JP2006326948A - 微細構造転写装置 - Google Patents

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Abstract


【課題】
ロールの回転速度を高くし生産性を高めても期待したパターンを転写することができる微細構造転写装置を提供することである。
【解決手段】
樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置であり、スタンパを有するべルト9をスタンパのパターン面が樹脂層2側となるようにして樹脂層2と対向させ、多段に設けたローラ13によりベルト9を介してスタンパを樹脂層2に加熱加圧し、転写する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、表面にナノメートル又はマイクロメートル単位の微細な凹凸が形成されたスタンパを用い、樹脂層に微細構造体を形成する微細構造転写装置に関する。
近年、半導体集積回路は微細化,集積化が進んでおり、その微細加工を実現するためのパターン転写技術として、下記特許文献1において開示された微細構造転写技術がある。
下記特許文献に開示された技術は、形成したいパターンと同じパターンの凹凸を有する無端ベルト状のスタンパを基板表面に形成されたレジスト層(樹脂層)に対してヒータ内蔵のロールで型押しすることで、スタンパにおけるパターンを連続的に転写するものである。
特開2003-291211号公報
上記微細構造転写方式では、レジスト層加熱のためのヒータを設けたロールの回転による線(1次元)加圧となるので、大面積への転写も比較的容易である。
しかしながら、加熱加圧を行うロールは単段であり、パターンのアスペクト比が高い場合、十分な加熱軟化転写ができないことがある。特に、スタンパ側が孔構造で柱状構造を生成しようとする場合、レジスト層が軟化してスタンパの孔に十分進入するようにするためには、ロールの回転速度を落とす必要があり、そうすると、タクトタイムは下がり、生産性が低下する。
それゆえ本発明の目的は、ロールの回転速度を高くし生産性を高めても期待したパターンを転写することができる微細構造転写装置を提供することにある。
上記目的を達成する本発明微細構造転写装置の特徴とするところは、樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、該樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、スタンパを有するべルトをスタンパのパターン面が該樹脂層側となるようにして該樹脂層と対向させ、多段に設けたローラにより該ベルトを介して該スタンパを該樹脂層に加熱加圧することにある。
さらに、上記目的を達成する本発明微細構造転写装置の特徴とするところは、多段に設けた各ローラの円周部に上流側のものから下流側のものに向けて順次厚さが薄くなる弾性部材を設けてあることにある。
本発明装置によれば、多段のロールで次第に樹脂層の温度を高くしてスタンパのパターン面における微細構造へ樹脂の充分な充填を行うことができるので、各ロールの回転速度を高くしてもスタンパのパターンを確実に転写できる。
以下、図に示す実施形態について説明する。
図1において、1は被転写フィルム2の供給ロール、3は被転写フィルム2の巻取ロールである。供給ロール1から繰り出した被転写フィルム2は、水平状態になって図において左の上流側から右の下流側に向けて移動し、巻取ロール3で巻き取っている。
被転写フィルム2は微細な構造が転写されるもので、基材の上に樹脂薄層を設けた多層構造のものや樹脂膜よりなる単層構造のものである。それらの樹脂層としては熱可塑性樹脂に限定されないが、所望する加工精度に応じて材質が選択され、一例としてポリスチレンを用いている。
熱硬化性樹脂でもよく、それらを2種以上ブレンドした材料を用いることが可能である。これら樹脂層の厚さは数nmから数十μmであるが、これより厚くとも問題はない。
被転写フィルム2の各面はカバーフィルム4で保護してあり、供給ロール1から巻き出した直後に各カバーフィルム4を剥離してそれぞれ巻取ロール5で巻き取っている。巻取ロール3が被転写フィルム2を巻き取るとき、供給ロール6から供給される保護フィルム7を一緒に巻き取って層間に配送している。
9は供給ロール1から巻取ロール3の間の上下に設けたエンドレスベルトスタンパで、無端(エンドレス)のSUS製薄板の外周面上にNi箔のスタンパを接着剤で固定したものである。
各エンドレスベルトスタンパ9は、駆動ローラ10,従動ローラ11,張力調整ローラ12の間を巡回する。順路(巡回方向)は、駆動ローラ10から張力調整ローラ12を経て従動ローラ11に至り、駆動ローラ10に戻るものである。なお、従動ローラ11にヒータを内蔵させて、各エンドレスベルトスタンパ9への予熱機能を持たせるようにしてもよい。
従動ローラ11と駆動ローラ10の間、即ち、図において左の上流側から右の下流側に向けて複数の加熱加圧ローラ13を多段に配置してある。複数の加熱加圧ローラ13は上下に存在し、上下の各加熱加圧ローラ13間を上下のエンドレスベルトスタンパ9が被転写フィルム2を挟んだ状態で同じ速度で搬送・移動される。
各加熱加圧ローラ13にはバックアップローラ14を設けてあり、バックアップローラ14の加圧で各加熱加圧ローラ13間の被転写フィルム2にエンドレスベルトスタンパ9のパターンを転写する。バックアップローラ14は、被転写フィルム2の搬送方向に直交する幅方向において上下の各加熱加圧ローラ13による加圧力を均一化するものである。
