JP2006317314A - 欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板に照射するP偏光とS偏光との切り替えを、液晶偏光フィルタを用いて電気的に行うことにより、発塵の可能性を抑え、短時間で効率良く、被検査体の表面上の欠陥を検査することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、被検査体であるウエハ(基板)等の欠陥を検査する装置であり、ウエハ(被検査体)2を照明する照明光学系1と、ウエハ2からの回折光または正反射光L2を受光する受光光学系4とを有する欠陥検査装置であって、照明光学系1又は受光光学系4のどちらか一方に液晶偏光フィルタ7を備えて構成される。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明は、被検査体であるウエハ(基板)等の欠陥を検査する装置であり、ウエハ(被検査体)2を照明する照明光学系1と、ウエハ2からの回折光または正反射光L2を受光する受光光学系4とを有する欠陥検査装置であって、照明光学系1又は受光光学系4のどちらか一方に液晶偏光フィルタ7を備えて構成される。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体ウエハや液晶基板など、被検査体の表面上の欠陥を検査する装置に関する。
従来、半導体ウエハや液晶基板(以下、総じて「基板」と称する)の表面に形成された繰り返しパターン(回路パターン)から発生する回折光を利用して、基板表面のむらや傷などの欠陥を自動的に検査する欠陥検査装置が提案されている。この装置では、表面の欠陥箇所と正常箇所では回折効率が異なり、繰り返しパターンからの回折光に基づく画像には明るさの相違が現れるため、この明暗を利用して欠陥箇所を特定できるように構成されている。このような欠陥検査装置として、基板の構成材料や検査内容等に応じてP偏光あるいはS偏光を切り替えて、基板を照射するように構成されたものが開示されている(例えば、特許文献1を参照)。
特開2003−262595号公報
特許文献1の欠陥検査装置では、基板に照射するP偏光とS偏光との切り替えが、1枚の偏光板を90度回転させたり、あるいは、P偏光用とS偏光用の偏光板をそれぞれ用意して挿脱させたりする等、機械的に行われている。その結果、P偏光用とS偏光の切り替えにある程度の時間を要するため、装置のスループット向上の妨げになるという問題があった。また、近年、基板の表面に形成される回路の集積度が高くなっており、たとえ微粒子(例えば0.1μm程度の塵)であっても基板の品質に与える影響は大きい。しかしながら、特許文献1に記載の検査装置のように、P偏光とS偏光の切り替えを機械的に行う場合には、発塵を避けることができないため、検査時に基板に塵が付着して品質低下を招くおそれがあった。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、基板に照射するP偏光とS偏光との切り替えを、液晶偏光フィルタを用いて電気的に行うことにより、発塵の可能性を抑え、短時間で効率良く、被検査体の表面上の欠陥を検査することができる欠陥検査装置を提供することを目的とする。
このような目的を達成するため、本発明の欠陥検査装置は、被検査体である基板の欠陥を検査する装置であり、前記基板を照明する照明光学系と、前記基板からの回折光または正反射光を受光する受光光学系とを有する欠陥検査装置であって、前記照明光学系又は前記受光光学系のどちらか一方に液晶偏光フィルタを備えて構成される。
以上説明したように、本発明によれば、基板に照射するP偏光とS偏光との切り替えを、液晶偏光フィルタを用いて電気的に行うことにより、発塵の可能性を抑え、短時間で効率良く、被検査体の表面上の欠陥を検査することができる欠陥検査装置を提供することができる。
以下、本発明に係る第1〜第3の実施形態について図を用いて説明する。
第1実施形態に係る欠陥検査装置は、図1に示すように、ランプハウスLSと、照明光学系1と、基板であるウエハ2を載置するステージ3と、受光光学系4と、撮像素子5と、画像処理装置6と、液晶偏光フィルタ7とを備えて構成される。
ランプハウスLSは、不図示のハロゲンランプやメタルハライドランプなどの光源と、波長選択フィルタとが内蔵されており、一部の波長の光のみが照明光L1として利用される。
