JP2006337358A - ガス絶縁機器の電圧検出装置 - Google Patents

ガス絶縁機器の電圧検出装置 Download PDF

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Kazumi Ishigaki
一三 石垣
Fumio Ito
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Abstract

【課題】ガス絶縁機器の電圧検出装置における中間電極低圧側の電圧分担比を低減して電圧検出装置内の過電圧発生を抑制して絶縁破壊を防止する。
【解決手段】接地金属タンク1内に母線2と所定の距離を隔てかつ同軸に筒状に形成された中間電極3と接地金属タンク1とで構成される第1のコンデンサと、電圧検出用の第2のコンデンサ10との分圧を電圧センサ12に印加して母線2の電圧検出を行う装置構成である。そして、中間電極3の外周に環状絶縁層5を介して環状支持導体31を設け、環状支持導体31を支持導体接続部材31aにより接地金属タンク1の内面に支持することで、中間電極3と接地金属タンク1との間のキャパシタンスを低減して電圧分担比を低減する。
【選択図】図1

Description

この発明は、ガス絶縁機器の電圧検出装置に関し、特に、サージ電圧の対策に関するものである。
ガス絶縁機器に適用される従来の電圧検出装置について以下に示す。図15は、従来の電圧検出装置の構成を示す断面図である。
図15に示すように、導電部材からなる導電性容器としての接地金属タンク1は、ガス絶縁開閉器等のガス絶縁機器の筒状外被を構成する。高電圧導体としての母線2は、接地金属タンク1の内部に同軸に配設されている。筒状の中間電極3は接地金属タンク1と母線2との間に接地金属タンク1と同軸に配設され、接地金属タンク1と母線2とのそれぞれと電気的に絶縁して取り付けられている。中間電極3は絶縁支持部材5によって接地金属タンク1の内面に絶縁支持されている。
接地金属タンク1の内部空間9において、中間電極3は、母線2との間で第1のコンデンサとなるキャパシタンスC1を構成する。中間電極3には電圧を引き出すための接続導体6が取り付けられ、接続導体6は絶縁スペーサ部材8を貫通して第2のコンデンサ10の高圧側に接続される。第2のコンデンサ10の低圧側は接地電位にある外箱11に接続される。
光電圧センサ12は第2のコンデンサ10と並列に接続され、即ち、該光電圧センサ12の一端がリード線13により第2のコンデンサ10の高圧側に接続され、他端は外箱11に接続される。光電圧センサ12の出力部には信号処理部14が光ファイバケーブル15を介して接続されている。
電圧検出動作について説明する。母線2と中間電極3との間で構成される第1のコンデンサとしてのキャパシタンスC1と、第2のコンデンサ10によるキャパシタンスC2との静電容量比による分圧比によって、光電圧センサ12への印加電圧が決定される。そして、光電圧センサ12への印加電圧に応じた検出出力が光ファイバケーブル15を介して信号処理部14へ導出され、高電圧導体としての母線2の電圧を検出する。
このように構成される電圧検出装置では、母線2に高周波サージ電圧が印加されると、第2のコンデンサ10と光電圧センサ12とを含む閉回路にて共振現象が発生し、第2のコンデンサ10の両端に発生する電圧および光電圧センサ12の両端に発生する電圧が大きくなるものであった。このため、第2のコンデンサ10と光電圧センサ12との接続を無誘導性抵抗体にて行い、光電圧センサ12に印加されるサージ電圧を抑制すると共に、サージ継続時間を短くしていた(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−202001号公報
