JP2006346047A - キッチンカウンターおよびキッチンカウンターの製造方法 - Google Patents
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【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持されるキッチンカウンターを提供する。
【解決手段】本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするキッチンカウンターを提供する。
【選択図】図4
【解決手段】本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするキッチンカウンターを提供する。
【選択図】図4
Description
本発明は、外力を印加した場合にも、意匠性が維持されるキッチンカウンターに関する。
システムキッチン等のカウンターとして、ステンレス鋼板、FRP、人工大理石などが種々選択されて使用されている。キッチンカウンターは生活用品として利用されるため外観美が求められる。
特に、その金属光沢を持つ外観からステンレスは清潔感があり、またカウンター形状への加工性等も優れることなどから広く用いられている。
特に、その金属光沢を持つ外観からステンレスは清潔感があり、またカウンター形状への加工性等も優れることなどから広く用いられている。
しかしながら、キッチンカウンターでは料理を行ったときなどに、食器をカウンター上で動かしたりして表面に傷が発生し、外観美を損ねるという問題があった。また、キッチンカウンターでは料理をした際などに、その表面には油や醤油等の調味料、水垢、石鹸かすなどの汚れが付着し、これら汚れを除去するために、スポンジやたわしで洗浄することで汚れは除去されるが、同時にキッチンカウンター表面にスポンジやたわしで擦ったことによる傷が発生し、結果として外観美を損なうという問題があった。
このような課題を解決するために、表面に撥水性被膜を形成した防汚性キッチンカウンター(例えば、特許文献1参照。)やシリコーンオイルを配合したゲルコート層を形成したキッチンカウンター(例えば、特許文献2参照。)などが開示されている。
しかしながら、特許文献1記載の撥水性被膜を形成した防汚性キッチンカウンターでは、撥水性被膜が汚れの付着に対してある程度の効果は発揮するものの、たわしなどで擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
また、特許文献2記載のシリコーンオイルを配合したゲルコート層を形成したキッチンカウンターであっても、ゲルコート層が汚れの付着に対してある程度の効果は発揮するものの、やはりたわしなどで擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、外力を印加した場合にも、意匠性が維持されるキッチンカウンターを提供することである。
上記課題を解決するために本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするキッチンカウンターを提供する。
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の表面には、前記ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されているようにする。
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚よりも大きいようにする。
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が0.3〜20μmとする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が0.3〜8μmとする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が0.3〜8μmとする。
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜20μmであるようにする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜8μmであるようにする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜8μmであるようにする。
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部が略透明であるようにする。
本発明では、キッチンカウンターへ、ふっ素樹脂粒子と(C)次の構造式で表される化合物[―(SiR1R2)―(NR3)―]n(式中、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、nは整数である)を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記キッチンカウンターの使用面側に、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とするキッチンカウンターの製造方法を提供する。
本発明では、キッチンカウンターへ、ふっ素樹脂粒子と(D)(D−1)下記一般式(1)で表される化合物、Ra Si(OR4 )4-a ・・・・・(1)(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R4は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)(D−2)下記一般式(2)で表される化合物およびSi(OR5 )4 ・・・・・(2)(式中、R5 は1価の有機基を示す。)(D−3)下記一般式(3)で表される化合物 R6b(R7O)3-bSi−(R10)d−Si(OR8)3-cR9c ・・・・・(3)〔式中、R6 〜R9 はそれぞれ1価の有機基、b〜cは0〜2の整数、R10 は酸素原子、フェニレン基または−(CH2)m−で表される基(ここで、mは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕の群から選ばれた少なくとも1種の化合物、またはその加水分解物を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記キッチンカウンターの使用面側に、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とするキッチンカウンターの製造方法を提供する。
本発明によれば、外力を印加した場合にも、意匠性が維持されるキッチンカウンターを提供することが可能となる。
以下に、本発明の最良の形態について説明する。
本発明の一形態は、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とする。そうすることで外力を印加した場合にも、意匠性が維持されるキッチンカウンターの提供を可能とした。
本発明の一形態は、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とする。そうすることで外力を印加した場合にも、意匠性が維持されるキッチンカウンターの提供を可能とした。
ここで、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種は、基材上にシロキサンネットワークを構築するものであり、一部シロキサンネットワークを形成しない未反応残基が存在していてもよい。
また、シリカには微量の金属、窒素、水素が含まれていてもよく、所謂水ガラス等も含む。
また、シリカには微量の金属、窒素、水素が含まれていてもよく、所謂水ガラス等も含む。
また、前記被覆部はシロキサンネットワーク中にふっ素樹脂粒子が分散した形態であってもよく、被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていてもよい。
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にもキッチンカウンター表面への追従性が向上し、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、よりキッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にもキッチンカウンター表面への追従性が向上し、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、よりキッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚より大きいようにすることが好ましい。
