JP2006329743A - 透過型電子顕微鏡用試料作製方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】透過型電子顕微鏡で観察するための試料の作製方法に関し、元のサンプルの表面近くの変化が少ない透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法を提供する。
【解決手段】薄片状に加工する前のサンプルにOs(オスミウム)からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。Os膜を形成する前に、Pt、Au、Pd、Pt−Pd、Au−Pdからなる群から選ばれる1種以上からなる予備保護膜を真空蒸着法により形成する前記記載の作製方法。
【選択図】 図1
【解決手段】薄片状に加工する前のサンプルにOs(オスミウム)からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。Os膜を形成する前に、Pt、Au、Pd、Pt−Pd、Au−Pdからなる群から選ばれる1種以上からなる予備保護膜を真空蒸着法により形成する前記記載の作製方法。
【選択図】 図1
Description
本発明は、透過型電子顕微鏡で観察するための試料の作製方法に関する。
透過型電子顕微鏡(以下、「TEM」ということがある。)は、半導体材料、金属材料、無機材料、高分子材料等の各種材料からなるサンプルの微細構造の観察用に産業上利用されている。試料をTEMにより観察するためには、試料は電子を透過させる必要があるため、元のサンプルを極めて薄い薄片状の試料に加工する必要がある。
例えば、元のサンプルから試料を作製する方法であるFIB(集束イオンビーム)法においては、強い集束イオンビームを照射して元のサンプルから薄片状の部分を残して他の部分を切り取って削除し、その断面を観察することができる薄片状の試料を作製する。
しかしながら、切り取られた面は、強い集束イオンビームが照射されて切り取られた面であるので、元のサンプルの表面近く(FIB法により切り取られた面から見ると一方の端部になる。)が変化し、FIB加工により作製された試料の観察においては元のサンプルの表面近くの状況が、不明となるという問題点があった。
そこで、元のサンプルの表面に保護膜としてW(タングステン)からなる膜を形成した後にFIB加工を行うことが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。Wからなる保護膜形成して作製されたTEM用試料により、元のサンプルの表面から30〜100nm程度以上離れた部分は変化することなく、観察することができるようになったが、十分ではなく、元のサンプルの表面近くの変化がさらに少なくなるTEM用試料の作製方法が求められていた。
本発明の目的は、元のサンプルの表面近くの変化が少ない透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法を提供することにある。
本発明者らは、前記課題を解決するため、TEM用の試料の作製における保護膜について鋭意検討した結果、薄片状に加工する前のサンプルに特定の物質からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることにより、該試料は元のサンプルの表面近くの変化が極めて少ないTEM用の試料となることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、薄片状に加工する前のサンプルにOs(オスミウム)からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。
本発明のTEM用の試料の作製方法によれば、元のサンプルの表面近くの変化が極めて少ないTEM用試料を作製することができるので、半導体材料、金属材料、無機材料、高分子材料等の各種材料の微細構造の観察用、特に半導体材料の観察用に好適であり、観察結果を製造工程の管理に用いることができるので、本発明は工業的に極めて有用である。
本発明のTEM用試料の作製方法は、薄片状に加工する前のサンプルにOs(オスミウム)からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする。Osを保護膜として形成してから薄片状に加工することにより、その理由は必ずしも明らかではないが、驚くべきことに、元のサンプルの表面近くの変化が極めて少なく、極表面まで正確にTEMにより観察することができるTEM用試料を作製することができるのである。
本発明のTEM用試料の作製方法の加工前の元のサンプルは、半導体材料、金属材料、無機材料、高分子材料等のいずれからなるものでもよい。具体的には、半導体材料としては、Si半導体、GaAs半導体、GaN半導体、Ge半導体が挙げられ、金属材料としてはMg、Al、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、ランタノイド金属、Hf、Ta、W、Re、Ir、Pt、Au、Pb、Biおよびこれらの合金が挙げられ、無機材料としては、前記金属元素の酸化物、窒化物および炭化物が挙げられ、高分子材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエステルが挙げられる。
上記の材料からなるサンプルであって、本発明のTEM用試料の作製方法を好適に適用することができる具体的な例としては、サンプルが半導体材料からなる場合としては、表面に酸化物からなる薄膜を有するSi半導体、表面に炭素やSiがドープされ薄膜状のドープ部分を有するGaAs半導体、InxGayN1-x-y膜の上にInの割合が異なる別のInxGayN1-x-y薄膜が積層された半導体、表面に内部とは異なる化合物の薄膜(厚さは例えば10nm程度)を有するGaAs半導体が挙げられ、サンプルが金属材料からなる場合としては、表面に酸化物からなる薄膜を有する金属Ni、表面にNiメッキ薄膜を有する金属Cuなどが挙げられ、サンプルが高分子材料からなる場合としては、表面に反射防止コーティング薄膜を有するポリカーボネート、表面にSiO2からなるガスバリア薄膜を有するポリエチレンテレフタレートなどが挙げられ、いずれも薄膜と表面に薄膜が形成された材料との界面を観察するための断面を有する試料の作製方法として本発明のTEM用試料の作製方法は好適に適用することができる。
