JP2006500568A - 2信号間の遅延時間を高精度に測定するための方法および装置 - Google Patents
2信号間の遅延時間を高精度に測定するための方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006500568A JP2006500568A JP2004538470A JP2004538470A JP2006500568A JP 2006500568 A JP2006500568 A JP 2006500568A JP 2004538470 A JP2004538470 A JP 2004538470A JP 2004538470 A JP2004538470 A JP 2004538470A JP 2006500568 A JP2006500568 A JP 2006500568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- delay
- channel
- signal
- input signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04F—TIME-INTERVAL MEASURING
- G04F10/00—Apparatus for measuring unknown time intervals by electric means
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04F—TIME-INTERVAL MEASURING
- G04F10/00—Apparatus for measuring unknown time intervals by electric means
- G04F10/10—Apparatus for measuring unknown time intervals by electric means by measuring electric or magnetic quantities changing in proportion to time
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/304—Controlling tubes
- H01J2237/30472—Controlling the beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】1つの入力信号に可変遅延器が適用され、信号が相関器で比較され、この相関器は、可変遅延の遅延値が第1、第2信号間の遅延時間を表すときに極小値、極大値、または他の識別可能な値となる出力値を出力する。識別可能な相関器出力値が得られるまで可変遅延を調整することによって、その値が生成されたときの可変遅延の遅延値として、実際の遅延時間を決定することができる。遅延時間測定のための装置および方法は、イオン注入システムにおいて、飛行時間測定用プローブ210,220を使用してイオビームエネルギーを測定するために使用できる。遅延時間測定装置204を較正し、システムの残留遅延を除去することができる。さらに、電子装置による誤差を最小化する独自の誤差訂正方法も提供される。
Description
本出願は、「2つのパルスストリームの間の遅延時間を高精度に測定するための方法および装置」と称する、2002年9月23日に出願された米国特許出願第60/412,751号に基づいて優先権およびその利益を主張するものであり、その特許出願は、完全に記載されているものとして、参考文献として本明細書に含まれる。
マッキンタイア等に付与された米国特許第6,137,112号、チェン等に付与された米国特許第5,691,537号、およびグラビッシュ等に付与された米国特許4,667,111号は、それらが完全に記載されているものとして、参考文献として本明細書に含まれる。
Claims (32)
- 第1入力信号と第2入力信号との間の遅延時間を測定するための遅延時間測定システムであって、
前記第1入力信号を受信する第1チャネルと、
前記第2入力信号を受信する第2チャネルと、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連し、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連する入力信号に対して可変遅延を選択的に与えるように動作する遅延器と、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルからの出力をそれぞれ受信する第1相関器入力および第2相関器入力を有し、かつ、前記可変遅延の遅延値が前記第1入力信号と前記第2入力信号との間の遅延時間を表すときに識別可能な相関器出力値となる相関器出力信号を出力する相関器出力を有する相関器と、
を含むことを特徴とする遅延時間測定システム。 - 前記相関器は、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときに最小の出力値を出力することを特徴とする請求項1に記載の遅延時間測定システム。
- 前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連する利得を選択的に調整するように動作する振幅調整器をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の遅延時間測定システム。
- 前記相関器出力信号を受信する測定回路をさらに含み、該測定回路は、前記遅延器および前記振幅調整器を選択的に制御するために適していることを特徴とする請求項3に記載の遅延時間測定システム。
- 前記測定回路は、前記相関器出力信号を監視しながら前記遅延器を制御して前記可変遅延を選択的に調整し、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときの前記識別可能な相関器出力値に対応する第1遅延値を決定することを特徴とする請求項4に記載の遅延時間測定システム。
- 前記相関器は、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときに最小の出力値を出力し、前記測定回路は、前記最小の出力値に対応する前記第1遅延値を決定することを特徴とする請求項5に記載の遅延時間測定システム。
- 前記測定回路は、前記遅延器を制御して前記可変遅延を前記第1遅延値に調整し、前記相関器を監視しながら前記振幅調整器を制御して利得を選択的に調整して、前記識別可能な相関器出力値に対応する第1利得値を決定することを特徴とする請求項5に記載の遅延時間測定システム。