そうすることで、被覆部の表面に確実にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成される。
そうすることで、被覆部の表面に確実にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成される。
ふっ素樹脂粒子の含有量が1%未満であると、外力を印加した場合に、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、20%以上では、被覆部中のシロキサンネットワークが粗となるため、やはり外力を印加した場合に、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
ここで、被覆部中のふっ素樹脂粒子の含有量とは、被覆部の総重量に対するふっ素樹脂粒子の重量比であり、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の重量はSiO2換算重量である。
本発明では、前記被覆部の膜厚が0.3〜20μmであるようにするのが好ましい。
ここで、本発明において膜厚とは、シロキサンネットワークの膜厚であり、ふっ素樹脂粒子が一部露出している場合、露出部を含まない部分の厚みを意味し、走査型電子顕微鏡等による断面観察によって測定することができる。
0.3μmより膜厚が小さいと、外力を印加した場合に、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、20μm以上になると被覆部にクラックが入るなどするため、やはり外力を印加した場合に、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
ここで、本発明において膜厚とは、シロキサンネットワークの膜厚であり、ふっ素樹脂粒子が一部露出している場合、露出部を含まない部分の厚みを意味し、走査型電子顕微鏡等による断面観察によって測定することができる。
0.3μmより膜厚が小さいと、外力を印加した場合に、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、20μm以上になると被覆部にクラックが入るなどするため、やはり外力を印加した場合に、キッチンカウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
本発明では、前記被覆部の膜厚が0.3〜8μmであるようにするのがより好ましい。
膜厚が8μm以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
膜厚が8μm以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜20μmであるようにする。
平均粒径が0.1μmより小さいと、外力を印加にした場合に、基材の意匠性を維持する作用が低下し、20μmより大きくなると、基材の意匠性を損なうこととなる。
平均粒径が0.1μmより小さいと、外力を印加にした場合に、基材の意匠性を維持する作用が低下し、20μmより大きくなると、基材の意匠性を損なうこととなる。
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜8μmであるようにする。
平均粒径が8μm以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
平均粒径が8μm以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が0.3〜8μmかつ、ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.5〜20μmかつ、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が被覆部の膜厚よりも大きいようにする。
そうすることで、確実に被覆部にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成され、基材の意匠性が維持される作用が良好に発揮される被覆部が、外観良く形成される。
そうすることで、確実に被覆部にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成され、基材の意匠性が維持される作用が良好に発揮される被覆部が、外観良く形成される。
本発明のカウンターの好ましい製造方法としては、キッチンカウンターへ、ふっ素樹脂粒子と(C)次の構造式で表される化合物[―(SiR1R2)―(NR3)―]n(式中、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、nは整数である)を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記キッチンカウンターの使用面側に、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成する方法が挙げられる。
ここで、(C)次の構造式で表される化合物[―(SiR1R2)―(NR3)―]n(式中、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、nは整数である)は加熱によりシリカへの転化が生じ、基材上にシロキサンネットワークを形成する。
シリカ転化を生じさせるためには100℃以上で加熱することが望ましく、200℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
シリカ転化を生じさせるためには100℃以上で加熱することが望ましく、200℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
また、加熱温度が高くなると、キッチンカウンターの表面が酸化されて変色が発生するため、キッチンカウンターの意匠性を損ねることとなる。
例えば、キッチンカウンターがステンレス鋼板製の場合は、ステンレス鋼板の変色の問題から400℃以下であることが好ましい。
また、ふっ素樹脂粒子の耐熱性から350℃以下であることがより好ましい。
例えば、キッチンカウンターがステンレス鋼板製の場合は、ステンレス鋼板の変色の問題から400℃以下であることが好ましい。
また、ふっ素樹脂粒子の耐熱性から350℃以下であることがより好ましい。
本発明のカウンターの好ましい製造方法としては、キッチンカウンターへ、ふっ素樹脂粒子と(D)(D−1)下記一般式(1)で表される化合物、Ra Si(OR4 )4-a ・・・・・(1)(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R4は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)(D−2)下記一般式(2)で表される化合物およびSi(OR5 )4 ・・・・・(2)(式中、R5 は1価の有機基を示す。)(D−3)下記一般式(3)で表される化合物R6b(R7O)3-bSi−(R10)d−Si(OR8)3-cR9c ・・・・・(3)〔式中、R6 〜R9 はそれぞれ1価の有機基、b〜cは0〜2の整数、R10 は酸素原子、フェニレン基または−(CH2)m−で表される基(ここで、mは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕の群から選ばれた少なくとも1種の化合物、またはその加水分解物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、キッチンカウンターの使用面側に、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成する方法があげられる。
