JP2006324124A - Electron beam generating device and tft array substrate inspection device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フィラメントから電子ビームを発生する電子ビーム発生装置、及び電子ビームによってTFTアレイ基板の基板検査を行うTFTアレイ基板検査装置に関し、特に、電子ビームのビーム電流の自動制御に関する。 The present invention relates to an electron beam generator for generating an electron beam from a filament, and a TFT array substrate inspection apparatus for inspecting a TFT array substrate with an electron beam, and more particularly to automatic control of an electron beam current.
TFTアレイ基板検査装置は、欠陥検出用信号パターンでTFT基板を駆動し、その結果TFT基板に発生するITO電圧を電子ビーム照射により発生する二次電子の強度で検出し、アレイ全体の良否を判定している。 The TFT array substrate inspection device drives the TFT substrate with a defect detection signal pattern, and as a result, detects the ITO voltage generated on the TFT substrate by the intensity of secondary electrons generated by electron beam irradiation, and determines the quality of the entire array. is doing.
このようなTFTアレイ基板検査装置において、TFTアレイ基板の良否判定を良好に行うためには、TFTアレイ基板に照射する電子ビームのビーム電流が一定である必要があるが、このビーム電流は、電子ビームを発生するフィラメントの抵抗等の種々の要因によって変動する。 In such a TFT array substrate inspection apparatus, the beam current of the electron beam applied to the TFT array substrate needs to be constant in order to make a good determination of the quality of the TFT array substrate. It varies depending on various factors such as the resistance of the filament generating the beam.
TFTアレイ基板検査装置において、ビーム電流の調整は、通常、必要に応じて手動によって行われている。 In the TFT array substrate inspection apparatus, adjustment of the beam current is usually performed manually as necessary.
これに対して、本発明の出願人は、フィラメントが熱電子放出するエミッション電流を一定とすることによって、フィラメント電流及びエミッション電流が設定値を超えないようにするフィラメント点灯電源回路を提案している。 On the other hand, the applicant of the present invention has proposed a filament lighting power supply circuit in which the filament current and the emission current do not exceed the set values by making the emission current that the filament emits thermoelectrons constant. .
図4はフィラメント点灯電源回路101の概略を説明するためのブロック構成図である。フィラメント点灯電源回路101は、フィラメント103とフィラメント電流モニタ104とフィラメント点灯回路102から構成される内ループと、その外側でフィラメント103とエミッション電流モニタ105とCPU106とフィラメント点灯回路102から構成される外ループの2つの制御系により制御回路を構成し、フィラメント電流をモニタして点灯回路にフィードバックすることにおりフィラメント電流を設定値に制御し、同時に、エミッション電流をモニタし、CPU処理によってエミッション電流を一定に制御することで、フィラメントの過剰電流を抑制している(特許文献1参照)。
FIG. 4 is a block diagram for explaining the outline of the filament lighting
一般に、フィラメントは常温状態の電気抵抗は小さいため、フィラメントの点灯時点では、フィラメント電流は急激に立ち上がり、フィラメント電流が流れることでフィラメントが加熱されて電気抵抗が大きくなるとフィラメント電流は安定状態となる。フィラメント電流が安定状態となると、エミッション電流も安定するので、エミッション電流を検知してフィードバックすることでエミッション電流を一定に制御することができる。 In general, since the filament has a low electrical resistance in a room temperature state, the filament current rises rapidly at the time of lighting of the filament, and the filament current becomes stable when the filament is heated to increase the electrical resistance. When the filament current becomes stable, the emission current is also stabilized. Therefore, the emission current can be controlled to be constant by detecting and feeding back the emission current.
