JP2006344689A - 半導体素子 - Google Patents
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Abstract
超格子層を構成する互いにバンドギャップが異なる半導体薄膜は互いに結晶構造が異なることが多く、キャリアは結晶構造の異なる前記半導体薄膜間において生じた分極の電場によるクーロン斥力を受ける。従って、前記半導体薄膜の積層数を増加し、前記超格子層の膜厚を厚くすれば、キャリアが通過する半導体薄膜数が増加するため、キャリアは積層方向への移動が困難になるという課題を有している。
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、不純物濃度を高めることなく、不純物の活性化を促してキャリア密度を高め、もって信頼性が高く電気抵抗の低い半導体素子を提供することを目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体素子は、積層方向にバンドギャップが連続的に単調変化する複数のバンドギャップ変化薄膜から構成される半導体層を備えることとした。
【選択図】図7
Description
本実施形態は、積層方向にバンドギャップが連続的に単調変化するバンドギャップ変化薄膜を複数連続して積層する半導体層を備える半導体素子であって、前記半導体層は、隣接する少なくとも二つの前記バンドギャップ変化薄膜のバンドギャップの単調変化する方向が同一であることを特徴とする半導体素子である。
本発明に係る他の実施の形態である半導体素子103の断面の概念図を図3に示す。半導体素子103は、基板12、第二半導体層33を順に備える。図3において図1で用いた符号と同じ符号は同じ層又は薄膜であり同じ機能を有する。半導体素子103の半導体素子101との違いは、第一半導体層13を備えず、第二半導体層33を備えたことである。第二半導体層33は積層方向にバンドギャップ変化薄膜48を複数積層して構成される。バンドギャップ変化薄膜48の枝番号を付さない説明はバンドギャップ変化薄膜48に全てに共通する説明である。
本実施形態は、積層方向にバンドギャップが連続的に単調変化するバンドギャップ変化薄膜を複数連続して積層する半導体層を備える半導体素子であって、前記半導体層は、隣接する少なくとも二つの前記バンドギャップ変化薄膜のバンドギャップの単調変化する方向が互いに逆であることを特徴とする半導体素子である。
本実施形態は、外部から電子を供給する陰電極と、外部から正孔を供給する陽電極と、前記陰電極からの前記電子と前記陽電極からの前記正孔との再結合により光を発生する活性層と、をさらに備え、前記陽電極から前記活性層への正孔の移動経路において、前記バンドギャップ変化薄膜の積層方向と前記活性層の積層方向とが平行となるように前記活性層と前記陽電極との間に前記半導体層を配置又は/及び前記陰電極から前記活性層への電子の移動経路において、前記バンドギャップ変化薄膜の積層方向と前記活性層の積層方向とが平行となるように前記活性層と前記陰電極との間に前記半導体層を配置することを特徴とする半導体素子である。
本発明に係る他の実施の形態である半導体素子109の断面の概念図を図9に示す。半導体素子109は電極71、n型下地層72、n型第五半導体層173、n側第六半導体層74、活性層75、p側第七半導体層76、p型第八半導体層77、p型コンタクト層78及びストライプ形状電極79を備える。半導体素子109は半導体素子107と同様に基板12に対し、電極71とストライプ形状電極79が同一の側に配置された半導体発光素子である。半導体素子109と半導体素子107との違いは、半導体素子109は半導体素子107のp型第八半導体層177の代替としてp型第八半導体層77を備え、半導体素子107のn型第五半導体層73の代替としてn型第五半導体層173を備えたことである。なお、図9において図1及び図7で用いた符号と同じ符号は同じ層又は薄膜であり同じ機能及び構成を有する。
本発明に係る他の実施の形態である半導体素子111の断面の概念図を図11に示す。半導体素子111は電極71、n型下地層72、n型第五半導体層173、n側第六半導体層74、活性層75、p側第七半導体層76、p型第八半導体層177、p型コンタクト層78及びストライプ形状電極79を備える。半導体素子111は半導体素子107と同様に基板12に対し、電極71とストライプ形状電極79が同一の側に配置された半導体発光素子である。半導体素子111と半導体素子107との違いは、半導体素子111は半導体素子107のn型第五半導体層73の代替としてn型第五半導体層173を備えたことである。なお、図11において図1、図3、図7及び図9で用いた符号と同じ符号は同じ層又は薄膜であり同じ機能及び構成を有する。
12 基板
12a バンドダイヤグラムにおける基板12の領域
13 第一半導体層
13a バンドダイヤグラムにおける第一半導体層13の領域
21 価電子帯のトップ準位
22 伝導帯の底部準位
28−1、28−2、28−3、28−4、28−5、28−6 バンドギャップ変化薄膜