- 前記測定回路は、前記可変遅延の調整と前記利得の調整とを交互に反復し、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときの前記識別可能な相関器出力値に対応する遅延値を決定することを特徴とする請求項7に記載の遅延時間測定システム。
- 前記相関器は、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときに最小の出力値を出力し、前記測定回路は、前記最小の出力値に対応する前記第1遅延値を決定することを特徴とする請求項8に記載の遅延時間測定システム。
- 前記遅延器は、前記第1チャネルに関連し、前記第1チャネルの前記第1入力信号に対して前記可変遅延を選択的に与えるように動作し、前記振幅調整器は、前記第2チャネルに関連する利得を選択的に調整するように動作することを特徴とする請求項3に記載の遅延時間測定システム。
- 前記相関器出力信号を受信する測定回路をさらに含み、該測定回路は、前記相関器出力信号を監視しながら前記遅延器を制御して前記可変遅延を選択的に調整して、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときの前記識別可能な相関器出力値に対応する遅延値を決定するために適していることを特徴とする請求項1に記載の遅延時間測定システム。
- 前記第1入力信号と前記第1チャネルとの間かつ前記第2入力信号と前記第2チャネルとの間に配置された誤差訂正回路をさらに含み、該誤差訂正回路は、第1状態および第2状態を有するスイッチング制御信号に従って動作する第1スイッチング要素を含んでおり、該第1スイッチング要素は、前記スイッチング制御信号が前記第1状態のときに前記第1チャネルを前記第1入力信号に接続し、前記スイッチング制御信号が前記第2状態のときに前記第1チャネルを前記第2入力信号に接続することを特徴とする請求項1に記載の遅延時間測定システム。
- 前記誤差訂正回路は、前記スイッチング制御信号に従って動作する第2スイッチング要素、第1負荷値をそれぞれ有する第1信号分配器および第2信号分配器、および、第1負荷要素および第2負荷要素をさらに含み、
前記第1負荷要素は、前記第1負荷値の約2倍の第2負荷値を有して前記第1入力信号と前記第1スイッチング要素との間に接続され、前記第2負荷要素は、前記第1負荷値を有し、前記第1信号分配器および前記第2負荷要素は、前記第2入力信号と前記第2スイッチング要素との間に接続され、前記第2信号分配器は、前記第1信号分配器と前記第1スイッチング要素との間に接続されており、
前記第1スイッチング要素は、前記スイッチング制御信号が前記第1状態のときに前記第1負荷要素を介して前記第1チャネルを前記第1入力信号に選択的に接続し、前記スイッチング制御信号が前記第2状態のときに前記第1、第2信号分配器を介して前記第1チャネルを前記第2入力信号に接続するために適しており、
前記第2スイッチング要素は、前記スイッチング制御信号が前記第1状態のときに前記第1信号分配器および前記第2負荷要素を介して前記第2チャネルを前記第2入力信号に選択的に接続し、前記スイッチング制御信号が前記第2状態のときに前記第1、第2信号分配器を介して前記第2チャネルを前記第2入力信号に接続するために適しており、
前記スイッチング制御信号が前記第2状態のときに前記第1チャネルおよび前記第2チャネルに供給される前記第2入力信号は、ほぼ等しい振幅を有しかつ相対的な遅延時間が無いことを特徴とする請求項12に記載の遅延時間測定システム。 - イオンビーム注入装置のイオンビーム中の選択されたイオンパルスに含まれるイオンの平均運動エネルギーを測定するための飛行時間型イオンビームエネルギー測定システムであって、
イオンビーム経路に沿ってセンサ間距離だけ互いに離れて配置された第1センサおよび第2センサを含み、前記第2センサは前記第1センサの下流側に配置され、前記第1センサは、前記イオンビームのイオンパルスが前記第1センサを通過するときに第1センサ信号を発生し、前記第2センサは、前記イオンパルスが前記第2センサを通過するときに第2センサ信号を発生するものであり、
さらに、前記第1センサ信号と前記第2センサ信号との間の遅延時間を測定するための遅延時間測定システムを含み、該遅延時間測定システムは、
前記第1センサ信号を受信する第1チャネルと、
前記第2センサ信号を受信する第2チャネルと、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連し、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連するセンサ信号に対して可変遅延を選択的に与えるように動作する遅延器と、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルからの出力をそれぞれ受信する第1相関器入力および第2相関器入力を有し、かつ、前記可変遅延の遅延値が前記第1入力信号と前記第2入力信号との間の遅延時間を表すときに識別可能な相関器出力値となる相関器出力信号を出力する相関器出力を有する相関器と、
前記相関器出力信号を受信し、前記相関器を監視しながら前記遅延器を制御して前記可変遅延を選択的に調整し、前記可変遅延の前記遅延値が前記第1入力信号と前記第2入力信号との間の遅延時間を表すときの前記識別可能な相関器出力値に対応する第1遅延値を決定し、前記第1遅延値、前記イオンビーム中の粒子の質量、および前記センサ間距離に従ってイオンビームエネルギーの測定値を決定するために適した測定回路と、を含んでいることを特徴とする飛行時間型イオンビームエネルギー測定システム。 - 前記相関器は、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときに最小の出力値を出力することを特徴とする請求項14に記載の飛行時間型イオンビームエネルギー測定システム。
- 前記遅延時間測定システムは、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連する利得を選択的に調整するように動作する振幅調整器をさらに含んでおり、
前記測定回路は、
前記遅延器を制御して前記可変遅延を前記第1遅延値に調整し、
前記相関器出力信号を監視しながら前記振幅調整器を制御して前記利得を選択的に調整し、
前記識別可能な相関器出力値に対応する第1利得値を決定し、
前記振幅調整器を制御して前記利得を前記第1利得値に調整し、
前記相関器出力信号を監視しながら前記遅延器を制御して前記可変遅延を再度選択的に調整し、
前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときの前記識別可能な相関器出力値に対応する第2遅延値を決定し、
前記第2遅延値、前記イオンビーム中の粒子の質量、および前記センサ間距離に従ってイオンビームエネルギーの測定値を決定すること、を特徴とする請求項14に記載の飛行時間型イオンビームエネルギー測定システム。 - 経路に沿ってイオンビームを生成するために適したイオン源と、