また、このエミッション電流の制御では、フィラメントの温度上昇に時間がかかることから、電源の立ち上がり時にエミッション電流が不足し、フィラメント電流が設定値を超えてフィラメントにダメージを与えるという問題があるため、エミッション電流とフィラメント電流をモニタしてフィラメント点灯電源回路にフィードバックすることによって、エミッション電流とフィラメント電流を設定値に制御し、電源の立ち上がり時の問題点を解決することが提案されている。
TFTアレイ基板検査装置は、自動運転を前提とする生産ラインで使用される装置であることから、TFTアレイ基板の基板検査についても自動調整が求められる。したがって、TFTアレイ基板検査装置が備える電子ビーム発生装置についても自動調整が求められるが、前記したように、従来の電子ビーム発生装置ではビーム電流の調整を手動で行う必要があるため、TFTアレイ基板検査装置を生産ラインに対してオフライン状態とする必要があり、生産ラインを一次的に停止させなければならないという問題がある。 Since the TFT array substrate inspection apparatus is an apparatus used in a production line on the premise of automatic operation, automatic adjustment is also required for substrate inspection of the TFT array substrate. Accordingly, automatic adjustment is also required for the electron beam generator provided in the TFT array substrate inspection apparatus. However, as described above, the conventional electron beam generator must manually adjust the beam current. There is a problem that the inspection apparatus needs to be in an off-line state with respect to the production line, and the production line must be temporarily stopped.
また、前記した文献に示される、定常状態においてエミッション電流をフィードバックすることによってエミッション電流を一定に制御する技術を電子ビーム発生装置に適用することが考えられる。 In addition, it is conceivable to apply a technique for controlling the emission current to be constant by feeding back the emission current in a steady state, as described in the above-mentioned document, to the electron beam generator.
しかしながら、TFTアレイ基板検査装置では、TFTアレイ基板に照射する電子ビームのビーム電流が一定であることが求められるのに対して、従来提案される技術では、TFTアレイ基板に実際に照射される電子ビームのビーム電流ではなく、フィラメントから放出されるエミッション電流が一定となるように制御を行っているため、ビーム電流の安定性の点で問題がある。 However, in the TFT array substrate inspection apparatus, the beam current of the electron beam applied to the TFT array substrate is required to be constant, whereas in the conventionally proposed technique, the electrons actually applied to the TFT array substrate are required. Since the control is performed so that the emission current emitted from the filament is constant, not the beam current of the beam, there is a problem in terms of stability of the beam current.
これは、TFTアレイ基板検査装置において、フィラメントからTFTアレイ基板に照射する電子ビームのビーム電流の電流量と、フィラメントから放出されるエミッション電流の電流量の比率はおおよそ1対1000程度であるためである。ビーム電流量に比較してエミッション電流の電流量は1000倍も多いため、エミッション電流量の変動に対してビーム電流量の変動は1/1000程度となる。そのため、ビーム電流の変動を、その1000倍の量を有するエミッション電流の変動に基づいて制御した場合には、ビーム電流の感応性は1/1000程度となってしまうため、十分な応答性でビーム電流を制御することは望めず、安定した制御が困難となるためである。 This is because in the TFT array substrate inspection apparatus, the ratio of the current amount of the beam current of the electron beam irradiated from the filament to the TFT array substrate and the current amount of the emission current emitted from the filament is about 1: 1000. is there. Since the amount of emission current is 1000 times as large as the amount of beam current, the variation in beam current is about 1/1000 relative to the variation in emission current. Therefore, when the fluctuation of the beam current is controlled based on the fluctuation of the emission current having an amount 1000 times that of the beam current, the sensitivity of the beam current will be about 1/1000. This is because it is impossible to control the current, and stable control becomes difficult.
そこで、本発明は上記課題を解決し、フィラメントから照射される電子ビームのビーム電流を自動で一定値に制御することを目的とし、また、生産ラインに組み込まれたTFTアレイ基板検査装置において、ビーム電流の一定値制御を、生産ラインを停止することなく行うことを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems and to automatically control the beam current of an electron beam emitted from a filament to a constant value. In a TFT array substrate inspection apparatus incorporated in a production line, The purpose is to perform constant value control of the current without stopping the production line.
