JP2006284273A - ウェーハ厚さ測定装置 - Google Patents

ウェーハ厚さ測定装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006284273A
JP2006284273A JP2005102314A JP2005102314A JP2006284273A JP 2006284273 A JP2006284273 A JP 2006284273A JP 2005102314 A JP2005102314 A JP 2005102314A JP 2005102314 A JP2005102314 A JP 2005102314A JP 2006284273 A JP2006284273 A JP 2006284273A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
wafer
thickness measuring
plate
tip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005102314A
Other languages
English (en)
Inventor
Shingo Koiwa
真悟 小岩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Ceramics Co Ltd filed Critical Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority to JP2005102314A priority Critical patent/JP2006284273A/ja
Publication of JP2006284273A publication Critical patent/JP2006284273A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

【課題】高抵抗率のウェーハをプレートに張付けた状態で高精度に測定できるウェーハ厚さ測定装置を提供する。
【解決手段】本ウェーハ厚さ測定装置は、平板状のセンサー較正用マスターワーク及びウェーハ貼付け用プレートが載置されるインデックステーブルと、センサーヘッドを備えた厚み測定センサー及び基準ピンが設けられたセンサー部と、センサーヘッドの先端をマスターワークあるいはウェーハに当接させ、基準ピンの先端を前記マスターワークあるいはプレートに当接させるセンサー当接機構を有し、センサーヘッド及び基準ピンの先端をマスターワークに当てて厚み測定センサーの較正を行い、厚み測定センサーの先端をウェーハに当接させ、基準ピンの先端をプレートに当接させて、両先端の後退量により、ウェーハの厚さを測定する。
【選択図】 図4

Description

本発明はウェーハ厚さ測定装置に係り、特にポリッシング装置などでのウェーハ削り量を測定するのに適するウェーハ厚さ測定装置に関する。
ウェーハには高平坦度が要求されているため、ウェーハ製造時の研磨あるいは研削工程において、ウェーハの厚み測定が行われている。
その測定方法として、プレートとウェーハの段差を測定し、ウェーハ厚さを算出する方法、ウェーハを挟み込むように静電容量センサを2個設置し、これらセンサーからウェーハ表面までの距離を測定することで、ウェーハ厚さを算出、あるいは、レーザ光の干渉により、ウェーハ厚さを測定する方法がある(特許文献1参照)。
しかしながら、プレートとウェーハの段差を利用する方法は、人手作業のため、要求される測定精度を達成するのが難しい。また、静電容量センサーを用いた測定方法では、ウェーハとセンサー間に非導電体であるプレートが存在するため、ウェーハとセンサー間に電界が発生せず、測定することができず、ウェーハをプレートに張付けた状態での測定が不可能である。さらに、特許文献1の方法は、高抵抗率のウェーハでは、ウェーハ内でレーザ光が減衰してしまうため、厚さを測定することが不可能である。
特開2002−176087号公報
本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、ウェーハをプレートに張付けた状態で高精度に測定できるウェーハ厚さ測定装置を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するため、本発明に係るウェーハ厚さ測定装置は、装置基台と、この装置基台に回転可能に設けられ、平板状のセンサー較正用マスターワーク及びウェーハ貼付け用プレートが載置されるインデックステーブルと、このインデックステーブルの上方に配設され、センサーヘッドを備えた厚み測定センサー及び基準ピンが設けられたセンサー部と、このセンサー部に前記マスターワーク及び前記プレートが対向するようにインデックステーブルを回転させる回転機構と、前記センサーヘッドの先端を前記マスターワークあるいは前記ウェーハに当接させ、基準ピンの先端を前記マスターワークあるいは前記プレートに当接させるセンサー当接機構を有し、前記センサーヘッドの先端及び基準ピンの先端を前記マスターワークに当てて前記厚み測定センサーの較正を行い、前記厚み測定センサーの先端を前記ウェーハに当接させるとともに、前記基準ピンの先端を前記プレートに当接させて、前記基準ピンの先端に対する前記厚み測定センサーの先端の後退量により、ウェーハの厚さを測定することを特徴とする。