転写の微細構造はエンドレスベルトスタンパ9に存在し、加熱加圧ロール13は円筒状で外表面に微細構造が形成されていないことにより、バックアップロール14は加熱加圧ロール13と協働でエンドレスベルトスタンパ9に幅方向における加圧均一性を付与することができる。
各加熱加圧ローラ13は電熱線,インダクティブヒータ,赤外線ヒータなどを内蔵しており、被転写フィルム2を加圧する際に加熱するが、その際の加熱温度は転写される樹脂のガラス転移温度Tg以上であることが好ましい。
上流側の各加熱加圧ローラ13から下流側の各加熱加圧ローラ13に掛けて被転写フィルム2を高速で搬送して、各加熱加圧ローラ13で各被転写フィルム2がガラス転移温度Tg以上になるように段階的に加熱していく。従って、エンドレスベルトスタンパ9の転写パターンが高アスペクト比のものであっても、被転写フィルム2の樹脂は十分に軟化してエンドレスベルトスタンパ9におけるスタンパの微細な凹凸(パターン面)に従った形に変形し充填されて、期待した転写を得ることができる。
なお、上流側の各加熱加圧ローラ13から下流側の各加熱加圧ローラ13に掛けて加熱温度を順次高く設定して、急激な加熱により被転写フィルム2からガスが発生しないようにし、発生ガスによるボイド発生を防ぐようにしてもよい。
張力調整ローラ12と各加熱加圧ローラ13と各バックアップローラ14は、同時にそれぞれ上下に移動できるようにしてあり、被転写フィルム2から離れる方向に移動させると、従動ローラ11と駆動ローラ10の間のエンドレスベルトスタンパ9は被転写フィルム2から離れるようになっている。
即ち、従動ローラ11と駆動ローラ10は供給ロール1と巻取ロール3を結ぶ被転写フィルム2の搬送位置から上下に若干離れた位置にあり、バックアップローラ14により各加熱加圧ローラ13を加圧すると、エンドレスベルトスタンパ9は従動ローラ11から上流の各加熱加圧ローラ13に向けて被転写フィルム2に対し微小角度で進入していき、上流側と下流側の各加熱加圧ローラ13の間では水平であるが、下流側の各加熱加圧ローラ13から駆動ローラ10に向けて被転写フィルム2に対し微小角度で乖離していく。
各エンドレスベルトスタンパ9は張力調整ローラ12によってその張力を調整され、各加熱加圧ローラ13が被転写フィルム2から離れた状態でも、その張力を維持することができる。
供給ロール1から巻き出された被転写フィルム2は、上下面の保護フィルム4,5が剥離されると除電器16によって両面を除電され、上下のエンドレスベルトスタンパ9の間を通って、再度除電器17によって両面を除電されてから、供給ロール6から巻き出された保護フィルム7と共に巻取ロール3に巻き取られる。
供給ロール1と巻取ロール3の回転トルクによって、被転写フィルム2は張力を保持される。被転写フィルム2はエンドレスベルトスタンパ9に挟まれた空間に置いて、必要に応じて予熱ヒータ18で予熱された後、加熱加圧ロール13によってエンドレスベルトスタンパ9と共に加熱・加圧・転写され、その後エンドレスベルトスタンパ9は次第に離れ剥離される。
また、剥離時の温度は剥離温度調整ヒータ19により調整され、望ましい温度に保たれる。上下のエンドレスベルトスタンパ9を取り囲むように、上下に保温ケース20が設けられ、加熱加圧ロール13の各段間の温度差を小さく保つことにより、エンドレスベルトスタンパ9と被転写フィルム2の熱膨張量の差によって生じる位置ずれを防止する。
エンドレスベルトスタンパ9に挟まれた空間の進行方向長に充分な長さを取り、エンドレスベルトスタンパ9と被転写フィルム2の間隔を充分小さく保つようにしている。
図2に図1の3個の加熱加圧ロール13がエンドレスベルトスタンパ9により被転写フィルム2にパターンを転写している状況を示しており、エンドレスベルトスタンパ9に形成されたパターンは垂直に近い角度で被転写フィルム2に押し付けられ、徐々に高い温度に加熱され、垂直に近い角度で被転写フィルム2から剥離されること(被転写フィルム2に向かうエンドレスベルトスタンパ9の微小角度による進入と乖離)によって、エンドレスベルトスタンパ9に形成されたパターンは被転写フィルム2に忠実に転写される。
なお、図2(b)は、図2(a)のA−A矢視方向での被転写フィルム2に転写したパターンを示している。
エンドレスベルトスタンパ9がシームレスである場合は、加熱加圧ロール13が駆動し駆動ロール10はエンドレスベルトスタンパ9のガイドロールとして動作するのが望ましいが、エンドレスベルトスタンパ9の交換等のために途中に繋ぎ目を設けた場合は、エンドレスベルトスタンパ9の内面即ちパターンが形成されていない面に光学式マークを設けておき、マーク位置検知器22で光学式マークを検出し、繋ぎ目が上流側の加熱加圧ロール13に達したところで、各加熱加圧ロール13をバックアップローラ14とともにエンドレスベルトスタンパ9から引き離すことによって一時的に退避させ、エンドレスベルトスタンパ9は被転写フィルム2から離れている間に駆動ローラ10で進行させることにより、エンドレスベルトスタンパ9の繋ぎ目を下流側の加熱加圧ロール13を通過させ、ベルト繋ぎ目の凹凸が被転写フィルム2に転写しないようにすることができる。
また、上下のエンドレスベルトスタンパ9の搬送方向でのずれはエンドレスベルトスタンパ9に設けてある光学式マークをマーク位置検知器22でそれぞれ検知することにより、位置ずれがあると確認できたときは、加熱加圧ロール13をエンドレスベルトスタンパ9から引き離して一時的に退避させ、その間に上下のエンドレスベルトスタンパ9のいずれか一方を他方に対し駆動ロール10で移動させることにより、上下のエンドレスベルトスタンパ9の位置ずれが所定の範囲内に留めて転写を継続することが出来る。繋ぎ目があるエンドレスベルトスタンパ9の場合には繋ぎ目を送る際に位置合わせを行えばよい。