上記目的を解決するために、本発明は、熱電子放出によりフィラメントから電子ビームを放出する電子ビーム発生装置において、フィラメントを流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段を備え、電子ビームのビーム電流を検出し、その検出値をフィラメント電流制御手段にフィードバックすることによってビーム電流を一定値に制御する。 In order to solve the above-described object, the present invention provides an electron beam generator for emitting an electron beam from a filament by thermionic emission, comprising filament current control means for controlling the filament current flowing through the filament, and the beam current of the electron beam is reduced. The beam current is controlled to a constant value by detecting and feeding back the detected value to the filament current control means.
フィラメント電流制御手段は、フィラメントからTFTアレイ基板に向けて照射されるビーム電流の検出値をフィードバックすることによって、電子ビームのビーム電流の一定値制御をより有効に行う。 The filament current control means feeds back a detection value of the beam current irradiated from the filament toward the TFT array substrate, thereby more effectively performing a constant value control of the beam current of the electron beam.
本発明の電子ビーム発生装置は、ビーム電流を検出する機構として、ビーム電流を検出する電流検出板を備える。この電流検出板はビーム電流を検出して、ビーム電流の電流量を検出し、フィラメント電流制御手段にフィードバックする。フィラメント電流制御手段は、フィードバックされたビーム電流の電流量と、予め設定しておいた基準電流との差を求め、この差の電流量からビーム電流を補正する補正値を算出し、この補正値によりフィラメント電流を増減する。これによって、ビーム電流を一定値に自動制御する。 The electron beam generator of the present invention includes a current detection plate for detecting a beam current as a mechanism for detecting the beam current. This current detection plate detects the beam current, detects the amount of beam current, and feeds it back to the filament current control means. The filament current control means obtains a difference between the current amount of the fed back beam current and a preset reference current, calculates a correction value for correcting the beam current from the difference current amount, and calculates the correction value. To increase or decrease the filament current. Thereby, the beam current is automatically controlled to a constant value.
また、本発明の電子ビーム発生装置の他の態様では、電子ビームのビーム電流を検出してフィードバックする構成に加えて、電子ビーム放出によるエミッション電流、及びフィラメントに流れるフィラメント電流を検出し、これら各検出値をフィラメント電流制御手段にフィードバックし、エミッション電流やフィラメント電流の変動による電子ビームの変動を抑制する。 In another aspect of the electron beam generator of the present invention, in addition to the configuration in which the beam current of the electron beam is detected and fed back, the emission current due to the electron beam emission and the filament current flowing in the filament are detected, The detected value is fed back to the filament current control means to suppress fluctuations in the electron beam due to fluctuations in the emission current and filament current.
本発明の電子ビーム発生装置はTFTアレイ基板検査装置に適用することができ、このTFTアレイ基板検査装置では、電子ビーム発生装置から電子ビームをTFTアレイ基板に照射し、この電子ビーム照射により発生する二次電子の強度を二次電子検出器で検出し、検出した二次電子強度によってTFTアレイ基板を検査する。 The electron beam generator of the present invention can be applied to a TFT array substrate inspection apparatus. In this TFT array substrate inspection apparatus, an electron beam is emitted from the electron beam generator to the TFT array substrate, and is generated by this electron beam irradiation. The secondary electron intensity is detected by a secondary electron detector, and the TFT array substrate is inspected by the detected secondary electron intensity.
本発明のTFTアレイ基板検査装置は、電子ビーム発生装置を、ビーム電流を検出する電流検出板と、電子ビームをTFTアレイ基板と電流検出板との間で偏向させる電子ビーム偏向手段と、フィラメントを流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段とを備えた構成とする。 The TFT array substrate inspection apparatus according to the present invention includes an electron beam generator, a current detection plate that detects a beam current, an electron beam deflecting unit that deflects the electron beam between the TFT array substrate and the current detection plate, and a filament. It is set as the structure provided with the filament current control means which controls the flowing filament current.