前記イオン源の下流側に配置され、前記イオンビームが前記経路に沿って輸送される通路を形成するビームライン組立体と、
前記経路に沿って前記ビームライン組立体の下流側に配置され、前記イオンビームを使用した注入のために前記経路に沿ってウエハを支持するために適したエンドステーションとを含み、
前記ビームライン組立体は、前記イオン源から前記経路に沿って前記イオンビームを受け取って所望の電荷対質量比を有するイオンを前記経路に沿って前記エンドステーションに導く質量分析装置を含んでいる、イオン注入システムであって、
前記イオンビーム中の選択されたイオンパルスに含まれるイオンの平均運動エネルギーを測定するための飛行時間型イオンビームエネルギー測定システムを含み、
該飛行時間型イオンビームエネルギー測定システムは、
前記経路に沿ってセンサ間距離だけ互いに離れて配置された第1センサおよび第2センサを含み、前記第2センサは前記第1センサの下流側に配置され、前記第1センサは、前記イオンビームのイオンパルスが前記第1センサを通過するときに第1センサ信号を発生し、前記第2センサは、前記イオンパルスが前記第2センサを通過するときに第2センサ信号を発生するものであり、
さらに、前記第1センサ信号と前記第2センサ信号との間の遅延時間を測定するための遅延時間測定システムを含み、該遅延時間測定システムは、
前記第1センサ信号を受信する第1チャネルと、
前記第2センサ信号を受信する第2チャネルと、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連し、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連するセンサ信号に対して可変遅延を選択的に与えるように動作する遅延器と、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルからの出力をそれぞれ受信する第1相関器入力および第2相関器入力を有し、かつ、前記可変遅延の遅延値が前記第1入力信号と前記第2入力信号との間の遅延時間を表すときに識別可能な相関器出力値となる相関器出力信号を出力する相関器出力を有する相関器と、
前記相関器出力信号を受信し、前記相関器を監視しながら前記遅延器を制御して前記可変遅延を選択的に調整し、前記可変遅延の前記遅延値が前記第1入力信号と前記第2入力信号との間の遅延時間を表すときの前記識別可能な相関器出力値に対応する第1遅延値を決定し、前記第1遅延値、前記イオンビーム中の粒子の質量、および前記センサ間距離に従ってイオンビームエネルギーの測定値を決定するために適した測定回路と、を含んでいることを特徴とするイオン注入システム。 - 前記相関器は、前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときに最小の出力値を出力することを特徴とする請求項17に記載のイオン注入システム。
- 前記遅延時間測定システムは、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連する利得を選択的に調整するように動作する振幅調整器をさらに含んでおり、
前記測定回路は、
前記遅延器を制御して前記可変遅延を前記第1遅延値に調整し、
前記相関器出力信号を監視しながら前記振幅調整器を制御して前記利得を選択的に調整し、
前記識別可能な相関器出力値に対応する第1利得値を決定し、
前記振幅調整器を制御して前記利得を前記第1利得値に調整し、
前記相関器出力信号を監視しながら前記遅延器を制御して前記可変遅延を再度選択的に調整し、
前記第1チャネルからの出力と前記第2チャネルからの出力とが時間的にほぼ一致したときの前記識別可能な相関器出力値に対応する第2遅延値を決定し、
前記第2遅延値、前記イオンビーム中の粒子の質量、および前記センサ間距離に従ってイオンビームエネルギーの測定値を決定すること、を特徴とする請求項17に記載のイオン注入システム。 - 第1入力信号と第2入力信号との間の遅延時間を測定するための方法であって、
前記第1入力信号および前記第2入力信号の1つに可変遅延時間を与えるステップと、
前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と、前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とを相関させて、相関出力信号を生成するステップと、
前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が、前記可変遅延時間の遅延値が前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方との間の遅延時間を表すときの識別可能な値となる遅延値に調整するステップと、
前記相関出力信号が前記識別可能な値となる前記遅延値に従って、遅延時間の測定値を決定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と、前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とを相関させるステップは、前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と、前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とを減算して前記相関出力信号を生成することを含み、前記相関出力信号は、前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とが時間的にほぼ一致するときに最小値となるものであり、前記可変遅延時間を調整するステップは、前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が最小値となる遅延値に調整することを含んでいる請求項20に記載の方法。
- 前記入力信号の1つの可変振幅を、前記相関出力信号が最小値となる値に調整するステップと、前記遅延時間の測定値を決定する前に、前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が最小値となる遅延値に再度調整するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 前記入力信号の1つの可変振幅を、前記相関出力信号が前記識別可能な値となる値に調整するステップと、前記遅延時間の測定値を決定する前に、前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が前記識別可能な値となる遅延値に再度調整するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の方法。