28a−1、28a−2、28a−3、28a−4、28a−5、28a−6 バンドダイヤグラムにおけるバンドギャップ変化薄膜28−1、28−2、28−3、28−4、28−5、28−6の領域
33 第二半導体層
33a バンドダイヤグラムにおける第二半導体層33の領域
48−1、48−2、48−3、48−4、48−5、48−6 バンドギャップ変化薄膜
48a−1、48a−2、48a−3、48a−4、48a−5、48a−6 バンドダイヤグラムにおけるバンドギャップ変化薄膜48−1、48−2、48−3、48−4、48−5、48−6の領域
53 第三半導体層
53a バンドダイヤグラムにおける第三半導体層53の領域
71 電極
71a バンドダイヤグラムにおける電極71の領域
72 n型下地層
72a バンドダイヤグラムにおけるn型下地層72の領域
73、173 n型第五半導体層
73a、173a バンドダイヤグラムにおけるn型第五半導体層73、173の領域
74 n側第六半導体層
74a バンドダイヤグラムにおけるn側第六半導体層74の領域
75 活性層
75a バンドダイヤグラムにおける活性層75の領域
75b バンドダイヤグラムにおける活性層75の井戸層の領域
75c バンドダイヤグラムにおける活性層75の障壁層の領域
75d バンドダイヤグラムにおける活性層75のp型電子バリア層の領域
76 p側第七半導体層
76a バンドダイヤグラムにおけるp側第七半導体層76の領域
77、177 p型第八半導体層
77a、177a バンドダイヤグラムにおけるp型第八半導体層77、177の領域
78 p型コンタクト層
78a バンドダイヤグラムにおけるp型コンタクト層78の領域
79 ストライプ形状電極
79a バンドダイヤグラムにおけるストライプ形状電極79の領域
113 超格子層
113a バンドダイヤグラムにおける超格子層113の領域
118−1、118−2、118−3、118−4、118−5、118−6、119−1、119−2、119−3、119−4、119−5、119−6 半導体薄膜
118a−1、118a−2、118a−3、118a−4、118a−5、118a−6 バンドダイヤグラムにおける半導体薄膜118−1、118−2、118−3、118−4、118−5、118−6の領域
119a−1、119a−2、119a−3、119a−4、119a−5、119a−6 バンドダイヤグラムにおける半導体薄膜119−1、119−2、119−3、119−4、119−5、119−6の領域
M 陰電極部
P 陽電極部
Claims (8)
- 積層方向にバンドギャップが連続的に単調変化するバンドギャップ変化薄膜を複数連続して積層する半導体層を備える半導体素子であって、
前記半導体層は、隣接する少なくとも二つの前記バンドギャップ変化薄膜のバンドギャップの単調変化する方向が同一であることを特徴とする半導体素子。 - 前記半導体層は、バンドギャップの単調変化する方向が同一である少なくとも二つの隣接する前記バンドギャップ変化薄膜の間にヘテロ界面を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 積層方向にバンドギャップが連続的に単調変化するバンドギャップ変化薄膜を複数連続して積層する半導体層を備える半導体素子であって、
前記半導体層は、隣接する少なくとも二つの前記バンドギャップ変化薄膜のバンドギャップの単調変化する方向が互いに逆であることを特徴とする半導体素子。 - 前記半導体層は、バンドギャップの単調変化する方向が互いに逆である少なくとも二つの隣接する前記バンドギャップ変化薄膜の間にヘテロ界面が非形成であることを特徴とする請求項3に記載の半導体素子。
- 前記バンドギャップ変化薄膜は組成式AlxGayIn1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)と表されるIII族窒化物系化合物からなる窒化物系半導体であることを特徴とする請求項1から4に記載のいずれかの半導体素子。
- 前記バンドギャップ変化薄膜はn型不純物としてSiを含有することを特徴とする請求項5に記載の半導体素子。
- 前記バンドギャップ変化薄膜はp型不純物としてMgを含有することを特徴とする請求項5に記載の半導体素子。
- 外部から電子を供給する陰電極と、
外部から正孔を供給する陽電極と、
前記陰電極からの前記電子と前記陽電極からの前記正孔との再結合により光を発生する活性層と、
をさらに備え、
前記陽電極から前記活性層への正孔の移動経路において、前記バンドギャップ変化薄膜の積層方向と前記活性層の積層方向とが平行となるように前記活性層と前記陽電極との間に前記半導体層を配置又は/及び前記陰電極から前記活性層への電子の移動経路において、前記バンドギャップ変化薄膜の積層方向と前記活性層の積層方向とが平行となるように前記活性層と前記陰電極との間に前記半導体層を配置することを特徴とする請求項1から5に記載のいずれかの半導体素子。
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