電子ビーム偏向手段は、フィラメントから放出された電子ビームを偏向して電流検出板に照射し、電流検出板は照射されたビーム電流を検出する。フィラメント電流制御手段は、電流検出板で検出した電流の検出値をビーム電流フィードバック値とし、ビーム電流を一定値に制御する。 The electron beam deflection means deflects the electron beam emitted from the filament and irradiates the current detection plate, and the current detection plate detects the irradiated beam current. The filament current control means uses the detection value of the current detected by the current detection plate as a beam current feedback value, and controls the beam current to a constant value.
電子ビーム偏向手段によって、電子ビームを電流検出板に照射させるインターバルは、予めの設定した時間単位とする他、TFTアレイ基板のロット単位等任意に定めることができる。 The interval at which the electron beam deflecting means irradiates the current detection plate with the electron beam can be arbitrarily determined in units of a TFT array substrate, in addition to a preset time unit.
電流ビーム偏向手段及びフィラメント電流制御手段の動作を、予め設定したスケジュールに従って行うことによって、ビーム電流調整を自動化することができ、また、電子ビームのビーム電流量の検出は電子ビーム偏向手段によって、フィラメントからの電子ビームを単に偏向させて電流検出板に振るだけで行うことができ、また、その電子ビームの偏向時間もTFTアレイ基板の基板検査時間と比較して短時間で済むため、生産ラインの稼働状態としたままで停止させることなく行うことができる。 The beam current adjustment can be automated by performing the operations of the current beam deflecting means and the filament current control means according to a preset schedule, and the beam current amount of the electron beam is detected by the electron beam deflecting means. The electron beam is simply deflected and shaken on the current detection plate, and the deflection time of the electron beam is shorter than the substrate inspection time of the TFT array substrate. This can be done without stopping while in the operating state.
本発明の電子ビーム発生装置によれば、フィラメントから照射される電子ビームのビーム電流を自動で一定値に制御することができる。 According to the electron beam generator of the present invention, the beam current of the electron beam irradiated from the filament can be automatically controlled to a constant value.
また、本発明のTFTアレイ基板検査装置によれば、ビーム電流を一定に保持することによって、ビーム電流の変動に伴う誤欠陥検出の発生を抑制することができる。 In addition, according to the TFT array substrate inspection apparatus of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of erroneous defect detection accompanying the fluctuation of the beam current by keeping the beam current constant.
また、生産ラインに組み込まれたTFTアレイ基板検査装置において、ビーム電流の一定値制御を、生産ラインを停止することなく行うことができる。 In addition, in the TFT array substrate inspection apparatus incorporated in the production line, a constant value control of the beam current can be performed without stopping the production line.