また、加熱加圧ロール13及びエンドレスベルトスタンパ9が被転写フィルム2から離れている間に、巻取ロール3の回転により被転写フィルム2を進行させ、転写パターンの重なりを防止することができる。
使用する加熱加圧ロール13の段数は、転写パターンや被転写フィルム2の材質により任意に変えることができる。
図3により本発明の他の実施形態を説明する。
図3に示す実施形態では、各加熱加圧ロール13について上流側の初段から下流側の終段に向かって搬送方向での被転写フィルム2と各加熱加圧ロール13との接触幅が次第に狭くなるように表面の弾性材13aの厚さ及び有無を調整し、表面に微細構造を構成したエンドレスベルトスタンパ9と共に保温ケース20に収めている。
1段目と2段目の各加熱加圧ロール13はゴムロールであるが、その弾性材13aとしてのゴムの巻き厚は1段目の方が厚い。これは、各段ごとに被転写フィルム2との加圧接触幅を最初は大きくして充分な伝熱を行い、次第に加圧接触幅を少なくし、接触圧力を次第に高め、スタンパの微細構造への被転写フィルム2の充填率が充分に高まるようにしている。
上流側の2段の加熱加圧ロール13はゴムロールであり加圧力均一化の効果が薄いので、全加熱加圧ロール13についてバックアップローラは省略している。被転写フィルム2の搬送などは、図1の実施形態のものと同様であるので、それらの動作説明は省略する。
この実施形態に代えて、各加熱加圧ロール13の口径を下流に進む程小さなものとし、下流側の各加熱加圧ロール13の加圧力が高まるようにしてもよい。
図4により本発明の他の実施形態を説明する。
図4に示す実施形態では、装置全体を上下に2分割できる分割型真空チャンバ25に納め、内部を真空化できるようにしている。真空チャンバ25は図1に示す保温ケース20の効果を持つので、この実施形態では保温ケースは用いていない。
真空チャンバ25は供給ロール1や巻取ロール3の交換などにおいて開放し、転写処理中は閉じて内部を真空化する。
真空チャンバ25の内部を真空ポンプなどにより真空引きすることにより、真空環境での転写が行えるようになり、転写時に被転写フィルム2とエンドレスベルトスタンパ9の間の微小空間も真空にし、加熱することにより被転写フィルム2から発生するガスでボイドが発生することを防止することができる。
真空チャンバ25を貫通するのは電力や信号の配線やガス供給や排気のための配管などのみであり、原料も製品も真空チャンバ25内部にあることから、供給ロール1に巻かれた原料が無くなるまで連続して真空中で加工できる。貫通部での摺動がないので容易に真空を維持できる。真空チャンバ25は2分割に限らず、3分割できるものでも良い。
図5により本発明の他の実施形態を説明する。
図5に示す実施形態では、被転写フィルム2の片面(上面)に微細構造のパターンを転写するようにしており、また、各加熱加圧ロール13は上流側から下流側に向けて口径が小さいものを使用し、加圧力が下流側に進む程高くなるようにしてある。バックアップローラ14は下流側のもの程口径を大きいものとし、幅方向での加圧力均一化を図っている。
以上の実施形態における内容は、適宜に組み合わせて実施することができる。
本発明の一実施形態になる微細構造転写装置の概略図である。 図1の微細構造転写装置が微細構造を転写する状況を説明する図である。 本発明の他の実施形態になる微細構造転写装置の概略図である。 本発明の他の実施形態になる微細構造転写装置の概略図である。 本発明の他の実施形態になる微細構造転写装置の概略図である。
符号の説明
1,6‥供給ロール
2‥被転写フィルム
3,5‥巻取ロール
4,7‥保護フィルム
9‥エンドレスベルトスタンパ
10‥駆動ローラ
11‥従動ローラ
12‥張力調整ローラ
13‥加熱加圧ローラ
14‥バックアップローラ

Claims (5)

  1. 樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、該樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、
    スタンパを有するべルトをスタンパのパターン面が該樹脂層側となるようにして該樹脂層と対向させ、多段に設けたローラにより該ベルトを介して該スタンパを該樹脂層に加熱加圧することを特徴とする微細構造転写装置。
  2. 上記請求項1において、多段に設けた該各ローラの円周部に上流側のものから下流側のものに向けて順次厚さが薄くなる弾性部材を設けてあることを特徴とする微細構造転写装置。
  3. 上記請求項1において、該各ローラは上流側のものから下流側のものに向けて順次加熱温度が高くなるようにしてあることを特徴とする微細構造転写装置。
  4. 上記請求項1において、装置全体を真空チャンバに納めてあることを特徴とする微細構造転写装置。
  5. 上記請求項1において、該各ローラはバックアップローラで加圧するようになっていることを特徴とする微細構造転写装置。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007019451A (ja) * 2005-06-10 2007-01-25 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ナノインプリント方法及び装置
