方法。
請求項８または９に記載の方法において、再循環量は、前記混合チャンバ上方の差圧に基づいて調節することを特徴とする方法。
請求項１ないし10のいずれかに記載の方法において、反応物質は、清浄化した排ガス中の汚染物質濃度に基づいて供給されることを特徴とする方法。
請求項１ないし11のいずれかに記載の方法において、清浄化した排ガスおよび／または空気は、前記反応炉の環状流動層に、流動化用ガスとして注入することを特徴とする方法。
請求項12に記載の方法において、清浄化した排ガスの再循環率は、清浄化した排ガス中の汚染物質濃度に基づいていて、前記反応炉に供給される排ガスの、特に５〜10％の量とすることを特徴とする方法。
請求項１ないし13のいずれかに記載の方法において、前記反応炉の温度および／または反応炉から排出される清浄化した排ガスの温度に基づいて、水を前記反応炉に注入することを特徴とする方法。
請求項１ないし14のいずれかに記載の方法において、前記ガス供給管中の排ガスに、清浄化した排ガスを、クリーンガスとして、特に排ガス体積流量に基づいて混合することを特徴とする方法。
特に請求項１ないし15のいずれかに記載の方法を使用して、排ガスからガス状汚染物質を除去し、流動層反応炉を構成する反応炉を含む設備において、前記反応炉はガス供給機構を有し、該ガス供給機構は、該機構を少なくとも部分的に包囲している固定環状流動層から混合チャンバまで、該機構を通過する排ガスが反応物質を運ぶよう、構成されていることを特徴とする設備。
請求項16に記載の設備において、前記ガス供給機構はガス供給管を有し、該ガス供給管は、前記反応炉の下方領域から該反応炉の混合チャンバに向かって上方に実質的に垂直に延びていて、前記ガス供給管は、少なくとも一部分がガス供給管の周囲に環状に延びている槽によって包囲されていて、該槽では、固定環状流動層が形成されることを特徴とする設備。
請求項16または17に記載の設備において、前記ガス供給管は反応炉の断面積を基準としてほぼ中央に配置されていることを特徴とする設備。
請求項16ないし18のいずれかに記載の設備において、清浄化した排ガス中の固体を分離する少なくとも１つの分離装置が前記反応炉の下流に設けられていて、該分離装置の下流には、前記反応炉の環状流動層に通じる固体導管、前記反応炉の混合チャンバに通じる固体導管、および／または固体排出導管を有する再循環機構が設けられていることを特徴とする設備。
請求項19に記載の設備において、前記再循環機構は、緩衝容器および投入手段を含むことを特徴とする設備。
請求項16ないし20のいずれかに記載の設備において、前記反応炉の環状槽には、該槽を上部環状流動層と下部ガス分配チャンバとに分割するガス整流板が設けられていて、該ガス分配チャンバは、とりわけ空気および／または清浄化した排ガスなどの流動化用ガスの供給導管に接続されていることを特徴とする設備。
請求項16ないし21のいずれかに記載の設備において、分離装置後の排ガス側には、前記反応炉の環状流動層および／またはガス供給管に、クリーンガスを再循環させるクリーンガス供給導管が設けられていることを特徴とする設備。
請求項16ないし22のいずれかに記載の設備において、前記反応炉の環状流動層の中および／または上に注水する水供給導管が設けられていることを特徴とする設備。
請求項16ないし23のいずれかに記載の設備において、差圧計、温度計および／またはガス計量器が設けられていることを特徴とする設備。
請求項24に記載の設備において、前記差圧計、温度計および／またはガス計量器には、圧力、温度および／またはクリーンガス中の汚染物質濃度を調整する調節器が接続されていることを特徴とする設備。