以下、本発明の実施の形態について図を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は、本発明の電子ビーム発生装置1の概略構成を説明するためのブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram for explaining a schematic configuration of an
電子ビーム発生装置1は、フィラメント電源回路2からフィラメント3にフィラメント電流を流し、フィラメント3を加熱することによって熱電子を放出させる。フィラメント3から放出された電子ビーム21は、対象物に照射される。TFTアレイ基板検査装置では、この対象物は検査対象のTFTアレイ基板10であり、TFTアレイ基板10の電子ビーム21を照射して得られる二次電子を検出することによって、TFTアレイ基板10の欠陥検査を行うことができる。
The
フィラメント電源回路2は、フィラメント3にフィラメント電流を供給する電源回路であり、このフィラメント電流はフィラメント電流制御回路5によって一定値となるように制御される。
The filament
本発明のフィラメント電流制御回路5は、フィラメント3から例えばTFTアレイ基板10に向けて照射される電子ビーム21のビーム電流をフィードバックすることによって、ビーム電流が一定となるように制御する。
The filament
フィラメント電源回路2を流れる電流量は、フィラメント3から放出される全電子の総和に相当するエミッション電流の電流量であり、このエミッション電流には、TFTアレイ基板10に照射されるビーム電流が含まれている。ビーム電流の電流量とエミッション電流の電流量との比率は約1:1000であり、本発明のフィラメント電源回路2は、エミッション電流の電流量ではなく、ビーム電流の電流量をフィードバックすることで、ビーム電流の電流量を直接に制御する。
The amount of current flowing through the filament
ビーム電流の電流量をフィラメント電源回路2にフィードバックするために、本発明の電子ビーム発生装置1はフィラメント3から照射された電子ビームを検出するビーム電流モニタ4を備える。ビーム電流モニタ4は、通常は電子ビーム21をモニタしないが、所定時間単位あるいはTFTアレイ基板のロット単位等の所定のインターバルで電子ビーム21を取り込んでそのビーム電流の電流量を検出し、フィラメント電流制御回路5にフィードバックする。
In order to feed back the amount of beam current to the filament
図2は本発明の電子ビーム発生装置1、及びこの電子ビーム発生装置を有したTFTアレイ基板検査装置20の概略構成を説明するためのブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram for explaining a schematic configuration of the
TFTアレイ基板検査装置20は、TFTアレイ基板10に所定パターンの検査電圧を印加し、このTFTアレイ基板10に電子ビーム発生装置1のフィラメント3からの電子ビーム21aを照射して、TFTアレイ基板10から得られる二次電子22を二次電子検出器23で検出し、その検出信号を欠陥検査手段24で信号処理することによって、TFTアレイ基板10の欠陥検査を行う。
The TFT array
したがって、TFTアレイ基板検査装置20は、検査中において電子ビーム21aはTFTアレイ基板10に照射されている。
Therefore, the TFT array
フィラメント3には、フィラメント電源回路2からフィラメント電流が供給される。フィラメント電源回路2は、電源2aとこの電源2aに接続されて電流調整回路2bを備え、この電流調整回路2bはフィラメント3に流す電流量を調整する。電流調整回路2bによるフィラメント電流の電流量調整は、フィラメント電流制御回路5によって行われる。
Filament current is supplied to the
フィラメント電流制御回路5は、フィラメント3から照射されるビーム電流を検出し、その電流量をフィードバックすることによって行う。図2に示す構成例は、フィラメント電流制御回路5に対して、ビーム電流の電流量をフィードバックする他、フィラメント3に流れるフィラメント電流、およびエミッション電流をフィードバックし、これらの電流量の変動に基づいて、フィラメント電流が一定値となるように制御する。
The filament
ビーム電流の電流量のフィードバックは、ビーム電流モニタ4によって行うことができる。ビーム電流モニタ4は、フィラメント3から照射されるビーム電流を検出する電流検出板4a、電流検出板4aで検出してビーム電流を増幅する増幅器4b、増幅器4bで増幅したアナログのビーム電流をデジタル信号に変換するA/D変換器4c、検出したビーム電流の電流量を、予め設定しておいた基準電流値と比較してその差を求めて、この差に基づいてビーム電流の電流量を基準電流量に戻すための補正値を算出する演算手段4eと、演算手段4eで算出した補正値をアナログ信号に変換するD/A変換器4fを備える。
Feedback of the current amount of the beam current can be performed by the beam
フィラメント電流制御回路5は、このビーム電流モニタ4が算出して補正値をビーム電流のフィードバック値として入力し、フィラメント電源回路2の電流調整回路2bを制御する。
The filament