上述した従来のガス絶縁機器の電圧検出装置では、第2のコンデンサ10と光電圧センサ12とを含む閉回路内の共振現象には抑制対策が施されたものであったが、母線2に高周波サージ電圧が印加されると、中間電極3の低圧側の電圧分担が大きくなり、電圧検出装置内の各部で過電圧が生じて絶縁破壊に至ることがあった。
この発明は、上記のような問題点を解消するために成されたものであって、高周波サージ電圧の印加時における中間電極低圧側の分担電圧を低減し、電圧検出装置内の各部で過電圧が生じるのを防止して絶縁破壊を回避することを目的とする。
この発明に係る第1のガス絶縁機器の電圧検出装置は、絶縁ガスが封入され接地された筒状の導電性容器と、該導電性容器内に同軸に配設された高電圧導体と、上記導電性容器内に上記高電圧導体と所定の距離を隔てかつ同軸に筒状に形成された中間電極とで構成されるガス絶縁機器の上記高電圧導体を電圧検出対象部分として、上記中間電極と上記導電性容器との間に接続された第2のコンデンサと、該第2のコンデンサに並列に接続された電圧センサとを備えて、上記高電圧導体と上記中間電極とで形成される第1のコンデンサと上記第2のコンデンサとの分圧電圧を上記電圧センサに印加することにより電圧検出を行う。そして、上記中間電極を上記導電性容器内に支持する支持部材を備え、該支持部材は、上記筒状の中間電極の外周部に環状絶縁層を介して設けられた第1の環状支持導体と該第1の環状支持導体を上記導電性容器に接続する第1の接続導体とを備えるものである
この発明に係る第2のガス絶縁機器の電圧検出装置は、絶縁ガスが封入され接地された筒状の導電性容器と、該導電性容器内に同軸に配設された高電圧導体と、上記導電性容器内に上記高電圧導体と所定の距離を隔てかつ同軸に筒状に形成された中間電極とで構成されるガス絶縁機器の上記高電圧導体を電圧検出対象部分として、上記中間電極と上記導電性容器との間に接続された第2のコンデンサと、該第2のコンデンサに並列に接続された電圧センサとを備えて、上記高電圧導体と上記中間電極とで形成される第1のコンデンサと上記第2のコンデンサとの分圧電圧を上記電圧センサに印加することにより電圧検出を行う。そして、上記第2のコンデンサの低圧側を上記導電性容器に電気的に接続する接地線導体と、上記中間電極を上記第2のコンデンサへ電気的に接続する接続導体とを備え、上記接地線導体を上記接続導体を囲むように配置して構成したものである。
この発明の第1のガス絶縁機器の電圧検出装置によれば、中間電極を導電性容器内に支持する支持部材を備え、該支持部材は、筒状の中間電極の外周部に環状絶縁層を介して設けられた第1の環状支持導体と該第1の環状支持導体を上記導電性容器に接続する第1の接続導体とを備えるため、中間電極と導電性容器との間のキャパシタンスによるインピーダンスを低減できる。このため、高周波サージ電圧の印加時における中間電極低圧側の分担電圧を低減でき、電圧検出装置内の各部で過電圧が生じるのを防止して絶縁破壊を回避できる。
この発明の第2のガス絶縁機器の電圧検出装置によれば、第2のコンデンサの低圧側を導電性容器に電気的に接続する接地線導体と、中間電極を上記第2のコンデンサへ電気的に接続する接続導体とを備え、上記接地線導体を上記接続導体を囲むように配置して構成したため、第2のコンデンサの低圧側から接地電位までのインピーダンスを低減できる。このため、高周波サージ電圧の印加時における中間電極低圧側の分担電圧を低減でき、電圧検出装置内の各部で過電圧が生じるのを防止して絶縁破壊を回避できる。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1によるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す断面図であり、特に図1(a)は側断面図を示し、図1(b)は部分横断面図を示している。
図1に示すように、導電部材からなる導電性容器としての接地金属タンク1は、ガス絶縁開閉器等のガス絶縁機器の筒状外被を構成しSF6ガス等の絶縁ガスが充填されている。
