JP2006509702A - 水素製造方法 - Google Patents

水素製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006509702A
JP2006509702A JP2004557807A JP2004557807A JP2006509702A JP 2006509702 A JP2006509702 A JP 2006509702A JP 2004557807 A JP2004557807 A JP 2004557807A JP 2004557807 A JP2004557807 A JP 2004557807A JP 2006509702 A JP2006509702 A JP 2006509702A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amorphous silicon
hydrogen
silicon
hydrogen production
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004557807A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4566751B2 (ja
Inventor
ノルベルト・アオナー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Dow Silicones Corp
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Dow Corning Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Chemie AG, Dow Corning Corp filed Critical Wacker Chemie AG
Publication of JP2006509702A publication Critical patent/JP2006509702A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4566751B2 publication Critical patent/JP4566751B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/06—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of inorganic compounds containing electro-positively bound hydrogen, e.g. water, acids, bases, ammonia, with inorganic reducing agents
    • C01B3/08—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of inorganic compounds containing electro-positively bound hydrogen, e.g. water, acids, bases, ammonia, with inorganic reducing agents with metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/06—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of inorganic compounds containing electro-positively bound hydrogen, e.g. water, acids, bases, ammonia, with inorganic reducing agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30—Hydrogen technology
    • Y02E60/36—Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

【課題】 炭素源から離れて実行し得る水素製造方法を提供する。
【解決手段】本発明はアモルファスシリコンを、水、アルコール、もしくは、カルボン酸と反応させることにより水素を製造するための方法に関する。本発明方法は炭素源及び水源から切り離して実施可能であり、また、水素の運搬や貯蔵の問題も無く本来の場所で実行可能である。