キッチンカウンターへ、本発明のふっ素樹脂粒子と(C)次の構造式で表される化合物[―(SiR1R2)―(NR3)―]n(式中、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、nは整数である)とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、被覆部を形成する方法によれば、Si−NのSi−Oへの転化によりシロキサンネットワークを形成するため収縮が小さく、より緻密な被覆部が形成されるため、より外力を印加にした場合に、キッチンカウンターの意匠性を維持する作用が良好に発揮される。
以下、本発明のキッチンカウンターと、キッチンカウンターの製造方法について具体的に説明する。
本発明において、キッチンカウンターとしてはステンレス鋼板、FRP、人工大理石などが用いられる。
特に、その金属光沢を持つ外観からステンレスは清潔感があり、広く用いられているが、ステンレス鋼板は外力を印加したときに傷が発生しやすく、傷によって金属光沢が損なわれるため特に傷が目立ちやすく、著しく意匠性を損なうため、本発明の外力を印加した場合に、意匠性を維持する効果がより顕著に発揮される。
本発明において、キッチンカウンターとしてはステンレス鋼板、FRP、人工大理石などが用いられる。
特に、その金属光沢を持つ外観からステンレスは清潔感があり、広く用いられているが、ステンレス鋼板は外力を印加したときに傷が発生しやすく、傷によって金属光沢が損なわれるため特に傷が目立ちやすく、著しく意匠性を損なうため、本発明の外力を印加した場合に、意匠性を維持する効果がより顕著に発揮される。
また本発明において、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種は、キッチンカウンター表面にシロキサンネットワークを形成し、ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成するものである。
本発明において、ふっ素樹脂粒子とは、ふっ素樹脂の粒状物を意味し、球形のものが好ましい。
次に、ふっ素樹脂粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル−フルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステル−フルオロオレフィンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、クロロトリフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、テトラフルオロエチレンウレタン架橋体、テトラフルオロエチレンエポキシ架橋体、テトラフルオロエチレンアクリル架橋体、テトラフルオロエチレンメラミン架橋体等フルオロ基を含有するポリマーが挙げられる。
本発明において、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなる被覆部とは、シロキサンネットワーク中に、ふっ素樹脂粒子が分散した形態であってもよく、被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていてもよい。
本発明において、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持されるとは、例えば固形物との接触による傷発生による意匠性の低下を抑制する作用を意味し、より具体的には、例えば、付着した汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦った場合に、傷が発生して意匠性が低下することを抑制する作用を意味する。
本発明において、略透明とは、キッチンカウンターの質感が損なわれない程度の透明性を有し、外観上、基材の意匠性を確認できる程度の透明性を意味する。
本発明において、(C)次の構造式で表される化合物[―(SiR1R2)―(NR3)―]n(式中、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、nは整数である)において、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル等が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブレニル、ペンテニル、ヘキセニル、ブチニル、オクテニル、デセニル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。
本発明において、(D)(D−1)下記一般式(1)で表される化合物、Ra Si(OR4 )4-a ・・・・・(1)(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R4は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)(D−2)下記一般式(2)で表される化合物およびSi(OR5 )4 ・・・・・(2)(式中、R5 は1価の有機基を示す。)(D−3)下記一般式(3)で表される化合物R6b(R7O)3-bSi−(R10)d−Si(OR8)3-cR9c ・・・・・(3)〔式中、R6 〜R9 はそれぞれ1価の有機基、b〜cは0〜2の整数、R10 は酸素原子、フェニレン基または−(CH2)m−で表される基(ここで、mは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕の群から選ばれた少なくとも1種の化合物、またはその加水分解物を含んでなる塗布液において、一般式(1)で表される化合物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリ−iso−プロポキシシラン、トリ−n−ブトキシシラン、トリ−sec−ブトキシシラン、トリ−tert−ブトキシシラン、トリフェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−n−プロポキシシラン、フルオロトリ−iso−プロポキシシラン、フルオロトリ−n−ブトキシシラン、フルオロトリ−sec−ブトキシシラン、フルオロトリ−tert−ブトキシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリ−iso−プロポキシシラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ−sec−ブトキシシラン、メチルトリ−tert−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−n−プロポキシシラン、エチルトリ−iso−プロポキシシラン、エチルトリ−n−ブトキシシラン、エチルトリ−sec−ブトキシシラン、エチルトリ−tert−ブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−n−プロポキシシラン、ビニルトリ−iso−プロポキシシラン、ビニルトリ−n−ブトキシシラン、ビニルトリ−sec−ブトキシシラン、ビニルトリ−tert−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリ−n−プロポキシシラン、n−プロピルトリ−iso−プロポキシシラン、n−プロピルトリ−n−ブトキシシラン、n−プロピルトリ−sec−ブトキシシラン、n−プロピルトリ−tert−ブトキシシラン、n−プロピルトリフェノキシシラン、i−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、i−プロピルトリ−n−プロポキシシラン、i−プロピルトリ−iso−プロポキシシラン、i−プロピルトリ−n−ブトキシシラン、i−プロピルトリ−sec−ブトキシシラン、i−プロピルトリ−tert−ブトキシシラン、i−プロピルトリフェノキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ブチルトリ−n−プロポキシシラン、n−ブチルトリ−iso−プロポキシシラン、n−ブチルトリ−n−ブトキシシラン、n−ブチルトリ−sec−ブトキシシラン、n−ブチルトリ−tert−ブトキシシラン、n−ブチルトリフェノキシシラン、sec−ブチルトリメトキシシラン、sec−ブチルトリエトキシシラン、sec−ブチル−トリ−n−プロポキシシラン、sec−ブチル−トリ−iso−プロポキシシラン、sec−ブチル−トリ−n−ブトキシシラン、sec−ブチル−トリ−sec−ブトキシシラン、sec−ブチル−トリ−tert−ブトキシシラン、sec−ブチル−トリフェノキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