電圧検出対象部分の高電圧導体としての母線2は、接地金属タンク1の内部に同軸に配設されている。筒状の中間電極3は接地金属タンク1と母線2との間に接地金属タンク1と同軸に配設され、接地金属タンク1と母線2とのそれぞれと電気的に絶縁して取り付けられている。
中間電極3は、絶縁支持部材としての環状絶縁層15、第1の環状支持導体(以下、単に環状支持導体31と称す)および第1の接続導体としての支持導体接続部材31aで構成される支持部材によって接地金属タンク1の内面に支持されている。環状絶縁層15および環状支持導体31は、中間電極3外周に環状に形成される。また、環状支持導体31は環状絶縁層15を介して中間電極3外周に設けられると共に、支持導体接続部材31aによって接地金属タンク1の内面に固着され、接地金属タンク1と電気的に接続される。
接地金属タンク1の内部のガス空間において、中間電極3は、母線2との間で第1のコンデンサとなるキャパシタンスC1を構成する。中間電極3には電圧を引き出すための接続導体6が取り付けられ、接続導体6は、接地金属タンク1の内部のガス空間と外側の気中とを仕切る絶縁スペーサ部材8を貫通し、第2のコンデンサ10の高圧側に接続される。第2のコンデンサ10の低圧側は接地電位にある外箱11に接続される。22は、外箱11と接地金属タンク1とを接続する接地線である。
第2のコンデンサ10は、電圧センサ12と並列に接続され、第2のコンデンサ10および電圧センサ12は外箱11に収納される。電圧センサ12の出力部には、図示しない信号処理部が接続される。
電圧検出動作について説明する。母線2と中間電極3との間で構成される第1のコンデンサとしてのキャパシタンスC1と、第2のコンデンサ10によるキャパシタンスC2との分圧比によって、電圧センサ12への印加電圧が決定される。そして、電圧センサ12への印加電圧に応じた検出出力が信号処理部へ導出され、信号処理により高電圧導体としての母線2の電圧が検出される。電圧センサ12は、例えば、第2のコンデンサ10で電圧分担されたアナログ電圧信号をデジタルに変換するA/D変換器や、抵抗を介して検出した電流を積分して電圧として出力する装置、あるいは光電圧素子から成る光電圧センサが用いられる。
図1で示す電圧検出装置の等価回路図を図2に示す。
図2において、C1〜C4、L1〜L4およびR1は次のように定義される。
C1:母線2と中間電極3との間のキャパシタンス(第1のコンデンサ10のキャパシタンス)。
C2:第2のコンデンサ10のキャパシタンス。
C3:絶縁支持部材(環状絶縁層)15のキャパシタンス。
C4:電圧センサ12のキャパシタンス。
L1:電圧センサ12を接続するリード線のインダクタンス。
L2:第2のコンデンサ10から接地部位までのインダクタンス(第2のコンデンサ10が持つインダクタンスを含む)。
L3:絶縁支持部材(環状絶縁層)15から接地部位までのインダクタンス。
L4:接続導体6のインダクタンス。
R1:放電抵抗。
母線2に印加される電圧を検出する電圧検出装置において、中間電極3の低圧側で分担する分担電圧について以下に説明する。
図2において、電圧分担比(分圧比)は電圧検出装置中のC1のインピーダンスとC1の低圧側の総インピーダンスとの比で決定される。このときの電圧分担比は、電圧センサ12のキャパシタンスC4によるインピーダンスが非常に大きいため、Z1のインピーダンス対Z2、Z3の合同インピーダンスの比となる。ここで、Z1はC1によるインピーダンスである。Z2は、L4、C2、およびL2によるインピーダンスである。Z3は、C3およびL3によるインピーダンスである。
L1、C4、R1のインピーダンスはC2、C3、L2、L3、L4のインピーダンスよりも大きい。
母線2に印加される電圧波形が100kHz以下の低周波成分のみであれば、通常の構成ではC2のインピーダンスよりL2、L3、L4のインピーダンスは十分小さく、C3のインピーダンスは十分大きい。このため、電圧分担比は、C1とC2とのインピーダンス分担で決定される。