Description

本発明は水素製造方法に関する。
水素は、従来、炭化水素から、即ち、エネルギーキャリアである石炭、鉱油、天然ガスを含んだ炭化水素から製造されている。更に、水から、電気分解で生じる水素を得ることも知られている。しかしながら、この方法は、極めてエネルギー消費が高い（即ち、水素一立方メートル当り約５kW時）。更に、水が大量に利用可能であるのは、世界中で（砂漠地帯ではなく、）特定の地域のみである。水素の拡散を考慮するならば、空気との混合により爆発性の混合物（酸水素ガス）が生じるので、水素の貯蔵並びに運搬は極めて危険である。そして、貯蔵を目的とした水素の液化は、高いエネルギーコストに結びつく。
水素は、水素からのエネルギーの発生（水を発生させるための、酸素との燃焼）により、環境にとって有害なガス（一酸化炭素、二酸化炭素、二酸化硫黄など）が発生しないので、将来のエネルギー源として考慮されている。しかしながら一方で、炭化水素からの水素の従来の製造は、環境に対して有害な、且つエネルギーが水素から生み出される場合なら避け得る（一酸化炭素、二酸化炭素などの）物質を生み出す結果となっている。従って、最近の分析では、水素をそのような方法で製造することは、増大する環境問題の解決にはならず、更には、石炭／天然ガス／原油資源の強制的な開発という結果をもたらす。最近の分析では、環境汚染問題は、この従来の水素発生方法により、エネルギー発生の場所から水素発生の場所へ移っただけである。
従って、C（炭素）源からではなく本来の場所で実行し得る水素製造方法が望 ましい。
本発明の目的は、炭素源から離れて実行し得る水素製造方法を提供することである。
本発明は、この目的を達成するための三つの方法を示している。一番目の解決方法によれば、アモルファスシリコンと水との反応により水素を製造するための方法が得られる。
アモルファスシリコンは本発明方法のための出発物質の役割を果たす。アモルファスシリコンの製造は、公知であり、また、ドイツ特許出願第１０２１７１４０．８号、１０２１７１２４．６号、１０２１７１２６．２号において新たな方法によって提案されている。最近の分析において、二酸化シリコンが、アモルファスシリコンの製造のための出発物質の役割を果たす。二酸化シリコンは、世界中で（特に、砂漠地帯においても）天然資源として大量に入手可能であるので、アモルファスシリコンは、水素製造のための安全な材料となり、これにより、水素が、本来の場所で、即ち、炭素源および／または水源から離れて、運搬や貯蔵の問題無しに、製造し得る。
固体は、その分子成分が結晶格子状に配置されず、不規則に配置される場合、アモルファスとして指名される。アモルファスシリコン（a‐Si）は、結晶シリ コンに比べ実質的に少ない出費で製造され得る。
アモルファスシリコンと、微晶質シリコンまたは微結晶シリコンとの境界は、精確には特定し得ないという点を特に強調しておきたい。従って、本発明には、本発明の水素製造方法が、微晶質シリコンまたは微結晶シリコンによっても、実施し得る旨を包含する。適切な境界が、実験的に確認されなければならない。
前記した先行のドイツ特許出願第１０２１７１４０．８号において、「一方では、黒色で、「表面被覆」されず、特に強力な反応性を有する純粋なアモルファスシリコンが存在し、他方では、茶色の粉末状で、例えば、塩素、シリルクロリド、酸素、もしくは、ヒドロキシル基などで「表面被覆」されたアモルファスシリコンが存在すること」が述べられている。「表面被覆」は、化学的被覆を意味している。
原理上、本発明方法は、両方の種類のアモルファスシリコンによって実施できるが、黒色のアモルファスシリコンは、化学的に被覆されないものの、化学的に被覆される茶色（黄色）のアモルファスシリコンに比べ、一層良好な反応性を示す。
従って、本発明の方法のためには、黒色の化学的に被覆されないアモルファスシリコンを用いることが好ましい。
本発明方法は、特に、黒色の化学的に被覆されないアモルファスシリコンの場合に、アモルファスシリコンの相応の反応性が存在する場合、周囲温度において好ましく実施し得る。
茶色の、化学的に被覆されるアモルファスシリコンを使う場合、シリコンの反応性は、被覆に左右される。従って、アモルファスシリコンの反応性（反応温度）は、化学的被覆を制御することにより、制御可能である。実験により、NH3で 被覆したアモルファスの茶色のシリコンは、O2で被覆したアモルファスの茶色のシリコンに比べて、反応性が一層良いという結果が得られている。
前述したように、特定の環境の下で、本発明方法は、微晶質シリコンまたは微結晶シリコンの粉末によっても、実施可能であり、その場合、この物質、微晶質、微結晶シリコンは、前述の茶色のアモルファスシリコンより、まだ低いめの反応性を有する。
水素製造のためのアモルファスシリコンと水との反応（Siamの加水分解）において、水素のほかに、二酸化シリコン（SiO2）が生じる。二酸化シリコンは開発利用できるし、リサイクルも可能である。
本発明方法を実施するための第二の方法によれば、水素は、アモルファスシリコンの、アルコールとの反応によって製造される。好ましくは、ここで用いるアルコール（ROH）は、RがMe(メチル)もしくはEt（エチル）のものである。Siamのアルコールとの反応の結果、テトラアルコキシシラン（Si(OR)4）を生じ、この 場合、Rは通常、有機基、好ましくは、アルキル基を意味する。このテトラアル コキシシランは、別に、シリカエステルとも称されるが、従来、シリコンハリドのアルコールとの反応により製造されている。本発明方法により、シリコンから直接製造される結果、ひとつの製造ステップが節約できる。テトラアルコキシシランの応用方法は多数あるので、この化合物は、本発明方法から得られる副産物として極めて重要である。
本発明方法における第三の方法によれば、アモルファスシリコンの、カルボン酸との反応により水素が製造される。好ましくは、酢酸（CH3COOH）を用いる。 これによりSiamの酢酸との反応において固体の四酢酸珪素が発生させられ、この物質は、有機シラン、シロキサン／シリコンを樹立形成するための基本物質として大きな重要性を持つ。
好ましくは更に、本発明に従い、化合物Si(OR)4（この場合Rは、アルコールもしくはカルボン酸による水素製造中に生成される、例えば特に、アルキル基もしくはカルボン酸基などの有機基である。）が、加水分解により、SiO2 ＋ HOR に転換される。この手順において、アルコールまたはカルボン酸（酢酸）は、前記化合物Si(OR)4、特に、Si(OAc)4がもはや必要でなくなった場合、回復し得る。
この手順によって等モルで製造されるH2は、可動システム（燃料電池）及び静止システムに利用できる。燃料電池への利用の場合、これまで、必要な水素は、燃料電池の上流のコンバーター内で、CH3OHもしくはCH4から作られ、いづれの場合も、CO2が発生していた。これに対し、本発明の方法は、CO2が無しであり、且つ、価値ある物質が生成され、それは実務上無毒であって、必要に応じてリサイクルも可能である。
既に述べたように、茶色のアモルファスシリコンにより、水素発生のための反応温度が、Si面（化学的被覆）の非活性化によって調節可能である。
図１に従って以下に、本発明の反応プロセスを、メチルアルコール、エチルアルコールについてと、酢酸について示す。
R: メチル、エチル
am: アモルファス
bl: 黒色
Ac: アセテート
反応過程の反応式である。