好適には、前記センサー当接機構は、前記マスターワーク及び前記プレートを昇降させる昇降機構である。
また、好適には、前記プレートを回転させる回転させるプレート回転機構を有する。
また、前記厚み測定センサーは、ウェーハの中心部及び周辺部に対応する位置に2個以上設けられる。
好適には、前記厚み測定センサーは、ウェーハの中心部に位置するセンサーと周辺部に位置するセンサーの離間距離の変更が可能である。
また、好適には、前記センサー部は、厚み測定センサーへの衝撃を吸収するセンサー逃げ機構に取付けられる。
本発明に係るウェーハ厚さ測定装置によれば、ウェーハをプレートに張付けた状態で、高精度に測定できるウェーハ厚さ測定装置を提供することができる。
以下、本発明に係るウェーハ厚さ測定装置の一実施形態について添付図面を参照して説明する。
図1は本発明の一実施形態に係るウェーハ厚さ測定装置の側面図、図2はその平面図、図3はその正面図である。
図1乃至図3に示すように、本発明の一実施形態に係るウェーハ厚さ測定装置1は、装置基台2を備え、この装置基台2の上面のほぼ中央部にはインデックステーブル3が設けられ、このインデックステーブル3は装置基台2の上面部に設けられたテーブル回転機構4に取付けられ、回転可能になっている。
また、装置基台2の上面の一端側でインデックステーブル3の周辺部近傍には、この周辺部近傍を跨ぐように門形のセンサー機構取付部材5が設けられ、このセンサー機構取付部材5には、測定位置となる位置にセンサー機構6が取付けられている。さらに、センサー機構6及びインデックステーブル3の下方で装置基台2上には、中心部厚み測定センサー(以下、単に中心センサーという)611、周辺部厚み測定センサー(以下、単に周辺センサーという)612の先端を例えば高抵抗半導体ウェーハであるウェーハwに当接させるとともに、貼付け用プレートPを昇降させる当接機構としてのワーク昇降機構7及び、貼付け用プレートPを回転させるプレート回動機構8が設けられている。
さらに、ベース部2上にはインデックステーブル3を収容するようにして水受槽9が設けられており、この水受槽9はウェーハw及び貼付け用プレートPは、前工程では水に浸した状態にあり、測定装置1への移載時、測定装置内部に水が流れ込むのを防止するためのものである。
インデックステーブル3は、ステンレス製で、円周上にセンサー較正用マスターワークM及び貼付け用プレートPの直径よりも大きな直径を有する複数例えば5個の収容穴31が凹接され、この収容穴31の底部にはそれらの直径よりも小さな直径のワークセット円板挿入孔32が穿設されており、そのうちの1個の収容穴31には平板状のセンサー較正用マスターワークMが収容され、4個の収容穴31にはウェーハwが貼付けられたプレートPが収容されるようになっている。
図4及び図5に示すように、センサー機構6は、センサー部61をインデックステーブル3の半径方向に水平移動及び回転させるセンサー部移動機構62と、モータ取付部材621にカップリング部625を介して回転可能に取付けられ、さらに、センサー611、612への衝撃を吸収するセンサー逃げ機構63と、センサー611、612及び基準ピン613、614間の距離を変えて、任意の大きさのウェーハの厚さ測定を可能にするセンサー距離調整機構64と、センサーヘッド611a、612aを備えたセンサー611、612及び基準ピン613、614が設けられたセンサー部61を備えている。
センサー部移動機構62は、センサー部駆動シリンダ622を備え、このセンサー部駆動シリンダ622は、エアシリンダであり、センサー機構取付部材5に取付けられ、モータ取付部材621を水平移動させることにより、センサー部61を水平方向に移動させて、このセンサー部61をインデックステーブル3の半径方向に移動可能にするものであり、また、ストッパー用シリンダ623を備え、このストッパー用シリンダ623はそのストッパー623aを適宜進退させて、モータ取付部材621に設けられたストッパー係止部622bに係合して、センサー部61の水平方向の動きを規制するものであり、さらに、センサー部回転モータ624を備え、このセンサー部回転モータ624はステッピングモータであり、センサー逃げ機構63、センサー距離調整機構64を介して、センサー部61を回動させて、周辺センサー612によりウェーハwの任意の周辺部の厚さを測定できるようになっている。
センサー逃げ機構63は、円板状の逃げ機構板631にその円周上に120°の間隔で3個穿設され、断面が逆截頭円筒状の3個の係合孔632と、この係合孔632に係合する断面が逆截頭円筒状の3個の係合体633からなり、センサー逃げ機構63の下方に設けられたセンサー距離調整機構64及びセンサー部61の重量をこの係合より支え、センサー距離調整機構64及びセンサー部61が水平を保つようになっている。