一方、断路器や遮断器などの動作によって生じるサージのような100kHzを越える高周波成分を持つ電圧が母線2に印加された場合は、L2、L3、L4、C3はC2のインピーダンスと比較して無視できなくなるため、電圧分担比が変化する。母線2に高周波サージ電圧が印加されると、中間電極3の低圧側の分担電圧が大きくなるものであるが、該分担電圧の上昇は、低圧側の電圧分担比を低減することにより抑制できるものである。
図3は電圧分担比と印加電圧の周波数特性との関係を示すものである。従来技術による電圧分担比を示す曲線Aから、Z2を小さくすると曲線Bに示すように電圧分担比を低減でき、またZ3を小さくすると曲線Cに示すように電圧分担比を低減できる。
図4は、電圧分担比の印加電圧周波数依存性を、C3の値を変化させて示すものである。ここでは、事例として、L2=0.1μH、L3=0.1μH、L4=0.1μH、C1=10pF、C2=10000pFとして電圧分担比を計算した。C3の値が大きくなると、Z3が小さくなって電圧分担比が小さくなり、電圧検出装置内の各部に発生する過電圧を抑制できる。
図5、図6は、印加電圧の周波数100MHzにおける電圧分担比のC3依存性を示すものである。特に、図6はL3の値を変化させて示した。図に示すように、C3の値が10pFから20pFで、従来のC3の値(0.1pF以下)に対して、電圧分担比が半分程度となる。LやC2の値にもよるが、C3を10pF以上とすれば、電圧検出装置内の各部に発生する過電圧を十分抑制できる。また、L3の値が小さいほど電圧分担比も小さくできる。
この実施の形態1では、上述したように、中間電極3を接地金属タンク1の内面に支持する支持部材を、環状絶縁層15、環状支持導体31および支持導体接続部材31aで構成した。これにより、絶縁支持部材となる環状絶縁層15を薄く、また面積を大きく形成できる。このため、図2で示す等価回路における絶縁支持部材(環状絶縁層)15のキャパシタンスC3を増大してZ3のインピーダンスが低減する。これにより、電圧検出装置の低圧側の電圧分担比が小さくなり、電圧検出装置内の各部に発生する過電圧を抑制できる。このため、絶縁部材、特に絶縁支持部材(環状絶縁層)15および絶縁スペーサ部材8での絶縁破壊を防止できる。
図7は、この実施の形態1の別例によるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す部分断面図であり、特に図7(a)は側断面図を示し、図7(b)は横断面図を示している。この例では、図1で示した電圧検出装置において、中間電極3と接地金属タンク1の接地部位との間にサージ抑制手段となるアレスタ(避雷器)ARが接続されている。このように、環状絶縁層15によるキャパシタンスC3と並列にアレスタ(避雷器)ARが接続されることになり、環状絶縁層15での過電圧の発生がさらに抑制され、環状絶縁層15の絶縁破壊が確実に防止できる。
図8は、実施の形態1における更に別例によるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す部分断面図であり、特に図8(a)は側断面図を示し、図8(b)は横断面図を示している。図1で示した電圧検出装置と同様に、環状支持導体31は環状絶縁層15を介して中間電極3外周に設けられると共に、第1の接続導体としての支持導体接続部材31bによって接地金属タンク1の内面に固着され、接地金属タンク1と電気的に接続されるが、この例では、支持導体接続部材31bが接地金属タンク1の内周面に沿って環状に形成される。このため、上記実施の形態1と同様にC3を増大できる効果が得られると共に、さらに絶縁支持部材(環状絶縁層)15から接地部位までのインダクタンスL3を低減することができる。これにより、Z3のインピーダンスをさらに低減できて電圧検出装置の低圧側の電圧分担比を一層低減でき、過電圧抑制効果が高まる。
実施の形態2.