照明光学系1は、ランプハウスLSから射出された照明光L1をほぼ平行な光に変換するレンズ11を備える。
ステージ3は、不図示の回転機構により、紙面と垂直な軸AX1を中心に回転可能であるとともに、載置するウエハ2の中心を通り該ウエハ2に垂直な軸(つまり、紙面と平行な軸)AX2を中心に回転可能である。なお、本実施例では、受光光学系4でウエハ2からの回折光L2を受光する構成となっているため、照明光学系L1の光軸と、ウエハ2上に形成されたラインアンドスペースパターンのラインの刻線方向とが90度をなすように、回転機構により、ステージ3が軸AX2を中心にして回転される。
なお、ステージ3はこの構成に限定されるものではなく、例えば、回転機構によりステージ3を回転させる角度を適宜調整することで、ウエハ2からの回折光または正反射光を受光光学系4で受光して、撮像素子5でウエハ2の画像を撮像することも可能である。また、ステージ3を回転機構により回転させるかわりに、ランプハウスLSから照明光学系1までの全体、あるいは受光光学系4から撮像素子5までの全体を、軸AX1を中心に回転させてもよいし、これらを組み合わせてそれぞれを適宜回転させてもよい。
受光光学系4は、ウエハ2からの回折光または正反射光L2を集光して、ウエハ2の像を撮像素子5上に結像させるレンズ41,42を備える。
画像処理装置6は、撮像素子5で取り込んだ画像の画像処理を行う。露光装置のデフォーカスや形成されたパターンの膜厚ムラ等の異常がウエハ2にあると、正常部分と欠陥部分の回折効率の違いから、得られた画像に明るさの差が生じる。これを画像処理して、ウエハ2の欠陥として検出する。なお、画像処理装置6はこの構成に限定されるものではなく、例えば、正常なパターンの像を画像処理装置6に記憶しておき、これと測定されたパターンとの差分をとることにより、異常を検出するようにしてもよい。
液晶偏光フィルタ7は、図2に示すように、偏光板71と、液晶素子72とを備える。なお、図2では、実線の矢印で入射光の進行方向を示し、点線の矢印で光の偏光方向を示している。
偏光板71は、入射光から所定の偏光方向の光を取り出す。液晶素子72は、光の進行方向に沿って90度に捩れた液晶分子の配列(不図示)を持っており、図2(A)に示すように、電圧を印加しないオフ状態では(偏光板71を経た)入射光の偏光方向(偏波面)を90度回転させる。また、図2(B)に示すように、所定の電圧を印加したオン状態では、(偏光板71を経た)入射光の偏波面を回転させることなくそのまま通過させる。
この構成により、液晶偏光フィルタ7は、従来のように機械的に偏光板を挿脱するのではなく、液晶素子72への印加電圧のオン・オフによって、入射光の偏波面を0度及び90度の角度で回転させることができる。なお、回転に要する時間は、おおよそ数十ミリ秒と非常に短い時間で切り替えを実行することができる。
以上のような構成である、第1実施形態に係る欠陥検査装置では、まず、ランプハウスLSから射出された照明光L1が、液晶偏光フィルタ7を介して直線偏光にされた後に、レンズ11を有する照明光学系1を介してほぼ平行な光に変換され、ステージ3上に載置されたウエハ2を照明する。照明光L1によって照明されたウエハ2(基板)からは回折光L2が生じる。回折光L2の回折角は、照明光L1の波長と、ウエハ2に形成された繰り返しパターンのピッチとによって変化する。このような回折光L2の回折角に応じてステージ3は図示しない回転機構によって軸AX1及び軸AX2を中心に適宜回転され、回折光L2はレンズ41及びレンズ42を有する受光光学系4に導かれた後に、撮像素子5に集光される。そして、撮像素子5では回折光L2によるウエハ2の像を撮像して、画像処理装置6に送信する。画像処理装置6では、撮像素子5から送られたウエハ2の表面の画像と、予め記憶されている良品ウエハの画像(検査基準画像)とのパターンマッチング等が行われ、ウエハ2の欠陥の有無が検出される。
なお、液晶偏光フィルタ7を、本実施形態のように照明光学系1ではなく、受光光学系4に挿入し、受光する回折光からP偏光あるいはS偏光の成分を取り出しても、液晶フィルタ7を照明光学系1に挿入したときと同様の効果を得ることができる。
次に、第2の実施形態に係る欠陥検査装置について、図3を用いて説明する。なお、以下の説明において、上記第1の実施形態と同じ構成要素には同じ符号を付し、その説明を省略する。