- イオンビーム中の粒子の平均運動エネルギーを測定する方法であって、
イオン注入システムに離れて配置された第1イオンビームセンサおよび第2イオンビームセンサからの第1入力信号および第2入力信号を入力するステップと、
前記第1入力信号および前記第2入力信号の1つに可変遅延時間を与えるステップと、
前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と、前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とを相関させて、相関出力信号を生成するステップと、
前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が、前記可変遅延時間の遅延値が前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方との間の遅延時間を表すときの識別可能な値となる遅延値に調整するステップと、
前記相関出力信号が前記識別可能な値となる前記遅延値および前記センサ間の距離に従って、ビーム速度の測定値を決定するステップと、
前記ビーム速度の測定値および前記イオンビーム中の粒子の質量に従って、前記イオンビーム中の粒子の平均運動エネルギーを算出するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と、前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とを相関させるステップは、前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と、前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とを減算して前記相関出力信号を生成することを含み、前記相関出力信号は、前記第1入力信号および前記第2入力信号の遅延された一方と前記第1入力信号および前記第2入力信号の他方とが時間的にほぼ一致するときに最小値となるものであり、前記可変遅延時間を調整するステップは、前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が最小値となる遅延値に調整することを含んでいる請求項24に記載の方法。
- 前記入力信号の1つの可変振幅を、前記相関出力信号が最小値となる値に調整するステップと、前記ビーム速度の測定値を決定する前に、前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が最小値となる遅延値に再度調整するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項25に記載の方法。
- 前記入力信号の1つの可変振幅を、前記相関出力信号が前記識別可能な値となる値に調整するステップと、前記ビーム速度の測定値を決定する前に、前記可変遅延時間を、前記相関出力信号が前記識別可能な値となる遅延値に再度調整するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- イオン注入システムの飛行時間型エネルギー測定システムを較正するための方法であって、
直流イオンビームを、既知の直流ビームエネルギーで、前記イオン注入システムのビーム経路に沿って供給するステップと、
前記直流イオンビームを小さな交流成分で変調するステップと、
前記飛行時間型エネルギー測定システムを使用してビームエネルギーを測定するステップと、
前記ビームエネルギーの測定値および前記既知の直流ビームエネルギーに従って、前記飛行時間型エネルギー測定システムを較正するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記直流イオンビームを小さな交流成分で変調するステップは、前記イオン注入システムの高周波加速装置に、前記イオンビームの平均エネルギーをほぼ変動させることなく前記飛行時間型エネルギー測定システムのプローブにパルス信号を発生させるための低電圧を印加することを含んでいる請求項28に記載の方法。
- 前記ビームエネルギーの測定値および前記既知の直流ビームエネルギーに従って、前記飛行時間型エネルギー測定システムを較正するステップは、前記ビームエネルギーの測定値および前記既知の直流ビームエネルギーに従って、エネルギーのオフセット値を算出することを含んでいる請求項28に記載の方法。
- 第1パルスストリームと第2パルスストリームとの間の遅延時間を測定するためのシステムであって、
前記第1入力パルスストリームを受信する第1チャネルと、
前記第2入力パルスストリームを受信する第2チャネルと、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連し、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルの1つに関連するパルスストリームに対して可変遅延を選択的に与えるために適したプログラム可能な遅延ラインと、
前記第1チャネルおよび前記第2チャネルからの前記第1パルスストリームおよび前記第2パルスストリームをそれぞれ受信し、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルからの前記パルスストリームが時間的にほぼ一致するときに識別可能な出力値を出力するために適した相関器と、
を含むことを特徴とするシステム。 - 前記相関器は、前記第1チャネルおよび前記第2チャネルからの前記パルスストリームが時間的にほぼ一致するときに最小の出力値を出力するために適していることを特徴とする請求項31に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41275102P | 2002-09-23 | 2002-09-23 | |
US10/368,825 US6831280B2 (en) | 2002-09-23 | 2003-02-19 | Methods and apparatus for precise measurement of time delay between two signals |
PCT/US2003/030099 WO2004027448A2 (en) | 2002-09-23 | 2003-09-23 | Methods and apparatus for precise measurement of time delay between two signals |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006500568A true JP2006500568A (ja) | 2006-01-05 |