JP2008155413A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Hitachi Ltd 微細構造転写装置および微細構造転写方法
US7654815B2 (en) 2007-09-27 2010-02-02 Hitachi, Ltd. Belt-shaped mold and nanoimprint system using the belt-shaped mold
JP2010516064A (ja) * 2007-01-16 2010-05-13 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ フレキシブルシート及び基板の接触のためのシステム及び方法
EP2319680A2 (en) 2009-11-09 2011-05-11 Hitachi Industrial Equipment Systems Co., Ltd. Fine structure formation apparatus
JP2012505095A (ja) * 2008-10-07 2012-03-01 マニュファクチュアリング システムズ リミテッド 成形方法
KR101141968B1 (ko) 2010-02-08 2012-05-04 주식회사 세코닉스 양면 미세 패턴 필름 제조 장치 및 그 제조 방법
CN104303104A (zh) * 2012-02-22 2015-01-21 佳能纳米技术公司 大面积压印光刻
WO2015186736A1 (ja) * 2014-06-03 2015-12-10 Scivax株式会社 ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法
US10357903B2 (en) 2012-12-06 2019-07-23 Scivax Corporation Roller-type pressurization device, imprinter, and roller-type pressurization method
KR20210018154A (ko) 2019-08-09 2021-02-17 아이메카테크 가부시키가이샤 미세 구조 전사 장치 및 미세 구조 전사 방법
JP2021182641A (ja) * 2017-05-25 2021-11-25 マジック リープ, インコーポレイテッドMagic Leap, Inc. 両面インプリンティング
US11921290B2 (en) 2017-10-26 2024-03-05 Magic Leap, Inc. Augmented reality display having liquid crystal variable focus element and roll-to-roll method and apparatus for forming the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54108865A (en) * 1978-02-15 1979-08-25 Matsushita Electric Works Ltd Embossing machine for extrusion molded product
JPS56159039A (en) * 1980-05-09 1981-12-08 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of transparent television screen
JPS56159127A (en) * 1980-05-12 1981-12-08 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of fresnel lens
JPH10230547A (ja) * 1997-02-19 1998-09-02 Dainippon Printing Co Ltd オレフィン化粧シートの製造方法及び製造装置
JP2001341147A (ja) * 2000-06-01 2001-12-11 Nichigo Morton Co Ltd 真空積層装置及び積層方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54108865A (en) * 1978-02-15 1979-08-25 Matsushita Electric Works Ltd Embossing machine for extrusion molded product
JPS56159039A (en) * 1980-05-09 1981-12-08 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of transparent television screen
JPS56159127A (en) * 1980-05-12 1981-12-08 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of fresnel lens
JPH10230547A (ja) * 1997-02-19 1998-09-02 Dainippon Printing Co Ltd オレフィン化粧シートの製造方法及び製造装置
JP2001341147A (ja) * 2000-06-01 2001-12-11 Nichigo Morton Co Ltd 真空積層装置及び積層方法