図4乃至図6に示すように、センサー逃げ機構63には取付板634及び垂下する3本の取付棒材635を介してセンサー距離調整機構64が取付けられ、このセンサー距離調整機構64には、矩形平板状のセンサー取付板641が設けられ、このセンサー取付板641の上面中心部には中心センサー611を挿入するための中心センサー挿入孔642が穿設され、さらに、中心センサー取付孔643を備えた中心センサー取付具644が設けられている。
また、一側には周辺センサー612及び基準ピン613を挿入するための周辺センサー挿入長孔645が穿設され、さらに、周辺センサー取付孔646及び基準ピン取付穴647を備えた周辺センサー取付具648が設けられている。この周辺センサー取付具648はセンサー取付板641上に水平移動可能に設けられたセンサースライド板649に取付けられており、このセンサースライド板649はセンサー取付板641の両側部近傍に設けられたステッピングモータであるセンサースライド用モータ650とガイド651に橋設されており、センサースライド用モータ650の作動により、周辺センサー612を周辺センサー挿入長孔645に沿って水平方向に移動させることができるようになっている。
さらに、センサースライド板641には、センサースライド板649、周辺センサー612及び基準ピン613の位置を検出するスライド板位置検出センサー652、周辺センサー位置検出センサー653及び基準ピン位置検出センサー654が取付けられており、センサースライド板649、周辺センサー612及び基準ピン613の動きに応じて各々センサー取付板641に設けられ図5に示す位置検知片655に当接して、センサースライド板649、周辺センサー612及び基準ピン613の位置を検出できるようになっている。
また、他側には、センサー取付板641に2個の基準ピン挿入長孔656、及び2個の基準ピン取付穴657が設けられたセンサースライド板658が設けられ、これ以外は上記一側と同様であり同一部分には同一符号を付して、説明は省略する。
図6及び図7(a)に示すように、センサー部61は、センサー取付板641の下面に設けられ、中心センサー挿入孔642、周辺センサー挿入長孔646及び基準ピン取付け穴645、657にそれぞれ挿入され、センサー取付板641の下面に突出する厚み測定センサー611、612、及び基準ピン613、614からなり、厚み測定センサー611、612はウェーハの直径上に配置され、基準ピン613は一側の周辺センサー611に近接して直径上に配置され、2本の基準ピン614はウェーハwの外側のプレート上に位置するようになっている。
従って、センサー611、612及び基準ピン613、614は、センサー距離調整機構64を作動させることにより、中心センサー611と、周辺センサー612間の距離及び基準ピン613と基準ピン614の距離を変更できるようになっている。
センサー611、612はセンサーヘッド611a、612aを備えた接触式で、電気信号を用いた変位センサーであり、表示装置(図示せず)に測定値が表示されるようになっている。
図8に示すように、ワーク昇降機構7は本発明におけるセンサー当接機構をなし、マスターワークMあるいは貼付け用プレートPが載置されるワークセット円板71を昇降させるものであり、このワークセット円板71と、ボールネジ72と、このボールネジ72に螺合する昇降部材73と、ボールネジ72を回転させて昇降部材73を昇降させるネジ回動モータ74からなっている。本実施形態ではセンサー当接機構はワーク昇降機構の例で説明したが、センサー機構を昇降させる場合には、ワークセット円板を昇降させず、センサー機構を昇降させるようにしてもよい。
また、ワークセット円板71を回転させるための円板回転機構8が設けられており、この円板回転機構8はいずれも昇降部材73に取付けられた円板回転モータ81と、この円板回転モータ81により回転され、ワークセット円板71が取付けられた回転軸82と、この回転軸82を支持する軸受83からなっている。円板回転モータ81を回転させることにより、4枚のウェーハwが貼り付けられたプレートPを回転させ、選択されたウェーハwの上方にセンサー機構6を対向させることができる。
本実施形態ではプレートに4枚のウェーハを貼り付け、円板回転機構を設ける例で説明したが、プレートに1枚のウェーハを貼り付ける枚葉式の場合には、円板回転機構を設ける必要はない。
次に本発明に係るウェーハ厚さ測定装置を用いたウェーハの厚さ測定方法について説明する。
図2及び図9(a)に示すように、インデックステーブル3にマスターワークM及び前工程で研磨されたウェーハwが貼付されたプレートPを載置し、マスターワークMをセンサー部61の下方に位置させる。
次に図8に示すワーク昇降機構7を作動させて、ワークセット円板71とこのワークセット円板71に載置されたマスターワークMを上昇させて、図4及び図7に示すように、センサーヘッド611a、612aの先端t、t及び基準ピン613、614の先端t、tに静かに当接させる。全ての先端が同時に水平平板状のマスターワークMに当接することにより、先端t、tと先端t、tの高さに差がなくなり、中央センサー611、周辺センサー612の較正が行われる。
