JP2006501463A - 真空室の壁に繰返し可能に取り付けるためのレーザ干渉計 - Google Patents
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Abstract
Description
環境室の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができ、レーザ源を含むハウジングと、
環境室の中に位置する物体に取り付けられた反射器と、
環境室の壁を貫通して設けられた、レーザ源から反射器へのレーザビームの通過を可能にする光通路と
を備える。
第1のレーザビームを提供するレーザ源と、
第2のレーザビームを提供する手段と、
第1のレーザビームと第2のレーザビームを重ね合わせることによって干渉ビームを提供する干渉手段と、
干渉ビームを検出する検出器と、
レーザ源に対して可動の物体に取り付けられた、物体からの少なくとも1つのレーザビームを干渉手段へ反射させる反射器と
を備え、
少なくとも前記反射手段が環境室の中に配置され、少なくとも前記レーザ源が、環境室の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができるハウジングによって、真空室の外部に配置され、少なくとも1つのレーザビームの真空室壁の通過を可能にする光通路が、真空室壁を貫通して提供される。
Claims (9)
- 環境室(26、126)の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができ、レーザ源(12、112)を含むハウジング(10、40)と、
前記環境室の中に位置する物体に取り付けられた反射器(22、50、122、150)と、
前記環境室の前記壁を貫通して設けられた、前記レーザ源から前記反射器へのレーザビームの通過を可能にする光通路と
を備えることを特徴とするレーザ干渉計。 - 前記ハウジング(10)は前記壁に対偶的に取り付ける(30)ことができることを特徴とする請求項1に記載のレーザ干渉計。
- 前記環境室は真空室であることを特徴とする任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計。
- 前記反射器は鏡(22)であることを特徴とする任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計。
- 前記ハウジングは、前記光通路を通過するレーザビームの通過方向を調整する少なくとも1つのビームステアラ(56、58、156、158)を含むことを特徴とする任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計。
- 前記ハウジングは、2平面のレーザビームの通過方向を調整する2つのビームステアラ(56、58、156、158)を含むことを特徴とする請求項5に記載のレーザ干渉計。
- 前記環境室の前記壁を通したレーザビームの通過のアラインメントをとるアラインメント装置(260)を備えることを特徴とする請求項5または6に記載のレーザ干渉計。
- 任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計を備え、それによって前記環境室(26、126)の中に相対的に固定された第2の反射器(50、150)が提供され、前記光通路は、前記レーザ源から前記第2の反射器への参照ビーム(48、148)の通過を可能にすることを特徴とするカラムレーザ干渉計。
- 前記ハウジングは、前記測定ビームと前記参照ビームの間の角度を調整するくさび形プリズム(270)を含むことを特徴とする請求項8に記載のレーザ干渉計。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014509750A (ja) * | 2011-03-30 | 2014-04-21 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 露光ツール用干渉計モジュールのアライメント |
JP2014173885A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Ebara Corp | 測長計の設置構造 |
JP2014196999A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-10-16 | 株式会社東京精密 | 2色干渉計測装置 |
WO2016084239A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社東京精密 | 2色干渉計測装置 |
US9551563B2 (en) | 2012-09-27 | 2017-01-24 | Mapper Lithography Ip B.V. | Multi-axis differential interferometer |
JP2021117190A (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-10 | 株式会社東京精密 | 測定装置 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4095566B2 (ja) * | 2003-09-05 | 2008-06-04 | キヤノン株式会社 | 光学素子を評価する方法 |
US7414730B2 (en) | 2005-05-06 | 2008-08-19 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | High precision interferometer apparatus employing a grating beamsplitter |
US7719693B2 (en) * | 2007-04-23 | 2010-05-18 | The Aerospace Corporation | Interferometry system chamber viewing window |
JP5690268B2 (ja) | 2008-08-26 | 2015-03-25 | ザ ユニバーシティー コート オブザ ユニバーシティー オブ グラスゴー | 測定システム、位置決定装置、波長決定装置、及び屈折率決定装置 |
DE112010000808B4 (de) | 2009-02-02 | 2017-03-30 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Profilmesseinrichtung |
US9279658B1 (en) * | 2013-03-14 | 2016-03-08 | Exelis, Inc. | System and method for setting up secondary reflective optic |
KR101609365B1 (ko) | 2014-05-27 | 2016-04-21 | 주식회사 고영테크놀러지 | 착탈식 oct 장치 |
DE102017003084A1 (de) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Just Vacuum Gmbh | System zum Messen von Längenänderungen im Vakuum |
DE102017205889B4 (de) * | 2017-04-06 | 2020-07-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optische Anordnung und Verfahren zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe |
CN111183501B (zh) * | 2017-10-04 | 2022-11-25 | Asml荷兰有限公司 | 干涉测量台定位装置 |
CN110514139B (zh) * | 2019-08-13 | 2021-11-26 | 桂林电子科技大学 | 一种激光干涉测量系统的反射镜面形变化检测装置及方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2613826B1 (fr) * | 1987-04-07 | 1990-10-26 | Commissariat Energie Atomique | Capteur de deplacement en optique integree |
JP3365571B2 (ja) * | 1993-11-10 | 2003-01-14 | 株式会社ニコン | 光学式計測装置及び露光装置 |
JPH1074997A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Shimadzu Corp | 固体レーザ装置 |
DE19980326T1 (de) * | 1998-01-21 | 2000-06-15 | Renishaw Plc | Strahllenkeinrichtung |
JP2000088512A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-03-31 | Nikon Corp | 干渉計測装置 |
GB9906494D0 (en) | 1999-03-23 | 1999-05-12 | Renishaw Plc | Laser interferometer |
TWI282909B (en) * | 1999-12-23 | 2007-06-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method for manufacturing a device |
JP2002083758A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-22 | Pioneer Electronic Corp | 露光装置 |
EP1333260A3 (en) * | 2002-01-31 | 2004-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Phase measuring method and apparatus |
GB0222962D0 (en) | 2002-10-04 | 2002-11-13 | Renishaw Plc | Laser system |
-
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014509750A (ja) * | 2011-03-30 | 2014-04-21 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 露光ツール用干渉計モジュールのアライメント |
JP2014515186A (ja) * | 2011-03-30 | 2014-06-26 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 微分干渉計モジュールを備えたリソグラフィシステム |
US9678443B2 (en) | 2011-03-30 | 2017-06-13 | Mapper Lithography Ip B.V. | Lithography system with differential interferometer module |
US9690215B2 (en) | 2011-03-30 | 2017-06-27 | Mapper Lithography Ip B.V. | Interferometer module |
JP2017161534A (ja) * | 2011-03-30 | 2017-09-14 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 露光ツール用干渉計モジュールのアライメント |
US9551563B2 (en) | 2012-09-27 | 2017-01-24 | Mapper Lithography Ip B.V. | Multi-axis differential interferometer |
JP2014173885A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Ebara Corp | 測長計の設置構造 |
JP2014196999A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-10-16 | 株式会社東京精密 | 2色干渉計測装置 |
WO2016084239A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社東京精密 | 2色干渉計測装置 |
JP2021117190A (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-10 | 株式会社東京精密 | 測定装置 |
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