Family
ID=31997098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004538470A Pending JP2006500568A (ja) | 2002-09-23 | 2003-09-23 | 2信号間の遅延時間を高精度に測定するための方法および装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6831280B2 (ja) |
EP (1) | EP1547122A2 (ja) |
JP (1) | JP2006500568A (ja) |
WO (1) | WO2004027448A2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009529765A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | プラズマプロセスの監視制御技術 |
JP2014217027A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 日本無線株式会社 | 補正装置、及び補正方法 |
JP2014229599A (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-08 | 株式会社Sen | 高エネルギーイオン注入装置 |
CN108505009A (zh) * | 2017-02-27 | 2018-09-07 | 住友重机械离子科技株式会社 | 离子注入装置 |
JP2022547916A (ja) * | 2019-09-10 | 2022-11-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルスイオンビームにおけるイオンエネルギー測定のための装置および技法 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7078679B2 (en) * | 2002-11-27 | 2006-07-18 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Inductive detection for mass spectrometry |
US7009193B2 (en) * | 2003-10-31 | 2006-03-07 | Infineon Technologies Richmond, Lp | Utilization of an ion gauge in the process chamber of a semiconductor ion implanter |
US7102146B2 (en) * | 2004-06-03 | 2006-09-05 | Axcelis Technologies, Inc. | Dose cup located near bend in final energy filter of serial implanter for closed loop dose control |
JP5100963B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2012-12-19 | 株式会社Sen | ビーム照射装置 |
GB2428149B (en) * | 2005-07-07 | 2009-10-28 | Agilent Technologies Inc | Multimode optical fibre communication system |
US7839792B2 (en) * | 2005-08-30 | 2010-11-23 | Tektronix, Inc. | Time-correlated, simultaneous measurement and analysis of network signals from multiple communication networks |
US7518108B2 (en) * | 2005-11-10 | 2009-04-14 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrospray ionization ion source with tunable charge reduction |
US7402821B2 (en) * | 2006-01-18 | 2008-07-22 | Axcelis Technologies, Inc. | Application of digital frequency and phase synthesis for control of electrode voltage phase in a high-energy ion implantation machine, and a means for accurate calibration of electrode voltage phase |
KR100725372B1 (ko) * | 2006-02-03 | 2007-06-07 | 삼성전자주식회사 | 복수 매의 포토마스크 상에 전자빔을 조사할 수 있는전자빔 리소그래피 장치 및 그것을 이용한 포토마스크제조방법 |
US20080173807A1 (en) * | 2006-04-11 | 2008-07-24 | Oh-Kyu Yoon | Fragmentation modulation mass spectrometry |
US7463983B1 (en) | 2007-05-25 | 2008-12-09 | Thermo Finnigan Llc | TOF with clock phase to time bin distribution |
GB2486484B (en) * | 2010-12-17 | 2013-02-20 | Thermo Fisher Scient Bremen | Ion detection system and method |
US8854048B2 (en) * | 2011-03-10 | 2014-10-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Sensitivity correction method for dose monitoring device and particle beam therapy system |
JP5920564B2 (ja) * | 2011-12-05 | 2016-05-18 | セイコーエプソン株式会社 | タイマー装置及び電子機器 |