図3に示す第2の実施形態の欠陥検査装置は、図1に示す第1の実施形態に係る欠陥検査装置の受光光学系4の中に、液晶偏光フィルタ8を追加したものである。液晶偏光フィルタ8の構成は、上記の液晶偏光フィルタ7と同様である。受光光学系4の中に液晶偏光フィルタ8を配置することで、ウエハ2からの回折光または正反射光L2のうち、P偏光あるいはS偏光の直線偏光を取り出すことができる。
その結果、第2実施形態に係る欠陥検査装置では、液晶偏光フィルタ7,8に印加する電圧のオン・オフを適宜組み合わせ、これら液晶偏光フィルタ7,8の偏光方向を直交させた所謂クロスニコルの状態(つまり、照明光L1からS偏光を、回折光L2からP偏光を取り出した状態。あるいは、照明光L1からP偏光を、回折光L2からS偏光を取り出した状態)でウエハ2の画像を撮ることができる。これは、ウエハ2上に形成されたホールパターンの検査に有効である。また、液晶偏光フィルタ7,8では、P偏光あるいはS偏光への切り替えは電気的に行われるため、発塵の心配がなく、また短時間での実施が可能である。
さらに、ウエハ2上のラインアンドスペースパターンにおけるラインの刻線方向に対して45度に照明光をウエハ2に照射し、且つ、回折光または正反射光L2を受光光学系4で受光するように、ステージ3を軸AX1,軸AX2を中心にして不図示の回転機構により適宜回転させることにより、ウエハ2上に形成された繰り返しパターンの構造複屈折性の変化を利用して、照明波長よりかなり短い線幅の繰り返しパターンの検査も可能となる。
続いて、第3の実施形態に係る欠陥検査装置について、図4を用いて説明する。なお、以下の説明において、上記第1及び第2の実施形態と同じ構成要素には同じ符号を付し、その説明を省略する。
図4に示すように第3の実施形態では、図3に示す第2の実施形態に係る欠陥検査装置の照明光学系1中のレンズ11を凹面鏡13に、受光光学系4中のレンズ41を凹面鏡43に置き換えたものである。このように凹面鏡13,43を用いた反射光学系を備えることにより、第3の実施形態に係る欠陥検査装置では小型化を図っている。また、第3の実施形態では、凹面鏡13の回転中心軸Z1と照明光学系1の光軸Y1を外し、且つ、凹面鏡43の回転中心軸Z2と受光光学系4の光軸Y2を外した、いわゆる軸外し光学系となっている。
以上のような構成である、第3実施形態に係る欠陥検査装置では、まず、ランプハウスLSから射出された照明光L1は、液晶偏光フィルタ7を経て、凹面鏡13の焦点位置に導光されて反射し、ステージ3上に載置されたウエハ2を照明する。照明光L1によって照明されたウエハ2からは回折光L2が生じる。回折光L2の回折角は、照明光L1の波長と、ウエハ2に形成された繰り返しパターンのピッチとによって変化する。このような回折光L2の回折角に応じて、ステージ3が図示しない回転機構によって軸AX1及び軸AX2をそれぞれ中心に適宜回転され、回折光L2は、凹面鏡43の焦点位置に導光されて反射し、液晶偏光フィルタ8を経て、レンズ42を有する受光光学系4に導かれた後に、撮像素子5に集光される。撮像素子5は回折光L2によるウエハ2の像を撮像して、画像処理装置6へ送信する。画像処理装置6は、所定の画像処理を行い、ウエハ2の欠陥の有無を検出する。
なお、第3の実施形態に係る欠陥検査装置では、クロスニコルの状態でウエハ2を撮像すると、消光比(各偏光成分に対する透過率の比)がウエハ2の全面で不揃いになる。このため、第3の実施形態では、偏光補償板9,10を光路中に所定の角度を有して斜めに挿入することにより、消光比の改善を図っている。なお、偏光補償板9,10は、高屈折率ガラス(屈折率1.9程度)の平行平面板であり、表面にはガラスと同程度の屈折率の保護膜がコートされており、ヤケを防止している。
第3の実施形態に係る欠陥検査装置では、上記の第2の実施形態(図3参照)と同様に、液晶偏光フィルタ7,8に印加する電圧のオン・オフを適宜組み合わせることにより、ホールパターンの検査に有効なクロスニコルの状態(具体的には、照明光L1からS偏光を、回折光L2からP偏光を取り出した状態、若しくは照明光L1からP偏光を、回折光L2からS偏光を取り出した状態)で、ウエハ2の画像を撮ることができる。これは、ウエハ2上に形成されたホールパターンの検査に有効である。また、上記したが、液晶偏光フィルタ7,8では、P偏光あるいはS偏光への切り替えは電気的に行われるため、短時間での実施が可能であるとともに、発塵の心配もない。