Claims (8)

  1. アモルファスシリコンと水との反応による水素製造方法。
  2. アモルファスシリコンとアルコールとの反応による水素製造方法。
  3. アモルファスシリコンとカルボン酸との反応による水素製造方法。
  4. 前述の請求項のうちひとつに記載の水素製造方法であって、黒色の、化学的に被覆されないアモルファスシリコンを用いることを特徴とする前記方法。
  5. 前述の請求項のうちひとつに記載の水素製造方法であって、周囲温度で実施されることを特徴とする前記方法。
  6. 請求項第１項から第３項もしくは第５項のうちひとつに記載の水素製造方法であって、茶色の、化学的に被覆されたアモルファスシリコンを用いることを特徴とする前記方法。
  7. 請求項第６項に記載の水素製造方法であって、アモルファスシリコンの反応性（反応温度）が、アモルファスシリコンの化学的被覆の制御によって、制御されることを特徴とする前記方法。
  8. 請求項第２項から第７項のうちひとつに記載の水素製造方法であって、化合物 Ｓｉ(ＯＲ)4（この場合Ｒは、アルコールもしくはカルボン酸による水素製造中に生成される、例えば特に、アルキル基もしくはカルボン酸基などの有機基である。）が、加水分解により、ＳｉＯ2 ＋ＨＯＲに転換されることを特徴とする前記方法。
JP2004557807A 2002-12-11 2003-12-11 水素製造方法 Expired - Fee Related JP4566751B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10258072A DE10258072A1 (de) 2002-12-11 2002-12-11 Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoff
PCT/DE2003/004086 WO2004052774A2 (de) 2002-12-11 2003-12-11 Verfahren zur erzeugung von wasserstoff

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006509702A true JP2006509702A (ja) 2006-03-23
JP4566751B2 JP4566751B2 (ja) 2010-10-20