US9055523B2 (en) * | 2012-12-02 | 2015-06-09 | Intel Corporation | Apparatus, system and method of calibrating a radio delay of a wireless device |
JP6662549B2 (ja) * | 2016-11-21 | 2020-03-11 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入方法およびイオン注入装置 |
EP3499732B1 (en) * | 2017-12-18 | 2020-03-11 | Rohde & Schwarz GmbH & Co. KG | Test arrangement, device and method for measuring a directed signal |
US10832913B2 (en) * | 2018-02-14 | 2020-11-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Method and apparatus for forming semiconductor structure |
CN109613523B (zh) * | 2018-10-23 | 2023-04-07 | 南通赛洋电子有限公司 | 一种测探仪信号预处理电路 |
JP6613008B1 (ja) * | 2019-05-31 | 2019-11-27 | 日本たばこ産業株式会社 | エアロゾル吸引器用の制御装置及びエアロゾル吸引器 |
JP6678936B1 (ja) | 2019-05-31 | 2020-04-15 | 日本たばこ産業株式会社 | エアロゾル吸引器用の制御装置及びエアロゾル吸引器 |
US11181617B2 (en) * | 2019-06-10 | 2021-11-23 | GM Global Technology Operations LLC | Ultra short range radar sensor systems and methods |
WO2021159005A1 (en) * | 2020-02-07 | 2021-08-12 | Juniper Networks, Inc. | Method and system for estimating communication latency |
CN111537995B (zh) * | 2020-05-19 | 2022-08-12 | 北京爱笔科技有限公司 | 一种时延获取方法、装置及电子设备 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1389894A (en) * | 1972-10-28 | 1975-04-09 | Ferranti Ltd | Apparatus for the measurement of short time intervals |
CA1028039A (en) | 1974-12-19 | 1978-03-14 | John N. Barry | Range or time-delay determining subsystem for use in certain radar-like systems |
DE2850246A1 (de) * | 1978-11-20 | 1980-05-29 | Interatom | Verfahren zur laufzeitmessung mittels signalverzoegerung |
US4604717A (en) * | 1983-02-18 | 1986-08-05 | Rca Corporation | Method and apparatus for measuring the time delay between signals |
US4667111C1 (en) | 1985-05-17 | 2001-04-10 | Eaton Corp Cleveland | Accelerator for ion implantation |
US4818100A (en) | 1987-09-30 | 1989-04-04 | Eaton Corporation | Laser doppler and time of flight range measurement |
DE4322101C2 (de) | 1993-07-02 | 1995-06-14 | Bergmann Thorald | Ionenquelle für Flugzeit-Massenspektrometer |
US5396065A (en) | 1993-12-21 | 1995-03-07 | Hewlett-Packard Company | Sequencing ion packets for ion time-of-flight mass spectrometry |
US5388461A (en) | 1994-01-18 | 1995-02-14 | General Electric Company | Beamforming time delay correction for a multi-element array ultrasonic scanner using beamsum-channel correlation |
US5591969A (en) | 1995-04-12 | 1997-01-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Inductive detector for time-of-flight mass spectrometers |
US5614711A (en) | 1995-05-04 | 1997-03-25 | Indiana University Foundation | Time-of-flight mass spectrometer |
US5691537A (en) | 1996-01-22 | 1997-11-25 | Chen; John | Method and apparatus for ion beam transport |
US6137112A (en) * | 1998-09-10 | 2000-10-24 | Eaton Corporation | Time of flight energy measurement apparatus for an ion beam implanter |
-
2003
- 2003-02-19 US US10/368,825 patent/US6831280B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-23 JP JP2004538470A patent/JP2006500568A/ja active Pending