これらの材料からなるサンプルの中でも、本発明のTEM用試料の作製方法において、薄片状に加工する前の元のサンプルが半導体材料からなる場合が好ましく、Si半導体およびGaAs半導体からなる半導体材料である場合がさらに好ましい。
薄片状に加工する前のサンプルの表面に形成する膜はOsからなる膜である。
Osからなる膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法により形成することができ、特にCVD法が好ましく、CVD法による膜の形成装置として、Osプラズマコータが好適に用いられる。Osプラズマコータとしては具体的には、日本レーザー電子(株)製のNL−OPC80A型、(株)真空デバイス製のHPC−1S型があげられる。Os膜の厚さとしては通常は50〜500nmであり、100〜300nmが好ましい。
Osからなる膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法により形成することができ、特にCVD法が好ましく、CVD法による膜の形成装置として、Osプラズマコータが好適に用いられる。Osプラズマコータとしては具体的には、日本レーザー電子(株)製のNL−OPC80A型、(株)真空デバイス製のHPC−1S型があげられる。Os膜の厚さとしては通常は50〜500nmであり、100〜300nmが好ましい。
薄片状に加工する前のサンプルの表面に、Os膜を形成する前に、Pt、Au、Pd、Pt−Pd、Au−Pd等のいずれか1種以上からなる予備保護膜を真空蒸着法により形成してもよい。この予備保護膜をOs膜を形成する前に真空蒸着法により形成しておくと、元のサンプルの表面の変化がさらに少なくなる傾向があるので、好ましい。真空蒸着法以外の膜形成方法のスパッタリング法、CVD法等により予備保護膜を形成すると、元のサンプルの表面の変化が大きくなる傾向があるので、好ましくない。予備保護膜の厚さは、通常は1〜100nm程度である。
Os以外の物質からなる膜を、Os膜の形成後にさらにその上に積層してもよい。Os膜の上にさらに積層することができる膜としては、例えば具体的には、W、C(炭素)、Pt、Au、Pd、Pt−Pd、Au−Pd、Cu、Si、Sn、SnO2、ZnO2、ITO等からなる膜を挙げることができる。これらの膜の形成方法は特に限定されず、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法等を用いることができる。
本発明のTEM用試料の作製方法においては、上記のとおり、薄片状に加工する前の元のサンプルにOs膜および必要であればその他の膜を形成した後に、加工して薄片状とする。
加工の方法は、TEMによる観察が可能な薄片状の試料が得られれば、FIB法、イオンシニング法、ミクロトーム法等のいずれの方法を用いることもできるが、FIB法とイオンシニング法が好ましく、FIB法がより好ましい。
加工の方法は、TEMによる観察が可能な薄片状の試料が得られれば、FIB法、イオンシニング法、ミクロトーム法等のいずれの方法を用いることもできるが、FIB法とイオンシニング法が好ましく、FIB法がより好ましい。
FIB法による加工は、市販のFIB加工装置によって行うことができ、通常は加速電圧10〜40kVで加速されたガリウムイオンのビームを用いるFIB装置により行う。FIB加工装置としては、例えば、日立ハイテクノロジーズ(株)製のFB−2100型、エスエスアイナノテクノロジー(株)製のSMI3050型が挙げられる。
FIB加工を行うにあたり、あらかじめダイシング加工により、例えば1.5cm×250μm程度の大きさにサンプルを切断し、その後FIB法により薄片状に加工してTEM用試料としてもよい。
また、FIB加工装置内で観察箇所の周囲に強いビームでサンプルに穴を掘った後、プローブを用いて観察箇所を摘出して試料台に固定し、その後に薄片状に加工(マイクロサンプリング法)してもよい。
また、FIB加工装置内で観察箇所の周囲に強いビームでサンプルに穴を掘った後、プローブを用いて観察箇所を摘出して試料台に固定し、その後に薄片状に加工(マイクロサンプリング法)してもよい。
こうして得られた本発明の作製方法による試料においては、薄片状に加工する前の元のサンプルの表面付近に加工に伴う変化が少なく、変化する領域が表面から1〜5nm程度まで少なくすることができ、元のサンプルの表面付近の観察を正確に行うことができる。
本発明のTEM用試料作製方法は品質管理に用いることもできる。
生産された製品から無作為にサンプリングし、サンプリングされて得られたサンプルから本発明のTEM用試料作製方法により試料を作製する。この試料を用いてTEM観察を行い、サンプルの表面層の厚さや表面付近に存在する組織の大きさなどを測定し、データを得る。得られた複数のデータから、統計的品質管理の手法を用いた母集団の標準偏差の推定、母集団の平均値の推定等を行い、また、以前に製造したサンプルとの差の検定を行うことができる。また、管理図を作成して該製品の生産工程を安定な状態に保つよう管理することができる。
生産された製品から無作為にサンプリングし、サンプリングされて得られたサンプルから本発明のTEM用試料作製方法により試料を作製する。この試料を用いてTEM観察を行い、サンプルの表面層の厚さや表面付近に存在する組織の大きさなどを測定し、データを得る。得られた複数のデータから、統計的品質管理の手法を用いた母集団の標準偏差の推定、母集団の平均値の推定等を行い、また、以前に製造したサンプルとの差の検定を行うことができる。また、管理図を作成して該製品の生産工程を安定な状態に保つよう管理することができる。