、t−ブチルトリエトキシシラン、t−ブチルトリ−n−プロポキシシラン、t−ブチルトリ−iso−プロポキシシラン、t−ブチルトリ−n−ブトキシシラン、t−ブチルトリ−sec−ブトキシシラン、t−ブチルトリ−tert−ブトキシシラン、t−ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−n−プロポキシシラン、フェニルトリ−iso−プロポキシシラン、フェニルトリ−n−ブトキシシラン、フェニルトリ−sec−ブトキシシラン、フェニルトリ−tert−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル−ジ−n−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−n−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−n−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−n−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ−n−プロピルジエトキシシラン、ジ−n−プロピル−ジ−n−プロポキシシラン、ジ−n−プロピル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジ−n−プロピル−ジ−n−ブトキシシラン、ジ−n−プロピル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジ−n−プロピル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジ−n−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−iso−プロピルジメトキシシラン、ジ−iso−プロピルジエトキシシラン、ジ−iso−プロピル−ジ−n−プロポキシシラン、ジ−iso−プロピル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジ−iso−プロピル−ジ−n−ブトキシシラン、ジ−iso−プロピル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジ−iso−プロピル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジ−iso−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブチルジエトキシシラン、ジ−n−ブチル−ジ−n−プロポキシシラン、ジ−n−ブチル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジ−n−ブチル−ジ−n−ブトキシシラン、ジ−n−ブチル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジ−n−ブチル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジ−n−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−sec−ブチルジメトキシシラン、ジ−sec−ブチルジエトキシシラン、ジ−sec−ブチル−ジ−n−プロポキシシラン、ジ−sec−ブチル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジ−sec−ブチル−ジ−n−ブトキシシラン、ジ−sec−ブチル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジ−sec−ブチル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジ−sec−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−tert−ブチルジメトキシシラン、ジ−tert−ブチルジエトキシシラン、ジ−tert−ブチル−ジ−n−プロポキシシラン、ジ−tert−ブチル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジ−tert−ブチル−ジ−n−ブトキシシラン、ジ−tert−ブチル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジ−tert−ブチル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジ−tert−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキシシラン、ジフェニル−ジ−n−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−iso−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−n−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−sec−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−tert−ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
本発明において、一般式(2)で表される化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどが挙げられる。
本発明において、一般式(3)で表される化合物の具体例としては、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサフェノキシジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタメトキシ−3−メチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタエトキシ−3−メチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタフェノキシ−3−メチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタメトキシ−3−エチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタエトキシ−3−エチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタフェノキシ−3−エチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタメトキシ−3−フェニルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタエトキシ−3−フェニルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタフェノキシ−3−フェニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラメトキシ−1,3−ジメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラエトキシ−1,3−ジメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラフェノキシ−1,3−ジメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラメトキシ−1,3−ジエチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラエトキシ−1,3−ジエチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラフェノキシ−1,3−ジエチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラメトキシ−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラエトキシ−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラフェノキシ−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,1,3−トリメトキシ−1,3,3−トリメチルジシロキサン、1,1,3−トリエトキシ−1,3,3−トリメチルジシロキサン、1,1,3−トリフェノキシ−1,3,3−トリメチルジシロキサン、1,1,3−トリメトキシ−1,3,3−トリエチルジシロキサン、、1,1,3−トリエトキシ−1,3,3−トリエチルジシロキサン、、1,1,3−トリフェノキシ−1,3,3−トリエチルジシロキサン、、1,1,3−トリメトキシ−1,3,3−トリフェニルジシロキサン、1,1,3−トリエトキシ−1,3,3−トリフェニルジシロキサン、1,1,3−トリフェノキシ−1,3,3−トリフェニルジシロキサン、1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジフェノキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラエチルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラエチルジシロキサン、1,3−ジフェノキシ−1,1,3,3−テトラエチルジシロキサン、1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ジフェノキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、1,1,1,2,2−ペンタメトキシ−2−メチルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタエトキシ−2−メチルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタフェノキシ−2−メチルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタメトキシ−2−エチルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタエトキシ−2−エチルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタフェノキシ−2−エチルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタメトキシ−2−フェニルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタエトキシ−2−フェニルジシラン、1,1,1,2,2−ペンタフェノキシ−2−フェニルジシラン、1,1,2,2−テトラメトキシ−1,2−ジメチルジシラン、1,1,2,2−テトラエトキシ−1,2−ジメチルジシラン、1,1,2,2−テトラフェノキシ−1,2−ジメチルジシラン、1,1,2,2−テトラメトキシ−1,2−ジエチルジシラン、1,1,2,2−テトラエトキシ−1,2−ジエチルジシラン、1,1,2,2−テトラフェノキシ−1,2−ジエチルジシラン、1,1,2,2−テトラメトキシ−1,2−ジフェニルジシラン、1,1,2,2−テトラエトキシ−1,2−ジフェニルジシラン、1,1,2,2−テトラフェノキシ−1,2−ジフェニルジシラン、1,1,2−トリメトキシ−1,2,2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリエトキシ−1,2,2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリフェノキシ−1,2,2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリメトキシ−1,2,2−トリエチルジシラン、、1,1,2−トリエトキシ−1,2,2−トリエチルジシラン、、1,1,2−トリフェノキシ−1,2,2−トリエチルジシラン、、1,1,2−トリメトキシ−1,2,2−トリフェニルジシラン、1,1,2−トリエトキシ−1,2,2−トリフェニルジシラン、、1,1,2−トリフェノキシ−1,2,2−トリフェニルジシラン、1,2−ジメトキシ−1,1,2,2−テトラメチルジシラン、1,2−ジエトキシ−1,1,2,2−テトラメチルジシラン、1,2−ジフェノキシ−1,1,2,2−テトラメチルジシラン、1,2−ジメトキシ−1,1,2,2−テトラエチルジシラン、1,2−ジエトキシ−1,1,2,2−テトラエチルジシラン、1,2−ジフェノキシ−1,1,2,2−テトラエチルジシラン、1,2−ジメトキシ−1,1,2,2−テトラフェニルジシラン、1,2−ジエトキシ−1,1,2,2−テトラフェニルジシラン、1,2−ジフェノキシ−1,1,2,2−テトラフェニルジシラン、ビス(トリメトキシシリル)メタン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、ビス(トリ−n−プロポキシシリル)メタン、ビス(トリ−i−プロポキシシリル)メタン、ビス(トリ−n−ブトキシシリル)メタン、ビス(トリ−sec−ブトキシシリル)メタン、ビス(トリ−t−ブトキシシリル)メタン、1,2−ビス(トリメトキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリ−n−プロポキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリ−i−プロポキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリ−n−ブトキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリ−sec−ブトキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリ−t−ブトキシシリル)エタン、1−(ジメトキシメチルシリル)−1−(トリメトキシシリル)メタン、1−(ジエトキシメチルシリル)−1−(トリエトキシシリル)メタン、1−(ジ−n−プロポキシメチルシリル)−1−(トリ−n−プロポキシシリル)メタン、1−(ジ−i−プロポキシメチルシリル)−1−(トリ−i−プロポキシシリル)メタン、1−(ジ−n−ブトキシメチルシリル)−1−(トリ−n−ブトキシシリル)メタン、1−(ジ−sec−ブトキシメチルシリル)−1−(トリ−sec−ブトキシシリル)メタン、1−(ジ−t−ブトキシメチルシリル)−1−(トリ−t−ブトキシシリル)メタン、1−(ジメトキシメチルシリル)−2−(トリメトキシシリル)エタン、1−(ジエトキシメチルシリル)−2−(トリエトキシシリル)エタン、1−(ジ−n−プロポキシメチルシリル)−2−(トリ−n−プロポキシシリル)エタン、1−(ジ−i−プロポキシメチルシリル)−2−(トリ−i−プロポキシシリル)エタン、1−(ジ−n−ブトキシメチルシリル)−2−(トリ−n−ブトキシシリル)エタン、1−(ジ−sec−ブトキシメチルシリル)−2−(トリ−sec−ブトキシシリル)エタン、1−(ジ−t−ブトキシメチルシリル)−2−(トリ−t−ブトキシシリル)エタン、ビス(ジメトキシメチルシリル)メタン、ビス(ジエトキシメチルシリル)メタン、ビス(ジ−n−プロポキシメチルシリル)メタン、ビス(ジ−i−プロポキシメチルシリル)メタン、ビス(ジ−n−ブトキシメチルシリル)メタン、ビス(ジ−sec−ブトキシメチルシリル)メタン、ビス(ジ−t−ブトキシメチルシリル)メタン、1,2−ビス(ジメトキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジエトキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ−n−プロポキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ−i−プロポキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ−n−ブトキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ−sec−ブトキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ−t−ブトキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(トリメトキシシリル)ベンゼン、1,2−ビス(