なお、フィラメント3から電子ビーム21aを、TFTアレイ基板10に代えて電流検出板4aに照射する機構として、本発明の電子ビーム発生装置1は電子ビームを偏向する偏向手段6を用いることができる。偏向手段6は、フィラメント3から放出された電子ビーム21bを電流検出板4aに向けて偏向させる手段であり、例えば、TFTアレイ基板検査装置20の走査手段が備えるレンズ系6a及びレンズ制御手段6bを利用することができる。
As a mechanism for irradiating the current detection plate 4a with the electron beam 21a from the
TFTアレイ基板検査装置20が備えるレンズ6aは、電子ビームをTFTアレイ基板10上で走査する走査レンズ系を兼用する他に、電子ビーム21bを電流検出板4aに向ける専用のレンズを設ける構成としてもよい。
The lens 6a included in the TFT array
なお、フィラメント電流制御回路5にフィードバックするフィラメント電流の電流量は、フィラメント3に基準抵抗2cを接続することで得られる電圧値により求めることができる。また、フィードバックするエミッション電流の電流量は、電源2aの電流を抵抗2dによって得られる電圧値により求めることができる。
The amount of filament current fed back to the filament
図3は、本発明のフィラメント電源回路2及びフィラメント電流制御回路5の構成例を説明するための概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a configuration example of the filament
フィラメント電源回路2は、電源2eにパワートランジスタ等の電流調整素子2bを接続してフィラメント3の一端に接続し、フィラメント3の他端を基準抵抗2cを介して接地して構成される。電流調整素子2bは、フィラメント電流制御回路5の制御信号によってフィラメント3に流す電流量を調整する。例えば、パワートランジスタの場合には、制御信号をゲートに印加することで電流量調整を行う。
The filament
フィラメント電流制御回路5は、オペアンプ5dとコンデンサ5e等により形成される積分回路を備える。積分回路の入力端には、ビーム電流の補正分、エミッション電流のフィードバック分、及びフィラメント電流の相当する電圧が、それぞれ抵抗5a,5b,5cを介して入力され、これらの各電流変動を加えて積分した値を制御信号として電流調整素子2bに出力する。
The filament
ここで、ビーム電流の補正分は、図2で示したビーム電流モニタ4で求めた値であって、ビーム電流の変動を基準値に戻して一定に保持するための補正値であり、エミッション電流のフィードバック分は、フィラメント電源回路の電源2aに流れる電流の基準値である。
Here, the correction amount of the beam current is a value obtained by the beam
本発明の電子ビーム発生装置によれば、ビーム電流を一定時間毎に読み取って、その検出値と予め設定しておいた基準値との差分を求め、この差分によってビーム電流の電流量を補正して、設定した基準値となるようにすることで、ビーム電流を一定に制御することができる。 According to the electron beam generator of the present invention, the beam current is read at regular intervals, the difference between the detected value and a preset reference value is obtained, and the current amount of the beam current is corrected by this difference. Thus, the beam current can be controlled to be constant by setting the reference value.
この電子ビーム発生装置をTFTアレイ基板検査装置に用いた場合には、ビーム電流の読み取りは、TFTアレイ基板の基板検査に影響を与えない時点で行うことができるため、TFTアレイ基板検査装置を組み込んだ生産ラインを停止することなく、ビーム電流を常に一定に保持することができる。 When this electron beam generator is used in a TFT array substrate inspection apparatus, the beam current can be read at a time that does not affect the substrate inspection of the TFT array substrate. The beam current can always be kept constant without stopping the production line.
本発明の電子ビーム発生装置は、TFTアレイ基板検査装置に限らず、電子ビームを用いた検査装置の他、電子ビームを用いた加工装置等にも適用することができる。 The electron beam generator of the present invention is not limited to a TFT array substrate inspection apparatus, but can be applied to a processing apparatus using an electron beam in addition to an inspection apparatus using an electron beam.