- 2003-09-23 WO PCT/US2003/030099 patent/WO2004027448A2/en active Application Filing
- 2003-09-23 EP EP03755859A patent/EP1547122A2/en not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009529765A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | プラズマプロセスの監視制御技術 |
JP2014217027A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 日本無線株式会社 | 補正装置、及び補正方法 |
JP2014229599A (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-08 | 株式会社Sen | 高エネルギーイオン注入装置 |
CN108505009A (zh) * | 2017-02-27 | 2018-09-07 | 住友重机械离子科技株式会社 | 离子注入装置 |
JP2018142434A (ja) * | 2017-02-27 | 2018-09-13 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置 |
CN108505009B (zh) * | 2017-02-27 | 2020-10-23 | 住友重机械离子科技株式会社 | 离子注入装置 |
TWI744491B (zh) * | 2017-02-27 | 2021-11-01 | 日商住友重機械離子科技股份有限公司 | 離子植入裝置 |
JP2022547916A (ja) * | 2019-09-10 | 2022-11-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルスイオンビームにおけるイオンエネルギー測定のための装置および技法 |
JP7326593B2 (ja) | 2019-09-10 | 2023-08-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルスイオンビームにおけるイオンエネルギー測定のための装置および技法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6831280B2 (en) | 2004-12-14 |
US20040056210A1 (en) | 2004-03-25 |
WO2004027448A2 (en) | 2004-04-01 |
WO2004027448A3 (en) | 2004-09-30 |
EP1547122A2 (en) | 2005-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006500568A (ja) | 2信号間の遅延時間を高精度に測定するための方法および装置 | |
JP4432003B2 (ja) | イオンビーム注入装置、イオンビームのエネルギー測定装置、及びイオンの平均運動エネルギーの測定方法 | |
US7586100B2 (en) | Closed loop control and process optimization in plasma doping processes using a time of flight ion detector | |
KR100631443B1 (ko) | 플라즈마 처리 시스템내의 전류 측정값으로부터 변위전류를 제거하기 위한 방법 및 장치 | |
KR101724389B1 (ko) | 정전 이온 트랩 | |
US6965116B1 (en) | Method of determining dose uniformity of a scanning ion implanter | |
EP0534935B1 (en) | Method and apparatus for generating particle beams | |
JP6062243B2 (ja) | 不利な条件下であっても均一な量の注入を実施するシステムおよび方法 | |
EP2774169A2 (en) | Method and apparatus for tuning an electrostatic ion trap | |
JP5131576B2 (ja) | イオン注入機における圧力補償ファクタを決定するための方法及びシステム | |
EP4100991A1 (en) | Time-domain analysis of signals for charge detection mass spectrometry | |
TW201030793A (en) | Method and apparatus for plasma dose measurement | |
US20040256573A1 (en) | Methods and systems for optimizing ion implantation uniformity control | |
Milosavljević et al. | Experimental determination of the differential cross-section surface for elastic electron–atom (molecule) scattering | |
Dombrowski et al. | Low energy proton-proton scattering near the interference minimum using a windowless gas jet target | |
Heindorff et al. | Velocity analysis of on‐axis cesium atoms by the time‐of‐flight method | |
Scherer et al. | Implant energy determination from time-of-flight measurement | |
CN103165371B (zh) | 一种用于等离子体浸没注入中剂量检测装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090603 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090901 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090908 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091202 |