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007019451A (ja) * 2005-06-10 2007-01-25 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ナノインプリント方法及び装置
JP2008155413A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Hitachi Ltd 微細構造転写装置および微細構造転写方法
JP2010516064A (ja) * 2007-01-16 2010-05-13 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ フレキシブルシート及び基板の接触のためのシステム及び方法
US7654815B2 (en) 2007-09-27 2010-02-02 Hitachi, Ltd. Belt-shaped mold and nanoimprint system using the belt-shaped mold
JP2012505095A (ja) * 2008-10-07 2012-03-01 マニュファクチュアリング システムズ リミテッド 成形方法
EP2319680A2 (en) 2009-11-09 2011-05-11 Hitachi Industrial Equipment Systems Co., Ltd. Fine structure formation apparatus
JP2011098530A (ja) * 2009-11-09 2011-05-19 Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd 微細構造転写装置
US8485811B2 (en) 2009-11-09 2013-07-16 Hitachi Industrial Equipment Systems Co., Ltd. Fine structure formation apparatus
KR101141968B1 (ko) 2010-02-08 2012-05-04 주식회사 세코닉스 양면 미세 패턴 필름 제조 장치 및 그 제조 방법
JP2015513797A (ja) * 2012-02-22 2015-05-14 キャノン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド 大面積インプリント・リソグラフィ
CN104303104A (zh) * 2012-02-22 2015-01-21 佳能纳米技术公司 大面积压印光刻
US10357903B2 (en) 2012-12-06 2019-07-23 Scivax Corporation Roller-type pressurization device, imprinter, and roller-type pressurization method
WO2015186736A1 (ja) * 2014-06-03 2015-12-10 Scivax株式会社 ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法
JPWO2015186736A1 (ja) * 2014-06-03 2017-04-20 Scivax株式会社 ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法
US10421218B2 (en) 2014-06-03 2019-09-24 Scivax Corporation Roller-type depressing device, imprinting device, and roller-type depressing method
JP2021182641A (ja) * 2017-05-25 2021-11-25 マジック リープ, インコーポレイテッドMagic Leap, Inc. 両面インプリンティング
JP7087178B2 (ja) 2017-05-25 2022-06-20 マジック リープ, インコーポレイテッド 両面インプリンティング
US11498261B2 (en) 2017-05-25 2022-11-15 Magic Leap, Inc. Double-sided imprinting
JP7374262B2 (ja) 2017-05-25 2023-11-06 マジック リープ, インコーポレイテッド 両面インプリンティング
US11921290B2 (en) 2017-10-26 2024-03-05 Magic Leap, Inc. Augmented reality display having liquid crystal variable focus element and roll-to-roll method and apparatus for forming the same
KR20210018154A (ko) 2019-08-09 2021-02-17 아이메카테크 가부시키가이샤 미세 구조 전사 장치 및 미세 구조 전사 방법

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JP4665608B2 (ja) 2011-04-06

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