Family

ID=32403798

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004557807A Expired - Fee Related JP4566751B2 (ja) 2002-12-11 2003-12-11 水素製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20060246001A1 (ja)
EP (1) EP1597195A2 (ja)
JP (1) JP4566751B2 (ja)
CN (1) CN100475687C (ja)
AU (1) AU2003294647A1 (ja)
DE (1) DE10258072A1 (ja)
WO (1) WO2004052774A2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015093808A (ja) * 2013-11-12 2015-05-18 株式会社Tkx 水素ガス製造用シリコン原料ａ、水素ガス製造用シリコン原料ｂ、水素ガス製造用シリコン原料ａの製造方法、水素ガス製造用シリコン原料ｂの製造方法、水素ガス製造方法および水素ガス製造装置
JP2021134107A (ja) * 2020-02-26 2021-09-13 国立大学法人広島大学 金属材料及び水素の製造方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004059380B4 (de) * 2004-12-09 2006-12-28 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Organosilanen
DE102005040255A1 (de) * 2005-08-24 2007-03-22 Martin Prof. Dr. Demuth Herstellung von Wasserstoff und Sauerstoff aus Wasser und Speicherung dieser Gase mittels Siliciden
FR2915742B1 (fr) * 2007-05-04 2014-02-07 Centre Nat Rech Scient Procede pour la fourniture du dihydrogene a partir de silicium hydrogene
WO2010069385A1 (de) * 2008-12-18 2010-06-24 Silicon Fire Ag Verfahren zum bereitstellen eines energieträgers
EP2647596A3 (de) 2008-12-18 2014-08-27 Silicon Fire AG Verfahren und Anlage zum Bereitstellen eines Energieträgers unter Einsatz von Kohlenstoffdioxid als Kohlenstofflieferant und von elektrischer Energie
US20120041083A1 (en) * 2008-12-18 2012-02-16 Silicon Fire Ag Silicon or elementary metals as energy carriers
GB0919830D0 (en) 2009-11-12 2009-12-30 Isis Innovation Preparation of silicon for fast generation of hydrogen through reaction with water
PL2614130T3 (pl) * 2010-09-08 2015-10-30 Cor Brevis D O O Paliwo i mieszanina palna stosowane jako zamiennik paliw kopalnych w elektrociepłowniach, piecach przemysłowych i centralnego ogrzewania
KR101912674B1 (ko) * 2011-01-21 2018-10-29 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 수소 발생체, 수소 발생 장치, 발전 장치 및 구동 장치
GB201217525D0 (en) 2012-10-01 2012-11-14 Isis Innovation Composition for hydrogen generation
DE202014002602U1 (de) 2013-06-05 2014-05-06 Eduard Galinker Alkalisches Reagenz zur Wasserstofferzeugung in lokalen und mobilen Energiesystemen durch Nutzung von Silizium und siliziumhaltigen Legierungen als Reduktionsmittel
DE102014012514A1 (de) 2013-12-10 2015-06-11 Eduard Galinker Trockene Komposition zur Wasserstofferzeugung in lokalen und mobilen Energiesystemen unter Verwendung der Legierung "Ferrosilizium" als Reduktionsmittel
DE202014006862U1 (de) 2014-08-23 2014-09-08 Eduard Galinker Trockene Komposition zur Wasserstofferzeugung in lokalen und mobilen Energiesystemen unter Verwendung der Legierung "Ferrosilizium" als Reduktionsmittel
US11383975B2 (en) 2020-05-25 2022-07-12 Silican Inc. Composite for generating hydrogen