トリエトキシシリル)ベンゼン、1,2−ビス(トリ−n−プロポキシシリル)ベンゼン、1,2−ビス(トリ−i−プロポキシシリル)ベンゼン、1,2−ビス(トリ−n−ブトキシシリル)ベンゼン、1,2−ビス(トリ−sec−ブトキシシリル)ベンゼン、1,2−ビス(トリ-t- ブトキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリメトキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリエトキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリ−n−プロポキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリ−i−プロポキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリ−n−ブトキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリ−sec−ブトキシシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリ−t−ブトキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリエトキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリ−n−プロポキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリ−i−プロポキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリ−n−ブトキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリ−sec−ブトキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリ−t−ブトキシシリル)ベンゼンなどを挙げることができる。
本発明において、コーティング液の塗布方法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ロールコート法ならびにこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、コーティング液の濃度や粘度を変えることにより制御することができる。
以下に実施例をあげて、本発明をより具体的に説明する。
図1、図2、図3は、本発明の様々なパターンのカウンターの断面図である。
カウンター1上に被覆部2が設けられており、該被覆部2は、シロキサンネットワーク3とふっ素樹脂粒子4からなり、該被覆部2は外力を印加した場合にも、基材の意匠性を維持する作用を発揮する。
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にもカウンター表面への追従性が向上し、カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にもカウンター表面への追従性が向上し、カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
このようなカウンターは、例えば、食器等の摺動等による外力の印加があった場合でも意匠性を維持することができる。
被覆部2に含有されるふっ素樹脂粒子4は、図1のようにシロキサンネットワーク3中に分散した状態であっても良いし、図2のようにふっ素樹脂粒子4の一部が露出していても良く、図3のようにふっ素樹脂粒子4より形成される凸部をシロキサンネットワーク3が覆った状態であっても良い。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、よりキッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、よりキッチンカウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
次いで、カウンターの好ましい製造方法について、実験結果をもとに説明する。
本発明のカウンターの被覆部の観察には、日立製作所(株)製の走査型電子顕微鏡S4100を用いた。
被覆部の膜厚は、断面観察により調べられる。また、被覆部の膜厚とは、シロキサンネットワーク3の厚み(図中Δtで示す)であり、ふっ素樹脂粒子による凸部の厚みは含まない。
被覆部の膜厚は、断面観察により調べられる。また、被覆部の膜厚とは、シロキサンネットワーク3の厚み(図中Δtで示す)であり、ふっ素樹脂粒子による凸部の厚みは含まない。
本発明のふっ素樹脂粒子の粒径は、(株)島津製作所製のレーザー回折式粒度分布計SALD7000を用いて測定し、平均粒径とは体積分布の50%中心粒径を意味する。
(実施例1)
基材として、カウンターで用いられているSUS304ステンレス板を用いた。基材の前処理として、ヘキサンで良く洗浄した後、さらにアセトンにて基材表面を洗浄した。
表1の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
基材として、カウンターで用いられているSUS304ステンレス板を用いた。基材の前処理として、ヘキサンで良く洗浄した後、さらにアセトンにて基材表面を洗浄した。
表1の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
(実施例2)
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表2の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は10μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表2の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は10μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
(実施例3)
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表3の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は15.0重量%であった。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表3の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は15.0重量%であった。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
(実施例4)
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表4の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は0.3μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表4の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は0.3μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
(実施例5)
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表5の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、150℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表5の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、150℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は5.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
(実施例6)