この較正終了後、再びワーク昇降機構7を作動させて、ワークセット円板71とマスターワークMを所定の位置に降下させ、図9(b)に示すように、テーブル回転機構4を作動させてインデックステーブル3を回転(回動)させ、ウェーハw〜wが貼り付けられた貼付け用プレートP1をセンサー部61の下方に位置させる。
このとき、図7に示すように、中央センサー611、周辺センサー612がウェーハwの水平直径線d上になるように、図4に示すセンサー部駆動シリンダ622を作動させて、モータ取付部材621を移動させ、さらに、プレート回動機構8を作動させてプレートP1を回動させる。
中央センサー611、周辺センサー612がウェーハwの水平直径線d上にある状態で、ワーク昇降機構7を作動させて、プレートP1を上昇させ、先端t、tを半導体ウェーハwに、先端t、tをプレートP1に当接させる。このとき、これらの先端の当接位置は図7に示すように、先端t、tは水平直径線d上に、先端t、tは、先端t、t近傍のプレートP1にある。
図7(b)に示すように、この当接により、先端t、tとt、tにウェーハwの高さだけ、高さの差hが生じ、この差がウェーハwとして中央センサー611、周辺センサー612に読み取られる。
このとき、ウェーハwは中央センサー611、周辺センサー612により、中心部と周辺部の3箇所が測定されるので、高精度にウェーハwの厚さを計測することができる。
ウェーハwの計測後、ワーク昇降機構7を作動させて、プレートP1をわずかに降下させ、プレート回動機構8を作動させてプレートP1を回動させ、ウェーハwを中央センサー611、周辺センサー612の下方に位置させ、ウェーハwと同様にして、その厚さを測定する。以下、同様にして、ウェーハw〜wの厚さを計測する。
プレートP1に貼り付けられたウェーハw〜wの厚さの測定が完了したら、テーブル回転機構4を回転させて、再びマスターワークMをセンサー部61の下方に位置させ、上記同様に再び中央センサー611、周辺センサー612の較正を行う。
さらに、テーブル回転機構4を作動させて、プレートP2をセンサー部61の下方に位置させ、同様にウェーハの厚さを測定し、さらに、同様にして、プレートP3、P4のウェーハの測定を行う。
上記ウェーハの厚さ測定過程において、センサー当接機構は、マスターワークM及びプレートPを昇降させる昇降機構7であり、センサー部61を昇降させる必要がないので、センサー611、612の精度を保つことができる。また、プレート回転機構を有するので、プレートPに複数のウェーハが貼り付けられていても、その測定が可能である。さらに、センサー逃げ機構63が設けられているので、センサー611、612への衝撃を吸収及び、センサー611、612を常に同一平面状態でマスターワークM、ウェーハwあるいはプレートPに当接させることができる。
また、大きさの異なるウェーハの厚さの測定する場合について説明する。
図10に示すように、図4及び図6に示すセンサー部移動機構62のセンサー部駆動シリンダ622を作動させて、モータ取付部材621、センサー逃げ機構63を介してセンサー距離調整機構64及びセンサー部61をインデックステーブル3の中心方向に移動させ、より大きな直径のウェーハw11の水平直径線d11を位置させる。しかる後、センサースライド用モータ650を作動させて、センサースライド板649、658をスライドさせ、先端tをウェーハw11の中心部、先端tを水平直径線d11上の周辺部、先端tが水平直径線d11上のプレートP上、先端tを先端t2の近傍のプレートP上に位置させる。
このように位置させた後、上述と同様の過程を経て、ウェーハw11の厚さを測定することができる。
また、より直径が小さいウェーハの厚さを測定する場合は、インデックステーブルの周辺(反中心)方向に移動させることにより、センサー部をウェーハの水平直径線上に位置させる。
上記実施形態のウェーハ厚さ測定装置によれば、高抵抗率のウェーハをプレートに張付けた状態で、高精度に測定できるウェーハ厚さ測定装置が実現される。
本発明に係るウェーハ厚さ測定装置の縦断面図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置の平面図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置の正面図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置のセンサー機構の一部を断面で示す側面図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置のセンサー機構の他の側面図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置のセンサー距離調整機構の平面図。 (a)本発明に係るウェーハ厚さ測定装置のセンサー及び基準ピン位置を示す概念図、(b)は同高さを示す概念図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置のワーク昇降機構及びプレート回動機構一部を断面で示す側面図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置を用いたウェーハの厚さ測定方法の説明図。 本発明に係るウェーハ厚さ測定装置のセンサー及び基準ピン位置を示す大直径ウェーハ測定時の概念図。