さらに、ウエハ2上のラインアンドスペースパターンにおけるラインの直線方向に対して45度に光を照明し、且つ、回折光または正反射光L2を受光するように、ステージ3を軸AX1,軸AX2を中心にして不図示の回転機構により適宜回転させることで、ウエハ2上に形成された繰り返しパターンの構造複屈折性の変化を利用して、照明波長よりかなり短い線幅の繰り返しパターンの検査も可能であることも、第2の実施の形態と同様である。
以上のような本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば適宜改良可能である。
1 照明光学系 2 ウエハ
3 ステージ 4 受光光学系
5 撮像素子 6 画像処理装置
7,8 液晶偏光フィルタ
71 偏光板 72 液晶素子
41,42 レンズ
L1 照明光 L2 回折光
3 ステージ 4 受光光学系
5 撮像素子 6 画像処理装置
7,8 液晶偏光フィルタ
71 偏光板 72 液晶素子
41,42 レンズ
L1 照明光 L2 回折光
Claims (5)
- 被検査体である基板の欠陥を検査する装置であり、前記基板を照明する照明光学系と、前記基板からの回折光または正反射光を受光する受光光学系とを有する欠陥検査装置であって、前記照明光学系又は前記受光光学系のどちらか一方に液晶偏光フィルタを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
- 前記照明光学系に備えられた前記液晶偏光フィルタは、前記基板を照明する光を、P偏光あるいはS偏光に切り替え可能なことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
- 前記受光光学系に備えられた前記液晶偏光フィルタは、前記受光光学系で受光する前記回折光または前記正反射光を、P偏光あるいはS偏光に切り替え可能なことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
- 被検査体である基板の欠陥を検査する装置であり、前記基板を照明する照明光学系と、前記基板からの回折光または正反射光を受光する受光光学系とを有する欠陥検査装置であって、前記照明光学系及び前記受光光学系に液晶偏光フィルタを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
- 前記照明光学系に備えられた前記液晶偏光フィルタは、前記基板を照明する光をP偏光あるいはS偏光に切り替え可能であり、
前記受光光学系に備えられた前記液晶偏光フィルタは、前記受光光学系で受光する前記回折光または前記正反射光を、P偏光あるいはS偏光に切り替え可能なことを特徴とする請求項4に記載の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005141023A JP2006317314A (ja) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005141023A JP2006317314A (ja) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | 欠陥検査装置 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005141023A Pending JP2006317314A (ja) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | 欠陥検査装置 |
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Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2009048003A1 (ja) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Nikon Corporation | 表面検査装置 |
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-
2005
- 2005-05-13 JP JP2005141023A patent/JP2006317314A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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