なお、上記実施の形態1では、絶縁支持部材としての環状絶縁層15は中間電極3の外周部に接して配置されるものであったが、中間電極3を接地金属タンク1の内面に支持する支持部材を図9、図10のように構成しても良い。図9および図10は、この発明の実施の形態2による、中間電極3を接地金属タンク1の内面に支持する支持部材の構造を示す側断面図および横断面図である。なお、図で示した支持部材以外の構造は、上記実施の形態1と同様である。
図9、図10に示すように、第1の環状支持導体としてのタンク側環状支持導体26aと、第2の環状支持導体としての中間電極側環状支持導体24aとは、絶縁支持部材を構成する環状絶縁層25を介して互いに嵌合し嵌合構造部CSを構成している。タンク側環状支持導体26aは、第1の接続導体としてのタンク側接続導体26によって接地金属タンク1と接続される。また、中間電極側環状支持導体24aは、第2の接続導体としての中間電極側接続導体24によって中間電極3と接続される。また、図9に示すように、中間電極側環状支持導体24aおよびタンク側環状支持導体26aは、それぞれ凹部と凸部を備えて互いの凹部と凸部を環状絶縁層25を介して互いに嵌合させる。ここでは、中間電極側環状支持導体24aの接地金属タンク1の軸方向に突出した凸部と、タンク側環状支持導体26aの凹部とが厚さGの環状絶縁層25を介して互いに嵌合された状態である。
これにより、中間電極3と接地金属タンク1との間の絶縁支持部材を構成する環状絶縁層25は、実施の形態1の絶縁支持部材(環状絶縁層15)よりもさらに薄く、また広い面積で形成でき、絶縁支持部材(環状絶縁層)のキャパシタンスC3をさらに増大できる。これにより、Z3のインピーダンスをさらに低減して電圧検出装置の低圧側の電圧分担比が小さくなり、電圧検出装置内の各部に発生する過電圧をさらに抑制できる。
なお、上記実施の形態1、2では中間電極3と接地金属タンク1との間の絶縁支持部材を構成する環状絶縁層15、25の形状を薄く広く形成してキャパシタンスC3を増大させるものであったが、環状絶縁層15、25を高い誘電率を有する材料で構成するとより効果的にC3を増大できる。通常、C3部に広く使用される絶縁材料は、シリカ材料を使ったエポキシ樹脂や、FRPが中心であり、比誘電率は4であるが、ここでは、アルミナエポキシ樹脂(比誘電率6)などの高い誘電率材料を用いる。
また、C3部に並列にコンデンサを配置することによってもキャパシタンスC3を大きくできる。
実施の形態3.
図11は、この実施の形態3によるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す部分断面図であり、特に図11(a)は側断面図を示し、図11(b)は、図11(a)におけるXI(b)−XI(b)線による断面図を示している。
なお、図11は、便宜上、中間電極3の低圧側のみを示し、さらに外箱11内の図示を省略したが、省略された部分は、図1で示す上記実施の形態1と同様である。
図に示すように、中間電極3は、絶縁支持部材5によって接地金属タンク1の内面に支持されている。ここでの絶縁支持部材5は従来のものと同様に支柱である。中間電極3には電圧を引き出すための接続導体6が取り付けられ、接続導体6は、接地金属タンク1の内部のガス空間と外側の気中とを仕切る絶縁スペーサ部材8を貫通し、第2のコンデンサ10の高圧側に接続される。第2のコンデンサ10の低圧側は接地電位にある外箱11に接続される。絶縁スペーサ部材8は、ボルト部材BLによって接地金属タンク1のフランジ部1bに締結される。なお、1aは、フランジ部1bのタンク側および外箱側に接続導体6を囲むように形成された筒状接続導体で、タンク側フランジ部1bを接地金属タンク1に、外箱側フランジ部1bを外箱1に接続する。22は、図示しない第2のコンデンサ10の低圧側端子および外箱11を接地電位に保持されている接地金属タンク1へ電気的に接続する接地線導体である。
この場合、接地線導体22を接続導体6の長手方向に平行に延在する複数の接地線素体22aで構成し、この複数の接地線素体22aを接続導体6を囲むように配置する。このように接地線導体22を構成することにより接地線導体22のインダクタンスを低減でき、図2の等価回路で示す、第2のコンデンサ10から接地部位までのインダクタンスL2を低減できる。このため、L4、C2、およびL2によるインピーダンスであるZ2を低減できる。
上述したように、Z2の低減により電圧検出装置の電圧分担比は低減できる。図12は、電圧分担比の印加電圧周波数依存性を、L2の値を変化させて示すものである。
L2の値が小さくなると、Z2が小さくなって電圧分担比が小さくなり、電圧検出装置内の各部に発生する過電圧を抑制できる。このため、絶縁部材、特に絶縁支持部材(環状絶縁層)および絶縁スペーサ部材8での絶縁破壊を防止できる。
図13は、この実施の形態3の別例によるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す部分断面図であり、特に図13(a)は側断面図を示し、図13(b)は、図13(a)におけるXIII(b)−XIII(b)線による断面図を示している。
図13に示すように、接地線導体22は筒状導体22bで構成して、該筒状導体22bを接続導体6の周りに配置しても良い。この場合も、接地線導体22のインダクタンスを低減でき上記実施の形態3と同様の効果が得られる。
図14は、この実施の形態3のさらに別例によるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す部分断面図であり、特に図14(a)は側断面図を示し、図14(b)は、図14(a)におけるXIV(b)−XIV(b)線による断面図を示している。
図14に示すように、接地線導体22は、絶縁スペーサ部材8の外周面を覆うように配設された筒状導体22cで構成し、絶縁スペーサ部材8を介して対向する接地金属タンク1のタンク側および外箱側のフランジ1bを互いに電気的に接続する。この場合も、接地線導体22のインダクタンスを低減でき上記実施の形態3と同様の効果が得られる。
なお、この実施の形態3で示した接地線導体22の構造は、上記実施の形態1、2で示した、絶縁支持部材に環状絶縁層15、25を用いた電圧検出装置に適用しても良い。その場合、キャパシタンスC3を増大できるため、Z2とZ3との双方のインピーダンスが低減でき、電圧分担比がさらに低減できて過電圧抑制効果が向上する。
なお、上記実施の形態1〜3で示したガス絶縁機器の電圧検出装置は、3相ガス絶縁開閉装置(GIS)用の電圧検出装置への適用も可能である。例えば、相別に3台の電圧検出装置に各々適用することができる。
この発明の実施の形態1におけるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す断面図である。 図1で示す電圧検出装置の等価回路図である。 この発明の実施の形態1における電圧分担比と印加電圧の周波数特性との関係を示す図である。 この発明の実施の形態1における電圧分担比の印加電圧周波数依存性を、C3の値を変化させて示す図である。 この発明の実施の形態1における電圧分担比のC3依存性を示す図である。 この発明の実施の形態1における電圧分担比のC3依存性をL3の値を変化させて示す図である。 この発明の実施の形態1の別例におけるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す断面図である。 この発明の実施の形態1の別例におけるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す断面図である。 この発明の実施の形態2における、中間電極を接地金属タンク内面に支持する支持部材の構造を示す側断面図である。 この発明の実施の形態2による、中間電極を接地金属タンク内面に支持する支持部材の構造を示す横断面図である。 この発明の実施の形態3におけるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す部分断面図である。 この発明の実施の形態3における電圧分担比の印加電圧周波数依存性を、L2の値を変化させて示す図である。 この発明の実施の形態3の別例におけるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す断面図である。 この発明の実施の形態3の別例におけるガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す断面図である。 従来のガス絶縁機器の電圧検出装置の構成を示す概略構成図である。
符号の説明
1 導電性容器としての接地金属タンク、2 高電圧導体としての母線、