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0459601A (ja) * 1990-06-26 1992-02-26 Asahi Chem Ind Co Ltd 水素の製造方法
WO2002090257A1 (de) * 2001-05-03 2002-11-14 Wacker-Chemie Gmbh Verfahren zur energieerzeugung
JP2004505879A (ja) * 2000-08-14 2004-02-26 ザ　ユニバーシティ　オブ　ブリティッシュ　コロンビア 水分解反応による水素の発生
JP2005504695A (ja) * 2001-05-03 2005-02-17 ワッカー・ヒェミー・ゲーエムベーハー エネルギー発生方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE528498C (de) * 1930-05-18 1931-06-30 Elek Zitaets Akt Ges Vorm Schu Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoffgas aus Silicium, AEtznatron und Wasser
GB427967A (en) * 1932-10-29 1935-04-30 George Francois Jaubert Improvements in the manufacture of hydrogen
US3895102A (en) * 1971-10-27 1975-07-15 Delta F Corp Solid fuel for the generation of hydrogen and method of preparing same
US4358291A (en) * 1980-12-31 1982-11-09 International Business Machines Corporation Solid state renewable energy supply
DE10155171B4 (de) * 2000-11-12 2006-08-03 Herbst, Daniel, Dr.-Ing. Verfahren zur Herstellung von Wasserstoff
US6663681B2 (en) * 2001-03-06 2003-12-16 Alchemix Corporation Method for the production of hydrogen and applications thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0459601A (ja) * 1990-06-26 1992-02-26 Asahi Chem Ind Co Ltd 水素の製造方法
JP2004505879A (ja) * 2000-08-14 2004-02-26 ザ　ユニバーシティ　オブ　ブリティッシュ　コロンビア 水分解反応による水素の発生
WO2002090257A1 (de) * 2001-05-03 2002-11-14 Wacker-Chemie Gmbh Verfahren zur energieerzeugung
JP2005504695A (ja) * 2001-05-03 2005-02-17 ワッカー・ヒェミー・ゲーエムベーハー エネルギー発生方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015093808A (ja) * 2013-11-12 2015-05-18 株式会社Tkx 水素ガス製造用シリコン原料ａ、水素ガス製造用シリコン原料ｂ、水素ガス製造用シリコン原料ａの製造方法、水素ガス製造用シリコン原料ｂの製造方法、水素ガス製造方法および水素ガス製造装置
JP2021134107A (ja) * 2020-02-26 2021-09-13 国立大学法人広島大学 金属材料及び水素の製造方法
JP7464254B2 (ja) 2020-02-26 2024-04-09 国立大学法人広島大学 金属材料及び水素の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20060246001A1 (en) 2006-11-02
AU2003294647A1 (en) 2004-06-30
WO2004052774A3 (de) 2004-10-07
CN1735561A (zh) 2006-02-15
WO2004052774A2 (de) 2004-06-24
AU2003294647A8 (en) 2004-06-30
CN100475687C (zh) 2009-04-08
DE10258072A1 (de) 2004-07-01
JP4566751B2 (ja) 2010-10-20
EP1597195A2 (de) 2005-11-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4566751B2 (ja) 水素製造方法
Andreae et al. Dimethyl sulfide in the marine atmosphere
CN108355702B (zh) 一种大比表面积碳缺陷石墨相氮化碳光催化剂及其制备方法和应用
JPH07149670A (ja) 水素からのエネルギーの貯蔵法
JP5678102B2 (ja) ホスフィンオキシド触媒を用いた、水素キャリアとしてのシリル化誘導体からの水素の製造方法
Koda Kinetic aspects of oxidation and combustion of silane and related compounds
JPH0682625B2 (ja) 酸化亜鉛膜の蒸着方法
JPH0565237A (ja) メタノールを媒体としたエネルギ供給方法
JP5017362B2 (ja) 製鉄所のスラグ及び廃棄物質を使用する水の熱−化学分解による水素ガスの製造方法
CN86108693A (zh) 薄膜晶体管
EA200601046A1 (ru) Способ и устройство для хранения и доставки водорода
Zhang et al. Photocatalytic degradation of vehicular exhaust by nitrogen-doped titanium dioxide modified pavement material
CN111499479B (zh) 一种碳基氧化锌复合推进剂用燃速调节剂及其低温制备方法
CN111841592A (zh) 一种利用Ti基MOF原位衍生合成TiO2-Ti3C2Tx复合光催化剂及其应用
AU3836699A (en) Process for producing carbonaceaous solid materials and hydrogen-rich gases
US20120041083A1 (en) Silicon or elementary metals as energy carriers
Li et al. OMVPE growth mechanism for GaP using tertiarybutylphosphine and trimethylgallium
Fiorucci et al. Homoepitaxial silicon carbide deposition processes via chlorine routes
CN111019445A (zh) 一种反射隔热涂料专用罩面漆
CN112978795A (zh) 一种BaZrS3纳米晶的制备方法及应用
JP2005504695A (ja) エネルギー発生方法
Kawakami et al. Sol-gel entrapment of lipase using a mixture of tetramethoxysilane and methyltrimethoxysilane as the alkoxide precursor: esterification activity in organic media
KR101465208B1 (ko) 합성가스 및 수소의 제조 방법, 및 이를 위한 장치
Su et al. CO2 sequestration by ammonia-enhanced phosphogypsum mineral carbonation: Development and optimization of reaction kinetic model
CN1955107A (zh) 硫化氢分解制氢气的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091201

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100223

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100223

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100318

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100326

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100402

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100421

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100428

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100706

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100804

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees