JP2006331603A - 光ディスク原盤作成方法とその原盤および光ディスク - Google Patents

Abstract

【課題】精密機械と精密制御を必要としない低価格な装置で十分な精度を実現する光ディスク原盤作成方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト層が表面に形成された基板を回転させながら記録すべき信号で変調された記録レーザビームを記録レンズで絞り、フォトレジスト層を露光して、フォトレジスト層にらせん状の潜像を記録した後、フォトレジスト層を現像し、潜像に対応したパターンをフォトレジスト層に形成してなる光ディスクの原盤作製方法において、フォトレジスト層に記録レーザビームの照射位置を規定するガイド溝が形成されていることを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、DVDなどの光ディスクの原盤を作製する方法とその原盤及び光ディスクに係り、特にレーザで記録すべき信号を書き込みDVDなどの光ディスクの原盤を作製する方法とその原盤及び光ディスクに関するものである。

従来原盤記録は、通常レーザビームレコーダ（LBR）またはカッティングマシンと呼ばれる装置で信号の書き込みが行われている。この装置はフォトレジストが塗布されガラス盤などをターンテーブル上で回転させ、所望の信号で変調されたレーザビームを前記フォトレジスト面に集光させる記録レンズを半径方向に移動させて、前記フォトレジストを螺旋状に露光して、潜像を記録していく。
露光された原盤はその後、現像処理を経て、前記潜像部が溶解し、物理的な所望のパターンを有するレジスト層が形成される。一般にこの状態の原盤はガラス原盤と呼ばれる。その後ガラス原盤表面に導電化膜を形成して電鋳処理を行い、ガラス原盤のパターンが反転されたニッケル金属原盤を得る。
そして、通常はこれを加工して成形用のスタンパーにする。

特開平０５−４７０３２号公報

DVDのトラックピッチは0．74μmで隣接ピッチ誤差は30nm程度が要求されている。従って、前記LBRの記録レンズの送り精度にはかなりの精度が要求され、送りガイドにはスティックスリップのない空気軸受けを用い、駆動手段には高精度のリニアモータが一般的に用いられている。
また、外部からの振動は送りピッチ誤差を起こすので、空気ばねで支えられた除振台の上に装置が構成されている。
また送り精度とともに、前記原盤を回転させるターンテーブルの回転精度にも精度が要求される。通常1800r pmで回転する場合、1回転の回転むらは10〜20nsecほどになっている。回転むらが大きいと、出来たディスクの信号が検出出来ないからである。

そのため、回転ムラを検出する高精度のエンコーダをターンテーブルと同軸に設け、そのエンコーダから1回転あたり数千パルス以上の回転パルス信号を得て、回転むらがないような駆動モータの制御が行われる。また、駆動には、ダイレクトに軸を駆動する精密モータが用いられる。

上記のように従来のLBRは機械および電気制御にかなりの精度が必要で、そのため高価な装置になっていた。
また、そのような精度を常に維持するのも難しく、トラックピッチ不良などを起こし、歩留まりの低下を招いていた。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、上記のような精密機械と精密制御を必要としない低価格な装置で十分な精度を実現する工法を提供することを目的とするものである。

上記目的を達成するために、本発明の原盤作製方法は、フォトレジスト層が表面に形成 された基板を回転させながら記録すべき信号で変調された記録レーザビームを記録レンズ で絞り前記フォトレジスト層を露光して、前記フォトレジスト層にらせん状の潜像を記録した後、前記フォトレジスト層を現像し、前記潜像に対応したパターンを前記フォトレジスト層に形成してなる光ディスクの原盤作製方法において、
前記フォトレジスト層に前記記録レーザビームの照射位置を規定するガイド溝が形成されていることを特徴とする。

また、上記目的を達成するために、本発明の原盤作製方法は、フォトレジスト層が表面 に形成された基板を回転させながら記録すべき信号で変調された記録レーザビームを記録 レンズで絞り前記フォトレジスト層を露光して、前記フォトレジスト層にらせん状の潜像を記録した後、前記フォトレジスト層を現像し、前記潜像に対応したパターンを前記フォトレジスト層に形成し、前記パターンが形成されたフォトレジスト層の上に導電性膜を形成し、前記導電性膜を電極としたニッケル電鋳でニッケルスタンバーを作製する方法において、
前記フォトレジスト層に前記記録レーザビームの照射位置を規定するガイド溝が形成されていることを特徴とする。

また、上記目的を達成するために、本発明の原盤作製方法は、前記ガイド溝が一定の周期で蛇行していることを特徴とする。

また、上記目的を達成するために、本発明の原盤作製方法は、前記溝の深さが記録レーザの波長をλ、前記フォトレジストの屈折率をnとした時、λ／7n〜λ／9nの範囲であることを特徴とする。

また、上記目的を達成するために、本発明の原盤作製方法は、前記記録レーザビームの照射位置を前記溝の幅方向に変位させるビーム位置制御部材を有し、前記ガイド溝からの前記レーザビームの反射光より前記ガイド溝に対する前記記録レーザビームのトラキング誤差信号（プッシュプル信号）を検出し、前記トラキング誤差信号により前記ビーム位置制御部材で前記記録レーザビームが常に前記ガイド溝の中心を照射するように制御する。

また、上記目的を達成するために、前記フォトレジスト層への吸収がない波長のレーザであって、前記ビーム位置制御部材によって前記記録レーザビームと同じ変位を受けて、 前記記録レンズを通り前記フォトレジスト層上に焦点を結ぶ補助レーザビームを設け、前 記補助レーザビームを前記記録レーザビームと同一半径上に照射させ、前記補助レーザビ ームの前記ガイド溝からの反射光よりトラッキング誤差信号を検出して前記ビーム位置制 御部材によって常に前記補助レーザビームが前記ガイド溝の中心を照射するようにトラッ キング制御を行う。

また、上記目的を達成するために、本発明の原盤作製方法は、前記レーザビームの反射光または前記ビーム位置制御部材の駆動信号より前記溝の蛇行による変調成分を抜き出し、前記変調成分の周波数より前記基板を回転ざせる回転駆動部材の回転制御を行うことを特徴とする。

また、上記目的を達成するために、前記フォトレジスト層が前記基板に形成されたレジスト塗布済み原盤を提供する。
また、上記目的を達成するために、前記フォトレジスト層に前記ガイド溝を形成する方法であって、前記基板に前記フォトレジスト層が形成された後、前記フォトレジストをガラス転移点近傍に過熱し、前記溝形状の反転パターンの形状を有する金型を前記フォトレジスト層に押し当てて前記溝を形成することを特徴とする。
また、上記目的を達成するために、前記ガイド溝を形成する方法において、前記フォトレジスト層を過熱し、所望の温度に達した後に、前記溝形状の反転パターンの形状を有する金型を押し当てて前記フォトレジスト層に所望の形状の溝を形成し、前記型を前記フォトレジストが冷却してから前記フォトレジスト層から離すことを特徴とする。
また、上記目的を達成するために、前記過熱温度が120℃〜140℃であることを特徴とする。
本構成によって、レーザ記録の際に、溝からの反射光によるプッシュプル信号から溝中心からの照射位置の変位が分かり、それを補正するようにレーザビームの偏向位置制御が行われる。従って、レーザビームは常にガイド溝の中心に位置することになり、もって正確に信号を記録できる。かかる構成によれば、LBRは高精度の送り機構を有する必要がない。
また、反射光がガイド溝の蛇行によって受ける強度変調の周波数成分のふらつきからターンテーブル軸の回転むらを検出できるので、高価なエンコーダを搭載する必要がない。原盤自身が高精度な回転エンコーダの役割をする。
また、レーザ記録時には記録レンズで絞られたビームをレジスト表面に焦点を結ばせる必要がある。そのため、通常は記録レーザとは別にフォーカス制御用の補助レーザを設けてフォーカスエラー信号を検出して常にレジスト面に焦点を合わせる制御が行われている。

このフォーカス制御用のレーザはレジストを感光しない波長のものが使われる。これにより露光しない時にも記録レンズを焦点位置に保つことが出来る。ガイド溝からの反射光によるプッシュプル信号を得る際に、記録レーザではなく、フォーカス制御用のレーザを用いれば、レジストを感光させることなく、溝に対するトラキングエラー信号を得ることができる。そして、記録レーザとフォーカス制御用の補助レーザを同一半径位置に合わせて、同一の偏向位置制御手段で制御すれば、記録レーザが照射されてない時でも常にオントラックの状態を維持できる。
また、本構成によれば、ガイド溝を有するレジスト層は、いわゆるナノインプリントと呼ばれる工法で比較的簡単に製作が可能である。所望の溝パターンの突型を有する金型をあらかじめ作製し、それで基盤上に塗布されたレジスト層を過熱押圧する。通常のDVDやCDの露光に使われるレジストは120から140℃近傍でチーズのように柔らかくなる。その状態の時に金型を抑圧してパターンを転写する。この場合、必ずしも型を100％転写する必要はない。プッシュプル信号はレジストの屈折率をｎとした時、溝の深さが照射レーザの波長λの1／8ｎの時に最大になる。
つまりレーザ波長が400nmであれば、およそ30nmの深さが得られればよい。レジストの柔らかさに応じた転写率から型の突起の寸法を計算して金型を作ればよい。

上記の型は1度作れば何度も使用が可能である。

以上のように、本発明の原盤作製方法によれば、安価な装置で高精度の原盤を生産することができる。従来、光ディスクの製造業者はマスタリングに過大な投資をしていたが、その中でも最大に高価な設備がLBRであった。本発明の工法によれば比較的少ない投資でマスタリングを行うことができる。

また、本発明の工法では、機械の精度にたよるのではなく、制御によってその精度が保証されるので、歩留まりのいい安定的な生産が可能となる。

以下本発明の実施の形態について、図を参照しながら説明する。

（実施の形態1）
図1は、本発明によるレーザービームレコーダ（LBR）の一実施例である。
図1において、符号1は送りステージで記録光学系およびフォーカス光学系などを搭載し、送りステージ駆動回路33により図１に示す矢印の方向に向かい相対的に移動出来るよう構成されている。
符号2は送りステージ1に搭載された記録用レーザを示す。図１では記録用レーザ2として半導体レーザを用いた例を示している。半導体レーザを用いれば、信号源４からの記録信号を例えばレーザ駆動回路に入力すればダイレクトに光変調が可能となる。
尚、本発明はこの実施例に制限されることはなく、例えば、ガスレーザを光源として、光変調器を用いて変調させる構成でも適応可能である。
符号3は前記記録用レーザ２からの記録ビームを示し、該記録ビーム３は、すでに記録すべき信号に変調されている。
符号5は反射ミラーを示し、前記記録ビーム3の向きを下方に変え、記録レンズ7に入射させる。
符号6はビーム位置制御部材であり、後述するトラッキングエラー信号により反射ミラー5を変位させ、記録ビーム３の照射方向を原盤半径方向に偏向させる機能を有する。

符号8は前記記録レンズ7を光軸方向に駆動させるボイスコイル型のアクチュエータで、記録レンズ７の焦点位置を常にフォトレジスト層が形成された基板、すなわちレジスト原盤9の表面に維持する機能を有している。
レジスト原盤9を搭載するのがターンテーブル10で、該ターンテーブル10は、回転駆動モータ11によって回転可能とされている。
ハーフミラー18はレジスト原盤9からの反射光を反射させて2分割フォトディテクタ17に入射させる。
2分割フォトディテクタ17は後述するように、ビーム位置制御部材6を制御するトラッキングエラー信号を検出する働きをする。
符号12はフォーカス制御用の補助レーザであり、偏光ビームスプリッタ14、四分のラムダ板15およびダイクロイックミラー16を経て記録レンズ7に入射する。
符号13はレジスト原盤からの反射光よりフォーカスエラー信号を検出するアステイグマ光学系である。

ここで、図1乃至図4に基づいて本実施例の動作につき説明する。
レジスト原盤9を図2に模式的に示す。レジスト原盤9は基板91にフォトレジスト92が塗布されていて、前記フォトレジスト92にはガイド溝93が形成されている。基板91は一般にはガラス盤が用いられるが、シリコンウエハなどでも構わない。記録ビーム3は記録レンズ7に入射した後、前記フォトレジスト92の表面に焦点を結ぶ。スポット31は前記フォトレジスト92の表面に結ばれた像である。
ここで、本実施例ではガイド溝93は蛇行している。この蛇行（ウォブル）周波数は例えば100kHzから1MHzの範囲である。また、前記ガイド溝93の深さは記録レーザの波長をλ、前記フォトレジストの屈折率をｎとしたとき、λ／7ｎからλ／9ｎの範囲に設定されている。

ところで、光ディスクのトラッキング制御方式としてプッシュプル法がよく知られている。これはディスク上の案内溝から反射されたレーザ光をトラックの中心に対して対象に配置された2つのフォトディテクタで受光し、両ディテクタの出力差としてトラッキング誤差信号を検出する方式である。案内溝の深さが光学的距離で記録レーザの波長の1／8のときにこの誤差信号が最大になる。
図2の例でもガイド溝の光学的深さがλ／7からλ／9の範囲であるので、反射光を図1の2分割フォトディテクタ17で検出すると、ガイド溝93の中心からのスポット31のずれ量が誤差信号として検出される。
前記フォトディテクタ17から出力されるトラキング誤差信号109に基づいて、ビーム位置制御部材駆動回路32によって駆動されたビーム位置制御部材6がミラー5の角度を制御し、ビームスポット31が中心に来るように制御することとなる。
次に、図3に信号系の流れを示す。
図３において、フォトデイテクタ17からのトラッキング誤差信号109がビーム位置制御部材６のビーム位置制御部材駆動回路32に入力され、該ビーム位置制御部材駆動回路32によりビーム位置制御部材6が駆動され、ミラー5の角度が制御される。また、ミラー5の角度がある範囲を超えると送りステージ1を駆動する送りステージ駆動回路33より駆動信号107が出力され、送りステージ1を移動させる（図１参照）。

ところで、ガイド溝93は内周から外周に向かって螺旋状に刻まれているので、送りステージ1はミラー5の角度が常にある許容範囲内を保つように移動し、結果として原盤9の内周から外周に向かって移動する。ＤＶＤ９の２層目ディスクには螺旋が外周から内周に向かうタイプのものもある。この場合送りステージは外周から内周に向かう。

また前述したようにガイド溝93は一定周波数で蛇行している。フォトディテクタ17が受ける全反射光はガイド溝93が蛇行しているためにその周波数の強度変調を受け、フォトディテクタ17からの全反射光出力104も同じ周波数で強度変調している。
その全反射光出力104よりウォブル（蛇行）周波数成分105を抜き出し、回転系駆動回路34に入力し、常に一定周波数を保つように回転駆動モータの回転が制御されている。かかる構成において、レジスト原盤9に刻まれた蛇行周波数の精度で回転系が制御される。
また前記のウォブル周波数105は、前記のビーム位置制御部材６への駆動信号から抽出してもよい。DVDの記録再生は線速度が半径位置に関わらず常に一定になるようにディスクの回転制御が行われる。従って一定周期の蛇行で記録された溝からのウォブル信号は一定の周波数になる。
図１から理解されるように、送りステージ1にはフォーカス制御用の補助レーザ12が搭載されている。前記の記録レーザ2が405nm前後の青紫レーザを使用し、フォトレジストとしてg線およびi線のレジストを使用するのが一般的であるが、その場合補助レーザ12として波長が650nｍ前後の半導体レーザを使えばフォトレジストを感光することがない。
補助レーザ12からの直線偏光ビームは偏光ビームスプリッタ14で反射され、4分のラムダ板15に入り円偏光にかわる。その後ダイクロイックミラー16で反射され、反射ミラー5に向かう。ここでダイクロイックミラー16では記録レーザビーム3は透過させ、補助レーザビームは反射させる働きをする。

補助レーザビームも記録レーザビーム3と同様にミラー5で偏向され記録レンズ7で絞られてフォトレジスト上に集光する。

原盤9からの反射光はダイクロイックミラー16で反射され、4分のラムダ板15で往きのときとは90度異なった直線偏光ビームになる。その後偏光ビームスプリッタ14を透過し、アステイグマ光学系13に入射する。フォーカス制御の方法としてアステイグマ法（非点収差法）はよく知られているので詳細は割愛するが、単レンズと円筒レンズの組み合わせで縦方向と横方向の焦点位置を違わせ、フォーカスの誤差信号を得る方法である。
図4に示すようにアステイグマ光学系13からのフォーカス誤差信号107を記録レンズ駆動回路38に入力する。記録レンズ駆動回路38はボイスコイル型のアクチュエータ8で記録レンズ7を動かしフォーカス誤差信号がゼロになるような制御がなされる。
記録レンズ7が波長405nmと650nmで焦点位置が同じ色消しレンズであることが望ましい。その場合、補助レーザ12の焦点位置を制御すれば記録レーザも常に焦点をフォトレジスト上に結ぶことになる。しかし、もし両波長で焦点位置がずれている場合はその分オフセット値を考慮すればよい。
図5に工程図を示す。図５（a）はLBRで露光している状態を示し、図５（b）は露光後の現像で、レーザで露光された箇所がなくなりピット94を形成している状態を示す。ピット94はガイド溝93で繋がった形となる。図５（c）は図５（b）の原盤に導電性皮膜を形成した後ニッケル電鋳でニッケルマスター95を形成した状態を示す。
図５（d）はマスター95をスタンパーとしてレプリカディスク96を成形した状態を示している。
図５（e）は成形で得られたレプリカ96を示した図である。図５（f）は完成したDVDのディスクの一例を示す。符号96のレプリカに反射層97が付けられ、接着層98を介してダミー基板99に貼り合わせされている。これは片面1層のいわゆるDVD5を示すがディスクはこれに制限されるものではない。ダミー基板99の代わりに符号96のレプリカと同様な基板を貼り合わせたDVD9やDVD10などが可能である。
本発明によるディスクはビットとビットの間が細い溝で繋がれた構造を有するが、信号再生には全く問題がない。むしろ、CDディスクの再生時のトラッキング方式はプッシュプル信号を検出して行うが、ビット間の浅い溝はプッシュプル信号のレベルを高める効果がある。

（実施の形態2）
上記の実施例は、記録レーザビーム3の反射光を使ってトラッキングエラー信号を検出し、補助レーザビームの反射光を使ってフォーカスエラー信号を検出する方法であったが、この実施例のほか図6に他の実施例を示す。
図6では補助レーザはなく、記録レーザビーム3の反射光の一部をハーフミラー19で取り、アステイグマ光学系20に入射させている。この場合は記録レーザ2の波長に対応した光学系となる。しかし、作用は図1で説明したものと同じである。この実施例では補助レーザ12が不要であるが、記録レーザ2の波長がフォトレジストに感度があるため、記録動作前に記録レンズ7の焦点位置合わせを行う時は記録レーザ2の強度を弱め、フォトレジストを感光させない処置が必要である。

（実施の形態3）
他の実施例を図7に示す。
この実施例ではトラッキングエラー信号とフォーカスエラー信号の両方を補助レーザ21の反射光より得ている。
補助レーザ21からのビームは偏光ビームスプリッタ22で反射され4分のラムダ板23を通りダイクロイックミラー24で反射され記録レンズ7に向かう。
ここで、補助レーザビームの原盤9上の結像位置と記録レーザビーム3の原盤9上での結像位置が同じ半径上になるように調整されている。これは偏光ビームスプリッタ22の取り付け角度を調整することによって簡単に行える。

補助レーザビームの反射光はダイクロイックミラー24で反射され、4分のラムダ板23で直線偏光に戻された後、偏光ビームスプリッタ22を直進する。その後一部がハーフミラー25で反射され、2分割フォトディテクター26に入る。この2分割フォトディテクタ26でプッシュプル信号を得るのは図1での説明と同様である。
また、ハーフミラー25を透過したビームはアステイグマ光学系27に入り、フォーカスエラー信号を得る。これも図1での説明と同じであるので省略する。

この実施例では記録レーザおよび補助レーザの結像位置が同一半径上に設定されているので、補助レーザビームのトラッキングエラー信号でビーム位置制御部材6を制御すれば記録レーザビーム3もグループ93の中心を常に照射することになる。記録レーザビーム３と補助レーザビームはミラー５の偏向により同じ向きで同じ量の変位を受ける。

（実施の形態4）
次にガイド溝付レジスト原盤の作製方法について述べる。
図8の（a）には溝形状の反転パターンを有する金型81が模式的に示されている。この金型は通常の光ディスクのスタンパーを作成する方法である電鋳法で作製できる。まず、所望の溝形状を有するフォトレジストの原盤を通常の工法で作り、その表面を導電化し、その導電化された表面を電極として電鋳でスタンパーを作れば溝形状の反転パターンの型が得られる。金型81は通常の成形に用いるスタンパーより厚くするか、裏打ち材で補強をして強度を増すことが望ましい。
フォトレジスト92が塗布された基板91はフォトレジスト92のガラス転移点近くまで過熱されている。通常のノボラック型のフォトレジストの場合、120〜140℃に加熱すると軟化する。図8の（b）はその状態で金型81をフォトレジスト92に押し付けた図である。図8の（c）はフォトレジスト92が金型81の形状になじみ、冷却した後、金型81を引き離した状態を示す。フォトレジスト92にはガイド溝93が形成されている。
前述の実施例では記録レーザビームの半径方向の位置制御方法として反射ミラーを傾むけてビームを偏向させる方式を述べたが、本発明はそれに限らず、記録レンズ7を半径方向に変位させて結像スポット、すなわちビームスポット31をガイド溝93に追従させる方式でもよい。

本発明の実施例を示す概略構成図（その１）である。 ガイド溝と記録レーザビームとの関係を示す概略構成図である。 トラッキングおよび回転制御の信号系の流れを示すフロー図である。 フォーカス制御信号の流れを示すフロー図である。 ディスク製造の工程を示す概略構成図である。 本発明の実施例を示す概略構成図（その２）である。 本発明の実施例を示す概略構成図（その３）である。 ガイド溝つき原盤の製造工程図である。

符号の説明

1 送りステージ
2 記録レーザ
3 記録レーザビーム
4 信号源
5 反射ミラー
6 ビーム位置制御部材
7 記録レンズ
8 ボイスコイル型アクチュエータ
9 レジスト原盤
10 ターンテーブル
11 回転駆動モータ
12 補助レーザ
13 アステイグマ光学系
14 偏光ビームスプリッタ
15 4分のラムダ板
16 ダイクロイツグミラー
17 2分割フォトディテクタ
18 ハーフミラー
19 ハーフミラー
20 アステイグマ光学系
21 補助レーザ
22 備光ビームスプリッタ
23 4分のラムダ板
24 ダイクロイックミラー
25 ハーフミラー
26 2分割フォトディテクタ
27 アステイグマ光学系
31 ビームスポット
32 ビーム位置制御部材駆動回路
33 送りステージ駆動回路
34 回転計駆動回路
38 記録レンズ駆動回路
81 金型
91 基盤
92 フォトレジスト
102 ビーム位置制御部材駆動回路
103 送りステージ駆動回路
104 反射光出力
105 ウォブル変調周波数
106 回転系駆動回路
107 フォーカス誤差信号
108 記録レンズ駆動回路
109 トラッキング誤差信号

Claims (13)

1. フォトレジスト層が表面に形成された基板を回転させながら記録すべき信号で変調された記録レーザビームを記録レンズで絞り、前記フォトレジスト層を露光して、前記フォトレジスト層にらせん状の潜像を記録した後、前記フォトレジスト層を現像し、前記潜像に対応したパターンを前記フォトレジスト層に形成してなる光ディスクの原盤作製方法において、
   前記フォトレジスト層に前記記録レーザビームの照射位置を規定するガイド溝が形成されていることを特徴とする原盤作製方法。
   
2. フォトレジスト層が表面に形成された基板を回転させながら記録すべき信号で変調された記録レーザビームを記録レンズで絞り、前記フォトレジスト層を露光して、前記フォトレジスト層にらせん状の潜像を記録した後、前記フォトレジスト層を現像し、前記潜像に対応したパターンを前記フォトレジスト層に形成し、前記パターンが形成されたフォトレジスト層の上に導電性膜を形成し、前記導電性膜を電極としたニッケル電鋳でニッケルスタンバーを作製する方法において、
   前記フォトレジスト層に前記記録レーザビームの照射位置を規定するガイド溝が形成されていることを特徴とする原盤作製方法。
   
3. 前記ガイド溝が一定の周期で蛇行していることを特徴とする請求項1または請求項2記載の原盤作製方法。
   
4. 前記溝の深さが記録レーザの波長をλ、前記フォトレジストの屈折率をnとした時、λ／7n〜λ／9nの範囲であることを特徴とする請求項1、請求項２または請求項3記載の原盤作製方法。
   
5. 前記記録レーザビームの照射位置を前記ガイド溝の幅方向に変位させるビーム位置制御部材を有し、前記ガイド溝からの前記記録レーザビームの反射光より前記ガイド溝に対する前記記録レーザビームのトラキング誤差信号を検出し、前記トラキング誤差信号により前記記録レーザビームが前記ガイド溝の幅方向中心位置を照射するよう前記ビーム位置制御部材を制御することを特徴とする請求額1、請求項２、請求項３または請求項4記載の原盤作製方法。
   
6. 前記ビーム位置制御部材によって前記記録レーザビームと同等の変位を受け、前記記録レンズにより前記フォトレジスト層上に焦点を結ぶ、前記フォトレジスト層への吸収がない波長の補助レーザビームを設け、該補助レーザビームを前記記録レーザビームと同一半径上に照射させ、前記補助レーザビームの前記ガイド溝からの反射光よりトラッキング誤差信号を検出して前記ビーム位置制御部材によって前記補助レーザビームが前記ガイド溝の幅方向中心位置を照射するよう制御を行うことを特徴とする請求項1、請求項２、請求項３または請求項４記載の原盤作製方法。
   
7. 前記ビーム位置制御部材は、前記記録レーザビームまたは／および補助レーザビームを偏向させる方法であることを特徴とする請求項５または請求項６記載の原盤作製方法。
   
8. 前記記録レーザビームまたは補助レーザビームの反射光または請求項５、請求項６に記載の前記ビーム位置制御部材の駆動信号より前記溝の蛇行による変調成分を抜き出し、前記変調成分の周波数より前記基板を回転ざせる回転駆動部材の回転制御を行うことを特徴とする請求項1、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６または請求項７記載の原盤作製方法。
   
9. 前記フォトレジスト層が前記基板に形成された請求項１から請求項８までの何れかに記載のレジスト塗布済み原盤。
   
10. 請求項１から請求項８記載の何れかの方法で製作された原盤より作製された光ディスク。
    
11. 前記フォトレジスト層に前記ガイド溝を形成する方法であって、前記基板に前記フォトレジスト層が形成された後、前記フォトレジストをガラス転移点近傍に過熱し、溝形状の反転パターンの形状を有する金型を前記フォトレジスト層に押し当てて前記ガイド溝を形成することを特徴とするガイド溝の形成方法。
    
12. 請求項１１記載のガイド溝を形成する方法において、
    前記フオトレジスト層を過熱し、所望の温度に達した後に、前記溝形状の反転パターンの形状を有する金型を押し当てて前記フォトレジスト層に所望の形状の溝を形成し、前記型を前記フォトレジストが冷却してから前記フォトレジスト層から離すことを特徴とするガイド溝の形成方法。
    
13. 前記過熱温度が120℃〜140℃であることを特徴とする請求項１２に記載のガイド溝の形成方法。
    

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