符号の説明
1 ウェーハ厚さ測定装置
2 装置基台
3 インデックステーブル
4 テーブル回転機構
5 センサー機構取付部材
6 センサー機構
61 センサー部
611 中央部厚み測定センサー
612 周辺部厚みセンサー
611a、612a センサーヘッド
613、614 基準ピン
62 センサー部移動機構
63 センサー逃げ機構
64 センサー距離調整機構
7 ワーク昇降機構
8 プレート回動機構
81 円板回転モータ
9 水受槽

Claims (6)

  1. 装置基台と、
    この装置基台に回転可能に設けられ、平板状のセンサー較正用マスターワーク及びウェーハ貼付け用プレートが載置されるインデックステーブルと、
    このインデックステーブルの上方に配設され、センサーヘッドを備えた厚み測定センサー及び基準ピンが設けられたセンサー部と、
    このセンサー部に前記マスターワーク及び前記プレートが対向するようにインデックステーブルを回転させる回転機構と、
    前記センサーヘッドの先端を前記マスターワークあるいは前記ウェーハに当接させ、基準ピンの先端を前記マスターワークあるいは前記プレートに当接させるセンサー当接機構を有し、
    前記センサーヘッドの先端及び基準ピンの先端を前記マスターワークに当てて前記厚み測定センサーの較正を行い、
    前記厚み測定センサーの先端を前記ウェーハに当接させるとともに、前記基準ピンの先端を前記プレートに当接させて、
    前記基準ピンの先端に対する前記厚み測定センサーの先端の後退量により、ウェーハの厚さを測定することを特徴とするウェーハ厚さ測定装置。
  2. 前記センサー当接機構は、前記マスターワーク及び前記プレートを昇降させる昇降機構であることを特徴とする請求項1に記載のウェーハ厚さ測定装置。
  3. 前記プレートを回転させるプレート回転機構を有することを特徴とする請求項1または2に記載のウェーハ厚さ測定装置。
  4. 前記厚み測定センサーは、ウェーハの中心部及び周辺部に対応する位置に2個以上設けられたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のウェーハ厚さ測定装置。
  5. 前記厚み測定センサーは、ウェーハの中心部に位置するセンサーと周辺部に位置するセンサーの離間距離の変更が可能であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のウェーハ厚さ測定装置。
  6. 前記センサー部は、厚み測定センサーへの衝撃を吸収するセンサー逃げ機構に取付けられることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のウェーハ厚さ測定装置。
JP2005102314A 2005-03-31 2005-03-31 ウェーハ厚さ測定装置 Pending JP2006284273A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005102314A JP2006284273A (ja) 2005-03-31 2005-03-31 ウェーハ厚さ測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005102314A JP2006284273A (ja) 2005-03-31 2005-03-31 ウェーハ厚さ測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006284273A true JP2006284273A (ja) 2006-10-19

Family

ID=37406365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005102314A Pending JP2006284273A (ja) 2005-03-31 2005-03-31 ウェーハ厚さ測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006284273A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102141698A (zh) * 2011-03-04 2011-08-03 深圳市华星光电技术有限公司 膜厚量测装置及其校正方法
JP2012145439A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Sumco Corp 基板厚み測定装置及び基板厚み測定方法
US20120222464A1 (en) * 2011-03-04 2012-09-06 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd Film-thickness measuring device and calibration method thereof
CN116608803A (zh) * 2023-04-14 2023-08-18 南京泰普森自动化设备有限公司 测量组件及测量装置
KR102580520B1 (ko) * 2023-05-10 2023-09-21 주식회사 라이쏠 고무패킹 폭 검사 장치

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012145439A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Sumco Corp 基板厚み測定装置及び基板厚み測定方法
CN102141698A (zh) * 2011-03-04 2011-08-03 深圳市华星光电技术有限公司 膜厚量测装置及其校正方法
CN102141698B (zh) * 2011-03-04 2012-07-11 深圳市华星光电技术有限公司 膜厚量测装置及其校正方法
US20120222464A1 (en) * 2011-03-04 2012-09-06 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd Film-thickness measuring device and calibration method thereof
WO2012119328A1 (zh) * 2011-03-04 2012-09-13 深圳市华星光电技术有限公司 膜厚量测装置及其校正方法
CN116608803A (zh) * 2023-04-14 2023-08-18 南京泰普森自动化设备有限公司 测量组件及测量装置
KR102580520B1 (ko) * 2023-05-10 2023-09-21 주식회사 라이쏠 고무패킹 폭 검사 장치
KR102606773B1 (ko) * 2023-05-10 2023-11-29 주식회사 라이쏠 고무패킹 폭 신속 검사 장치
KR102606315B1 (ko) * 2023-05-10 2023-11-29 주식회사 라이쏠 다수개의 고무패킹 폭 순차 검사 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4163950B2 (ja) セルフティーチングロボット
US11371829B2 (en) Wafer carrier thickness measuring device
CN101464474B (zh) 一种可旋转探针卡的半导体测量探针台
JP2009516195A (ja) 測定ヘッドのための調節デバイス
TWI416144B (zh) The method and device for detecting the touch point of the substrate line with the probe
WO2008067561A2 (en) Interior contour measurement probe
KR101374529B1 (ko) 프로브 장치 및 프로브 장치의 프로브 카드 장착 방법
JP2006284273A (ja) ウェーハ厚さ測定装置
KR200448699Y1 (ko) 대형 샤프트 굽힘 측정장치
CN206931569U (zh) 晶圆测试台
CN116805572A (zh) 减薄方法
JP2012190918A (ja) 表面粗さ測定装置
CN206930687U (zh) 用于晶圆测试的探针测试校正装置
CN109959350B (zh) 棱镜直角工作面垂直度的检测方法及装置
TWM569492U (zh) Measuring device for detecting roughness and deformation of a wafer patch ring
CN205037858U (zh) 一种同轴度检测装置
WO2008068567A2 (en) Integrated circuit probe card analyzer
CN116013799A (zh) 一种晶圆测试装置
JPH0658201B2 (ja) ディスク内径検査方法及びその装置
JP6984969B2 (ja) 高さ測定用冶具
CN107895699B (zh) 一种花篮检测装置以及电池片生产系统
JP2010129704A (ja) 基板処理装置のロール間隙調整方法
CN104280010A (zh) 晶片表面平整度测量装置
CN220304520U (zh) 核电站密封环测量装置及系统
CN215413481U (zh) 一种轴类工件全跳动检具

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070711