JP2006344708A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン基板からなる素子領域10の周りには、素子分離領域20a〜20dからなる素子分離領域20が形成されている。また、素子領域10および素子分離領域20の上には、ゲート電極34およびその両側壁に隣接して形成されたスペーサ36を含むゲート構造30が形成されている。トランジスタは、A−A’断面およびC−C’断面においては窪みを有するがB−B’断面においては窪んでいないものとする。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係るトランジスタの構造を示す上面図である。
以下、図8〜15を用いて、実施の形態1に係るトランジスタの製造方法について説明する。
実施の形態2に係る半導体装置の製造方法においては、ゲート電極34およびその両側壁に形成されたスペーサをエッチングマスクとして用いてエッチングを行うことにより、絶縁膜24の端部を窪ませる。しかし、上述したように、スペーサとして、スペーサに対する絶縁膜24の材料のエッチング選択比が小さい膜から構成されるスペーサ38bを有する二重構造のスペーサ38を用いた場合には、スペーサ38bが大きくエッチングされることによりゲート電極34下方付近においてゲート酸化膜32や絶縁膜24が大きくエッチングされることを防ぐために、エッチング量を適量に調節する必要があるという問題点がある。また、シリサイドに対する選択比が十分大きいエッチング液を用いないとシリサイド部へのダメージの懸念もある。
Claims (10)
- 半導体基板に形成されたトレンチと、
前記トレンチに埋め込まれた絶縁膜により形成された素子分離領域と、
前記素子分離領域によって規定される素子領域と、
前記素子領域上を横切り、前記素子分離領域上に延在するゲート構造とを備え、
前記素子領域・前記素子分離領域の境界部における前記素子分離領域の端縁部は、
前記ゲート構造で覆われない領域において窪みを有し、
前記ゲート構造で覆われる領域において窪みを有さない、
半導体装置。 - 半導体基板に形成されたトレンチと、
前記トレンチに埋め込まれた絶縁膜により形成された素子分離領域と、
前記素子分離領域によって規定される素子領域と、
前記素子領域上を横切り、前記素子分離領域上に延在するゲート構造とを備え、
前記素子領域・前記素子分離領域の境界部における前記素子分離領域の端縁部は、窪みを有し、
前記ゲート構造で覆われない領域における窪みは、
前記ゲート構造で覆われる領域における窪みより深い、
半導体装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の半導体装置であって、
前記ゲート構造で覆われない領域においては、
前記ゲート構造からの距離が所定距離より大きい領域における窪みは、
前記ゲート構造からの距離が前記所定距離より小さい領域における窪みより深い
半導体装置。 - 略矩形状の素子領域と、
前記素子領域の各辺に隣接する第一乃至第四領域を有し、トレンチに埋め込まれた絶縁膜により形成され、前記素子領域同士を分離するための素子分離領域と、
前記素子領域と前記第一および第二領域との上に部分的に形成されたゲート構造と
を備え、
前記第一領域と前記第二領域とは互いに略平行に且つ前記ゲート構造とは略垂直に形成され、
前記第三領域と前記第四領域とは互いに略平行に且つ前記ゲート構造とは略平行に形成され、
前記第三領域および前記第四領域においては前記トレンチの開口部周辺の前記絶縁膜に窪みが形成され、
前記第一領域および前記第二領域のうちその上に前記ゲート構造が形成される領域においては前記トレンチの開口部周辺の前記絶縁膜に窪みは形成されない
半導体装置。 - 略矩形状の素子領域と、
前記素子領域の各辺に隣接する第一乃至第四領域を有し、トレンチに埋め込まれた絶縁膜により形成され、前記素子領域同士を分離するための素子分離領域と、
前記素子領域と前記第一および第二領域との上に部分的に形成されたゲート構造と
を備え、
前記第一領域と前記第二領域とは互いに略平行に且つ前記ゲート構造とは略垂直に形成され、
前記第三領域と前記第四領域とは互いに略平行に且つ前記ゲート構造とは略平行に形成され、
前記第三領域および前記第四領域においては前記トレンチの開口部周辺の前記絶縁膜に窪みが形成され、
前記第一領域および前記第二領域のうちその上に前記ゲート構造が形成される領域においては前記トレンチの開口部周辺の前記絶縁膜に前記窪みに比べて小さい窪みが形成される
半導体装置。 - 請求項4又は請求項5に記載の半導体装置であって、
前記第一領域および前記第二領域のうちその上に前記ゲート構造が形成されない領域には、窪みが形成される
半導体装置。 - 半導体基板の表面に選択的に分離絶縁膜を形成し、素子領域を規定する工程と、
前記素子領域上を横切り、前記分離絶縁膜上に延在するようにゲート構造を形成するゲート構造形成工程と、
前記ゲート構造をマスクとして前記分離絶縁膜をエッチングすることにより前記窪みを形成するエッチング工程と
を備える半導体装置の製造方法。 - 請求項7に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ゲート構造形成工程は、
ゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極の両側壁にスペーサを形成する工程と
を備える半導体装置の製造方法。 - 請求項8に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ゲート構造形成工程の後かつ前記エッチング工程の前に前記素子領域および前記ゲート構造上にシリサイドを形成する工程
をさらに備え、
前記エッチング工程においては、前記シリサイドおよび前記スペーサの材料に対する前記分離絶縁膜の選択比が大きいエッチング液を用いたウェットエッチングが行われる
半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の表面に選択的に分離絶縁膜を形成し、素子領域を規定する工程と、
前記素子領域上を横切り、前記分離絶縁膜上に延在するようにゲート構造が形成されるべき所定の領域にレジストを形成する工程と、
前記レジストをマスクとして前記分離絶縁膜をエッチングすることにより前記窪みを形成する工程と、
前記レジストを除去し前記所定の領域にゲート構造を形成する工程と
を備える半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005167795A JP2006344708A (ja) | 2005-06-08 | 2005-06-08 | 半導体装置およびその製造方法 |
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JP2005167795A JP2006344708A (ja) | 2005-06-08 | 2005-06-08 | 半導体装置およびその製造方法 |
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JP2006344708A true JP2006344708A (ja) | 2006-12-21 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006344708A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009021464A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-29 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11177084A (ja) * | 1997-12-05 | 1999-07-02 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2000150870A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-30 | Sony Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004228557A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-08-12 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-06-08 JP JP2005167795A patent/JP2006344708A/ja active Pending
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