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表6の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は22μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は10.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
基材は、実施例1同様のものを用いた。
表6の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は22μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は10.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
(比較例1)
SUS304ステンレス板を比較例として用いた。
SUS304ステンレス板を比較例として用いた。
(比較例2)
実施例1のコーティング液から、ふっ素樹脂粒子を除いた以外は、実施例1と同様にして、被覆部を被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
実施例1のコーティング液から、ふっ素樹脂粒子を除いた以外は、実施例1と同様にして、被覆部を被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
(比較例3)
基材は実施例1同様のものを用いた。
表7の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は0.3μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は0.1重量%であった。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
基材は実施例1同様のものを用いた。
表7の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、250℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は0.3μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシラザン液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は0.1重量%であった。
被覆部の膜厚は0.5μmであった。
(比較例4)
基材は実施例1同様のものを用いた。
表8の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、150℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は25.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
基材は実施例1同様のものを用いた。
表8の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、150℃で60分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は5μmであった。
コーティング液中の不揮発分中(ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はSiO2換算濃度)のふっ素樹脂粒子の含有量は25.0重量%であった。
被覆部の膜厚は2.0μmであった。
(評価方法)
(1)外観
目視にて外観を評価した。
判定基準 ○:基材の意匠性を完全に維持している △:基材の意匠性がやや低下しているが、基材の意匠は確認できる ×:基材の意匠性を著しく損なっており、基材の意匠が確認できない
(2)外力を印加したときの基材の意匠性の維持性の評価
外観、延性評価結果が良好なものについてのみ評価を行った。
陶器質タイルを20×20mmに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は100gと500gの場合それぞれについて評価し、摺動回数は100回とした。荷重100gではマグカップ程度の重量物との接触を想定し、荷重500gでは土鍋程度の重量物との接触を想定して設定した。
土鍋程度の重量物との接触を想定した場合にも、意匠性が維持されている場合のみ、さらに摺動回数を400回と増やした場合においても評価を行った。
判定基準 ◎:傷の発生なく、意匠性変化なし ○:微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △:傷発生し、意匠性がやや低下 ×:顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
(3)暴露評価
実施例1〜6と比較例1についてのみ評価を行った。
4人家族のキッチンのカウンターに3ヶ月間暴露した後、研磨剤入りスポンジで通常の洗浄を行った後の外観を目視にて評価した。
判定基準 ○:ほとんど暴露前と同様の意匠性が維持されていた △:汚れがわずかに残ったり、洗浄による傷がわずかに入ったりしてやや意匠性が損なわれた ×:汚れが除去されない、または洗浄により顕著に傷が入ったりして著しく意匠性が損なわれている
(1)外観
目視にて外観を評価した。
判定基準 ○:基材の意匠性を完全に維持している △:基材の意匠性がやや低下しているが、基材の意匠は確認できる ×:基材の意匠性を著しく損なっており、基材の意匠が確認できない
(2)外力を印加したときの基材の意匠性の維持性の評価
外観、延性評価結果が良好なものについてのみ評価を行った。
陶器質タイルを20×20mmに切り出したものを摺動子として用いた。荷重をさらに加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は100gと500gの場合それぞれについて評価し、摺動回数は100回とした。荷重100gではマグカップ程度の重量物との接触を想定し、荷重500gでは土鍋程度の重量物との接触を想定して設定した。
土鍋程度の重量物との接触を想定した場合にも、意匠性が維持されている場合のみ、さらに摺動回数を400回と増やした場合においても評価を行った。
判定基準 ◎:傷の発生なく、意匠性変化なし ○:微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △:傷発生し、意匠性がやや低下 ×:顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
(3)暴露評価
実施例1〜6と比較例1についてのみ評価を行った。
4人家族のキッチンのカウンターに3ヶ月間暴露した後、研磨剤入りスポンジで通常の洗浄を行った後の外観を目視にて評価した。
判定基準 ○:ほとんど暴露前と同様の意匠性が維持されていた △:汚れがわずかに残ったり、洗浄による傷がわずかに入ったりしてやや意匠性が損なわれた ×:汚れが除去されない、または洗浄により顕著に傷が入ったりして著しく意匠性が損なわれている
(評価結果)
評価結果を表9に示す。
評価結果を表9に示す。
本発明の実施例1〜5は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。実施例6では実施例1〜5に比べるとやや透明性が劣るものの、基材の意匠性は確認できた。
本発明の実施例1〜6では土鍋程度の重量物との接触を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されている。
実施例2、4のカウンターは、さらに摺動回数を増やした場合においても良好に意匠性が維持されており、特に実施例2においては、摺動回数を増やした場合にも、基材の意匠性が完全に維持されていた。
本発明の実施例1〜6では土鍋程度の重量物との接触を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されている。
実施例2、4のカウンターは、さらに摺動回数を増やした場合においても良好に意匠性が維持されており、特に実施例2においては、摺動回数を増やした場合にも、基材の意匠性が完全に維持されていた。