以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
サンプルとして、直径8インチのSiウエハから切り出したSiウエハサンプルを用いた。Siウエハの半導体素子を形成する側を表側面とし、Siウエハサンプルの表側面の表面にPt−Pdの膜を真空蒸着法により形成した。真空蒸着法による膜の形成には日本電子(株)製のJEE−4X型の装置を用い、1mmφで長さ10cmのPt−Pdワイヤーを蒸着源とし、電極に20Aの電流を流し、ワイヤーが蒸発して無くなるまで過熱してPt−Pdの膜を形成した。後のTEM観察の結果、この膜厚は20nm程度であった。
サンプルとして、直径8インチのSiウエハから切り出したSiウエハサンプルを用いた。Siウエハの半導体素子を形成する側を表側面とし、Siウエハサンプルの表側面の表面にPt−Pdの膜を真空蒸着法により形成した。真空蒸着法による膜の形成には日本電子(株)製のJEE−4X型の装置を用い、1mmφで長さ10cmのPt−Pdワイヤーを蒸着源とし、電極に20Aの電流を流し、ワイヤーが蒸発して無くなるまで過熱してPt−Pdの膜を形成した。後のTEM観察の結果、この膜厚は20nm程度であった。
次に、Pt−Pdの膜のうえにOs膜をCVD法により形成した。CVD法による膜の形成には、日本レーザー電子(株)製のNL−OPC80A型の装置を用い、原料ガスとしてOsO4ガスを用い、放電電圧が1.2kV、放電電流が3mA、放電時間が3分間の条件で行った。後のTEM観察の結果、この膜厚は200nm程度であった。
こうして、表側面の表面に、Pt−Pdの膜とOs膜をこの順で積層したSiウエハサンプルからTEM観察用の薄片状の試料をFIB法により切り出して作製した。FIB法による薄片状試料の作製は、日立ハイテクノロジーズ(株)製のFB−2000C型の装置を用い、加速電圧が40kV、加工範囲が幅10μm程度で深さ3μm程度、薄片の厚さが80nm程度の条件で行った。
得られた試料を、日立ハイテクノロジーズ製のHF−2000型の透過型電子顕微鏡により観察した。用いた電子線の加速電圧は200kVであり、倍率は直接倍率で100000倍として観察および写真撮影を行った。焼き付け時にネガを5倍に引き伸ばしてプリントを得た(図1)。その結果、Siウエハの表側面の表面酸化層を明確に観察することができ、その厚さは50nm程度であることがかわった。
比較例1
Pt−Pdの膜とOs膜を形成せずに、W膜を形成(図2の写真には「Wデポ」と表示)した以外は、実施例1と同様にしてTEM観察用薄片状試料を作製した。
W膜の形成には、CVD法を用い、CVD法による膜の形成には、日立ハイテクノロジーズ(株)製のFB−2000C型の装置を用い、原料ガスとしてW(CO)6を用い、加速電圧が40kV、加工範囲を1×10μm程度の範囲とする条件で行った。
Pt−Pdの膜とOs膜を形成せずに、W膜を形成(図2の写真には「Wデポ」と表示)した以外は、実施例1と同様にしてTEM観察用薄片状試料を作製した。
W膜の形成には、CVD法を用い、CVD法による膜の形成には、日立ハイテクノロジーズ(株)製のFB−2000C型の装置を用い、原料ガスとしてW(CO)6を用い、加速電圧が40kV、加工範囲を1×10μm程度の範囲とする条件で行った。
得られた試料を、実施例1と同一のTEMを用いて試料の表側面の表面付近を観察したが、表面付近はSiがアモルファス化し、かつ表面酸化層が変化したため表面酸化層が不明瞭となり、観察することはできなかった。
Claims (5)
- 薄片状に加工する前のサンプルにOs(オスミウム)からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。
- Os膜を形成する前に、Pt、Au、Pd、Pt−Pd、Au−Pdからなる群から選ばれる1種以上からなる予備保護膜を真空蒸着法により形成する請求項1記載の作製方法。
- 加工がFIB法による加工である請求項1または2に記載の作製方法。
- サンプルが半導体材料からなる請求項1〜3のいずれかに記載の作製方法。
- Os以外の物質からなる膜を、Os膜の形成後にさらにその上に積層し、その後に加工して薄片状とする請求項1〜3のいすれかに記載の作製方法。
Priority Applications (1)
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JP2005151914A JP2006329743A (ja) | 2005-04-26 | 2005-05-25 | 透過型電子顕微鏡用試料作製方法 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN103021802A (zh) * | 2011-09-23 | 2013-04-03 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件的检测样本制作方法及检测样本 |
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CN103868770A (zh) * | 2014-02-24 | 2014-06-18 | 燕山大学 | 颗粒状Fe-C化合物透射电镜原位拉伸试样的制备方法 |
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2005
- 2005-05-25 JP JP2005151914A patent/JP2006329743A/ja active Pending
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