3 中間電極、6 接続導体、8 絶縁スペーサ部材、10 第2のコンデンサ、
12 電圧センサ、15 絶縁支持部材としての環状絶縁層、
22 接地線(接地線導体)、22a 接地線素体、
22b,22c 筒状導体(接地線導体)、
24 第2の接続導体としての中間電極側接続導体、
24a 第2の環状支持導体としての中間電極側環状支持導体、
25 絶縁支持部材としての環状絶縁層、
26 第1の接続導体としてのタンク側接続導体、
26a 第1の環状支持導体としてのタンク側環状支持導体、
31 第1の環状支持導体、
31a,31b 第1の接続導体としての支持導体接続部材、AR 避雷器。

Claims (8)

  1. 絶縁ガスが封入され接地された筒状の導電性容器と、該導電性容器内に同軸に配設された高電圧導体と、上記導電性容器内に上記高電圧導体と所定の距離を隔てかつ同軸に筒状に形成された中間電極とで構成されるガス絶縁機器の上記高電圧導体を電圧検出対象部分として、上記中間電極と上記導電性容器との間に接続された第2のコンデンサと、該第2のコンデンサに並列に接続された電圧センサとを備えて、上記高電圧導体と上記中間電極とで形成される第1のコンデンサと上記第2のコンデンサとの分圧電圧を上記電圧センサに印加することにより電圧検出を行うガス絶縁機器の電圧検出装置において、
    上記中間電極を上記導電性容器内に支持する支持部材を備え、該支持部材は、上記筒状の中間電極の外周部に環状に形成された絶縁支持部材を介して設けられた第1の環状支持導体と該第1の環状支持導体を上記導電性容器に接続する第1の接続導体とを備えることを特徴とするガス絶縁機器の電圧検出装置。
  2. 上記第1の環状支持導体を上記導電性容器に接続する第1の接続導体を、上記導電性容器の内周面に沿って環状に形成したことを特徴とする請求項1記載のガス絶縁機器の電圧検出装置。
  3. 上記中間電極と上記絶縁支持部材との間に、第2の環状支持導体と該第2の環状支持導体を上記中間電極に接続する第2の接続導体とを備え、上記第1、第2の環状支持導体は、それぞれ凹部と凸部を備えて互いの凹部と凸部を上記絶縁支持部材を介して嵌合させたことを特徴とする請求項1記載のガス絶縁機器の電圧検出装置。
  4. 上記第2のコンデンサの低圧側を上記導電性容器に電気的に接続する接地線導体と、上記中間電極を上記第2のコンデンサへ電気的に接続する接続導体とを備え、上記接地線導体を上記接続導体を囲むように配置して構成したことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のガス絶縁機器の電圧検出装置。
  5. 絶縁ガスが封入され接地された筒状の導電性容器と、該導電性容器内に同軸に配設された高電圧導体と、上記導電性容器内に上記高電圧導体と所定の距離を隔てかつ同軸に筒状に形成された中間電極とで構成されるガス絶縁機器の上記高電圧導体を電圧検出対象部分として、上記中間電極と上記導電性容器との間に接続された第2のコンデンサと、該第2のコンデンサに並列に接続された電圧センサとを備えて、上記高電圧導体と上記中間電極とで形成される第1のコンデンサと上記第2のコンデンサとの分圧電圧を上記電圧センサに印加することにより電圧検出を行うガス絶縁機器の電圧検出装置において、
    上記第2のコンデンサの低圧側を上記導電性容器に電気的に接続する接地線導体と、上記中間電極を上記第2のコンデンサへ電気的に接続する接続導体とを備え、上記接地線導体を上記接続導体を囲むように配置して構成したことを特徴とするガス絶縁機器の電圧検出装置。
  6. 上記接地線導体は、上記接続導体の長手方向に平行に延在する複数の接地線素体で構成し、該複数の接地線素体を上記接続導体を囲むように配置したことを特徴とする請求項4または5記載のガス絶縁機器の電圧検出装置。
  7. 上記接地線導体を筒状に構成して上記接続導体の周りに配置したことを特徴とする請求項4または5記載のガス絶縁機器の電圧検出装置。
  8. 上記中間電極と上記導電性容器との間に避雷器を接続したことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のガス絶縁機器の電圧検出装置。
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