1…電子ビーム発生装置、2…フィラメント電源回路、2a…電源、2b…電流調整回路、2c…基準抵抗、2d,2d…抵抗、2e…電源、3…フィラメント、4…ビーム電流モニタ、4a…電流検出板、4b…増幅器、4c…A/D変換器、4d…基準電流値、4e…演算手段、4f…D/A変換器、5…フィラメント電流制御回路、5a,5b,5c…抵抗、5d…オペアンプ、5e…コンデンサ、6…偏向手段、6a…レンズ、6b…レンズ制御手段、10…TFTアレイ基板、20…TFTアレイ基板検査装置、21a,21b…ビーム電流、22…二次電子、23…二次電子検出器、24…欠陥検査手段、101…フィラメント点灯電源回路、102…フィラメント点灯回路、103…フィラメント、104…フィラメント電流モニタ、105…エミッション電流モニタ、106…CPU。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記フィラメントを流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段を備え、
前記電子ビームのビーム電流を検出し、その検出値を前記フィラメント電流制御手段にフィードバックして前記ビーム電流を一定値に制御することを特徴とする、電子ビーム発生装置。 In an electron beam generator for emitting an electron beam from a filament by thermionic emission,
Filament current control means for controlling a filament current flowing through the filament,
An electron beam generator comprising: detecting a beam current of the electron beam; and feeding back the detected value to the filament current control means to control the beam current to a constant value.
前記フィラメントを流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段を備え、
前記電子ビームのビーム電流、前記電子ビーム放出によるエミッション電流、及びフィラメントに流れるフィラメント電流を検出し、これら各検出値を前記フィラメント電流制御手段にフィードバックして、前記ビーム電流を一定値に自動制御することを特徴とする、電子ビーム発生装置。 In an electron beam generator for emitting an electron beam from a filament by thermionic emission,
Filament current control means for controlling a filament current flowing through the filament,
The beam current of the electron beam, the emission current due to the emission of the electron beam, and the filament current flowing in the filament are detected, and each detected value is fed back to the filament current control means to automatically control the beam current to a constant value. An electron beam generator.
この電流検出板はビーム電流を検出して、ビーム電流の電流量を検出し、
前記フィラメント電流制御手段は、前記ビーム電流の電流量と基準電流との差からビーム電流を補正する補正値を算出し、この補正値によりフィラメント電流を増減することを特徴とする、請求項1又は2に記載の電子ビーム発生装置。 A current detection plate for detecting the beam current;
This current detection plate detects the beam current, detects the amount of beam current,
The filament current control means calculates a correction value for correcting the beam current from a difference between a current amount of the beam current and a reference current, and increases or decreases the filament current by the correction value. 3. The electron beam generator according to 2.
前記電子ビーム発生装置は、
前記ビーム電流を検出する電流検出板と、
電子ビームをTFTアレイ基板と電流検出板との間で偏向させる電子ビーム偏向手段と、
フィラメントを流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段とを備え、
前記電流ビーム偏向手段は、フィラメントから放出された電子ビームを偏向して前記電流検出板に照射し、
前記電流検出板は照射されたビーム電流を検出し、
前記フィラメント電流制御手段は、前記電流検出板で検出した電流の検出値をビーム電流フィードバック値としてビーム電流を一定値に制御することを特徴とする、TFTアレイ基板検査装置。 A TFT that irradiates a TFT array substrate with an electron beam from an electron beam generator, detects the intensity of secondary electrons generated by the electron beam irradiation with a secondary electron detector, and inspects the TFT array substrate with the secondary electron intensity In array substrate inspection equipment,
The electron beam generator is
A current detection plate for detecting the beam current;
An electron beam deflecting means for deflecting the electron beam between the TFT array substrate and the current detection plate;
Filament current control means for controlling the filament current flowing through the filament,
The current beam deflection means deflects the electron beam emitted from the filament and irradiates the current detection plate,
The current detection plate detects an irradiated beam current,
The TFT array substrate inspection apparatus, wherein the filament current control means controls the beam current to a constant value by using a detected value of the current detected by the current detection plate as a beam current feedback value.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10074510B2 (en) | 2013-08-09 | 2018-09-11 | Ebara Corporation | Inspection system and inspection image data generation method |
TWI653659B (en) | 2013-08-09 | 2019-03-11 | 日商荏原製作所股份有限公司 | Inspection device and method for generating graphic data for inspection |
JP2015064279A (en) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 株式会社荏原製作所 | Inspection device and method for generating image data for inspection |
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