表9から明らかなように、比較例1のSUS304ステンレス板は、100g100回程度の外力の印加であっても顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子を含有しない被覆部を形成した比較例2では、比較例1に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、100g100回程度の外力の印加でも意匠性の低下が見られ、500gの荷重を与えたときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
比較例3、4であっても、比較例1に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、100g100回程度の外力の印加でも意匠性の低下が見られ、500gの荷重を与えたときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子を含有しない被覆部を形成した比較例2では、比較例1に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、100g100回程度の外力の印加でも意匠性の低下が見られ、500gの荷重を与えたときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
比較例3、4であっても、比較例1に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、100g100回程度の外力の印加でも意匠性の低下が見られ、500gの荷重を与えたときは顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
また、暴露評価の結果、いずれにも白色の所謂水垢と思われる汚れが付着していた。本発明の実施例1〜6は比較例1と比べて汚れの付着が軽微であった。その後、洗浄を行うことで、容易にすべての汚れが完全に除去され、また洗浄による傷の発生もなく、暴露前と同様の意匠性が維持されていた。
比較例1では、洗浄を行っても、汚れが除去されず、汚れが除去される前に基材に傷が発生し、除去されなかった汚れと傷によって、著しく外観を損なう結果となった。
比較例1では、洗浄を行っても、汚れが除去されず、汚れが除去される前に基材に傷が発生し、除去されなかった汚れと傷によって、著しく外観を損なう結果となった。
図4は、本発明のカウンターを備えたキッチンの概略図である。
図5は図4のキッチンのカウンター部の拡大図であり、カウンターの使用面側の一部(網掛け表示部)に被覆部2が形成されている。
本実施例では、図5のように、カウンターの使用面側の一部に被覆部2が形成されている。
続いて、本実施例の使い勝手について説明する。
使用者は、本実施例のカウンター1に食器を置き、調理を行う。まな板で切った野菜を食器に入れたりする。そのときに、カウンター1に食器を擦りつけてしまった場合などに、傷が発生することがあるが、本実施例では、カウンター1には被覆部2にが形成されているため、傷が発生することがなく、意匠性が維持される。
ここで、本発明においてカウンターの使用面側とは、キッチンカウンターとしてまな板をのせたり、食器を置いたりして使用する面側のことであり、図示しない、例えばキャビネット内に隠れている裏側は使用面側ではない。
使用者は、本実施例のカウンター1に食器を置き、調理を行う。まな板で切った野菜を食器に入れたりする。そのときに、カウンター1に食器を擦りつけてしまった場合などに、傷が発生することがあるが、本実施例では、カウンター1には被覆部2にが形成されているため、傷が発生することがなく、意匠性が維持される。
ここで、本発明においてカウンターの使用面側とは、キッチンカウンターとしてまな板をのせたり、食器を置いたりして使用する面側のことであり、図示しない、例えばキャビネット内に隠れている裏側は使用面側ではない。
また、別の実施例として、カウンター1の使用面側が、図6のように全面に被覆部が形成されているものがある。この場合、被覆部の端部の非被覆部との段差が形成されることがなく、光の反射により被覆部の端部が目立つようなことがなくより好ましい。
本発明のカウンターは、キッチンのカウンターに利用することができる。
1 :カウンター
2 :被覆部
3 :シロキサンネットワーク
4 :ふっ素樹脂粒子
5 :シンク
6 :水栓
2 :被覆部
3 :シロキサンネットワーク
4 :ふっ素樹脂粒子
5 :シンク
6 :水栓
Claims (10)
- 少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするキッチンカウンター。
- 前記被覆部の表面には、前記ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のキッチンカウンター。
- 前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項2に記載のキッチンカウンター。
- 前記被覆部の膜厚が0.3〜20μmであることを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項に記載のキッチンカウンター。
- 前記被覆部の膜厚が0.3〜8μmであることを特徴とする請求項4に記載のキッチンカウンター。
- 前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜20μmであることを特徴とする請求項1乃至5いずれか1項に記載のキッチンカウンター。
- 前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が0.1〜8μmであることを特徴とする請求項6に記載のキッチンカウンター。
- 前記被覆部が略透明であることを特徴とする請求項1乃至7いずれか1項に記載のキッチンカウンター。
- キッチンカウンターへ、ふっ素樹脂粒子と(C)次の構造式で表される化合物[―(SiR1R2)―(NR3)―]n(式中、R1 、R2 、R3 は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、nは整数である)を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記キッチンカウンターの使用面側に、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とするキッチンカウンターの製造方法。
- キッチンカウンターへ、ふっ素樹脂粒子と(D)(D−1)下記一般式(1)で表される化合物、Ra Si(OR4 )4-a ・・・・・(1)(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R4は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)(D−2)下記一般式(2)で表される化合物およびSi(OR5 )4 ・・・・・(2)(式中、R5 は1価の有機基を示す。)(D−3)下記一般式(3)で表される化合物 R6b(R7O)3-bSi−(R10)d−Si(OR8)3-cR9c ・・・・・(3)〔式中、R6 〜R9 はそれぞれ1価の有機基、b〜cは0〜2の整数、R10 は酸素原子、フェニレン基または−(CH2)m−で表される基(ここで、mは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕の群から選ばれた少なくとも1種の化合物、またはその加水分解物を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記キッチンカウンターの使用面側に、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とするキッチンカウンターの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005174369A JP2006346047A (ja) | 2005-06-14 | 2005-06-14 | キッチンカウンターおよびキッチンカウンターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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2005
- 2005-06-14 JP JP2005174369A patent/JP2006346047A/ja active Pending
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